一种光学预型体清洗托盘制造技术

一种光学预型体清洗托盘，包括托盘本体，所述托盘本体上开设有定位槽，预型体放置在所述定位槽内，所述定位槽的中间部位槽壁为锥形斜面，同时所述锥形斜面垫设在所述预型体的边缘位置；本方案设计的一种光学预型体清洗托盘，将原材料预型体放置在托盘的定位槽内，通过定位槽槽壁锥形斜面的设计，使预型体最大程度地与定位槽的槽底以及槽壁之间不接触，从而避免材料受到污染而影响产品质量。避免材料受到污染而影响产品质量。避免材料受到污染而影响产品质量。

【技术实现步骤摘要】
一种光学预型体清洗托盘


[0001]本技术属于光学预型体清洗设备
，具体涉及一种光学预型体清洗托盘。

技术介绍

[0002]采用模造技术制造非球面玻璃透镜工艺中，一般使用预型体作为原材料。预型体在加工过程中存在研磨粉残留、异物污染等品质异常，在包装、运输环节存在二次污染等品质异常。为保证模压后非球面玻璃透镜的品质，原材料在模造前需超声波清洗，以保证原材料的洁净度；传统的预型体超洗工艺，采用人工一枚一枚夹取的方法，效率低、人工夹取易碰到原材料有效径内的表面，导致品质低下,同时常规的治具放入预型体后，预型体与治具板表面接触很容易造成原材料污染。
[0003]因此，有必要设计一种光学预型体清洗托盘来解决上述技术问题。

技术实现思路

[0004]为克服上述现有技术中的不足，本技术目的在于提供一种光学预型体清洗托盘。
[0005]为实现上述目的及其他相关目的，本技术提供的技术方案是：一种光学预型体清洗托盘，包括托盘本体，所述托盘本体上开设有定位槽，预型体放置在所述定位槽内，所述定位槽的中间部位槽壁为锥形斜面，同时所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学预型体清洗托盘，其特征在于：包括托盘本体，所述托盘本体上开设有定位槽，预型体放置在所述定位槽内，所述定位槽的中间部位槽壁为锥形斜面，同时所述锥形斜面垫设在所述预型体的边缘位置。2.根据权利要求1所述的一种光学预型体清洗托盘，其特征在于：所述定位槽的顶部和底部都为圆柱形，槽壁均为垂直面，同时所述预型体的正反两个圆弧面的厚度均小于所述定位槽顶部和顶部两个圆柱形槽体的高度...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭建，裴绪杨，
申请(专利权)人：苏州普锐仕精密光学科技有限公司，
类型：新型
国别省市：