一种透射电镜样品的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种透射电镜样品的制备方法，该方法包括：固定样品至样品台的载网上；沿旋转轴旋转样品台，旋转轴的延伸方向与样品的待减薄表面的法线方向平行；在样品台的旋转过程中，沿切割方向切割样品，切割方向与待减薄表面所在平面平行。本发明专利技术实施例提供的技术方案，在对样品的切割过程中，切割方向始终与待减薄表面所在平面平行，通过改变样品台的旋转角度，能够使切割光束直接以一定角度切割难切割成分后面的部分区域，减少拉痕的出现，使待减薄表面的切割厚度更加均匀，进一步使得制备的透射电镜样品的厚度比较均匀，提升制样成功率；并且由于制备的透射电镜样品厚度比较均匀，也能为后续观察分析提供便利。也能为后续观察分析提供便利。也能为后续观察分析提供便利。

【技术实现步骤摘要】
一种透射电镜样品的制备方法


[0001]本专利技术涉及半导体制造及分析领域，尤其涉及一种透射电镜样品的制备方法。

技术介绍

[0002]目前随着半导体的技术飞速发展，芯片研发和失效分析需求量日益剧增，针对小制程芯片或失效点较小的芯片，通常会对样品进行切割，以减薄样品至较小厚度，即将样品制成能够用透射电子显微镜(Transmission Electron Microscope，TEM)观察的微小结构，从而对样品失效点进行分析。
[0003]现有的切割方法中，由于需要制备的样品表面的成份不同，导致对于不同成分的切割速度不一致，切割的效果也就不同，若较难切割的成分在前，较易切割的成分在后，则很容易产生拉痕，即产生窗帘效应。

技术实现思路

[0004]针对上述问题，本专利技术实施例提供了一种透射电镜样品的制备方法，以减少切割过程可能出现的拉痕，提升制样成功率。
[0005]本专利技术实施例提供的一种透射电镜样品的制备方法，包括：
[0006]固定样品至样品台的载网上；
[0007]沿旋转轴旋转所述样品台，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种透射电镜样品的制备方法，其特征在于，包括：固定样品至样品台的载网上；沿旋转轴旋转所述样品台，所述旋转轴的延伸方向与所述样品的待减薄表面的法线方向平行；在所述样品台的旋转过程中，沿切割方向切割所述样品，所述切割方向与所述待减薄表面所在平面平行。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述固定样品至样品台的载网上，包括：固定样品至样品台的载网上，使所述切割方向与所述样品的待减薄表面所在平面平行。3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述沿旋转轴旋转所述样品台包括：在预设角度范围内沿旋转轴旋转所述样品台；所述预设角度范围包括23
°
～53
°
。4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，在所述样品台的旋转过程中，沿切割方向切割所述样品，包括：当所述样品台旋转至第一预设角度时，沿所述切割方向切割所述样品；当所述样品台旋转至第二预设角度时，沿所述切割方向切割所述样品，其中，所述第一预设角度和第二预设角度位于所述预设角度范围内，且以所述预设角度范围的中线为轴，所述第一预设角度与所述第二预设角度对称。5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述样品台的旋转过程中，沿切割方向切割所述样品，包括：采用离子束切割工艺，沿所述切割方向对所述样品的待减薄表面进行切割。6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述样品台的旋转过程中，沿切割方向切割所述样品，包括：采用电子束成...

【专利技术属性】
技术研发人员：高强，郑朝晖，
申请(专利权)人：上海季丰电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：