一种改善滚轮带液刻蚀过刻的方法技术

本发明专利技术公开了一种改善滚轮带液刻蚀过刻的方法，涉及硅片刻蚀领域，包括加装平板、安装感应器、调节涂液组件、感应器报警和硅片刻蚀，且具体实施步骤如下：步骤一：加装平板，在滚轮带液刻蚀设备的滚轮下加装一个平板，同时使滚轮的外表面和背部均与限位组件相接触。本发明专利技术通过设置有涂液组件，当将硅片放置于滚轮上后，使用者通过移动涂液海绵，涂液海绵移动会带动滑块在滑槽内部滑动，当涂液海绵与硅片的两侧相接触后，使用者将固定螺栓旋入至螺栓孔内部，以对滑块进行固定，防止滑块随意带动涂液海绵移动，而涂液海绵吸附溶液后，由于硅片移动时涂液海绵会将溶液涂至硅片的两侧，防止硅片两侧未被溶液刻蚀便被取走。硅片两侧未被溶液刻蚀便被取走。硅片两侧未被溶液刻蚀便被取走。

【技术实现步骤摘要】
一种改善滚轮带液刻蚀过刻的方法


[0001]本专利技术涉及硅片刻蚀领域，具体为一种改善滚轮带液刻蚀过刻的方法。

技术介绍

[0002]目前采用的湿法刻蚀技术主要为“水上漂”和滚轮带液两种，“水上漂”技术中需使用硫酸，以达到使硅片漂在液面的浮力，但硫酸污染较大，现正在逐步减少其使用量；滚轮带液技术中硅片不直接接触溶液，而是螺纹滚轮的一部分淹没在溶液中，利用滚轮转动时带起的液对硅片的侧边和背面进行刻蚀，此技术对滚轮的水平型要求较高，生产时在硅片上表面铺上水膜，避免上表面被刻蚀。
[0003]现有的改善滚轮带液刻蚀过刻的方法，由于硅片在移动过程中螺纹滚轮只能对硅片底部进行涂液刻蚀，而硅片的侧边处难以与溶液接触并被刻蚀，继而降低了对硅片整体的刻蚀效果，导致硅片未被完全刻蚀便被输送出去；同时由于滚轮在转动过程中可能会左右移动，继而导致滚轮难以将溶液涂至硅片底部并对其刻蚀，继而降低了对硅片的刻蚀效率且影响对硅片的输送效果。

技术实现思路

[0004]基于此，本专利技术的目的是提供一种改善滚轮带液刻蚀过刻的方法，以解决硅片两侧难以和溶液接触并被刻蚀与滚轮易左右晃动进而会影响对硅片底部的刻蚀效果的技术问题。
[0005]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种改善滚轮带液刻蚀过刻的方法，包括加装平板、安装感应器、调节涂液组件、感应器报警和硅片刻蚀，且具体实施步骤如下：
[0006]步骤一：加装平板
[0007]在滚轮带液刻蚀设备的滚轮下加装一个平板，同时使滚轮的外表面和背部均与限位组件相接触；
[0008]步骤二：安装感应器
[0009]在安装槽内设置感应器，且感应器的顶部与滚轮相接触；
[0010]步骤三：调节涂液组件
[0011]将硅片放置于滚轮上，并通过硅片的尺寸大小调节涂液组件的位置，使涂液组件与硅片的两侧相接触；
[0012]步骤四：感应器报警
[0013]若滚轮未与平板贴合，则感应器发出报警信号；
[0014]步骤五：硅片刻蚀
[0015]通过转动滚轮，以利用滚轮转动时带起的液来对硅片的背面进行刻蚀，且滚轮转动时会带动硅片移动，而涂液组件可对硅片的两侧进行刻蚀。
[0016]通过采用上述技术方案，便于对硅片的底部与两侧进行刻蚀，进而提高了对硅片的刻蚀效率。
[0017]进一步的，在步骤一中，限位组件包括有开设于平板顶部两侧的多个凹槽，多个所述凹槽的内部均安装有弹簧，所述弹簧的顶端连接有活动块，所述活动块的顶部固定有延伸至凹槽外部的限位柱。
[0018]通过采用上述技术方案，限位柱可对滚轮进行限位，防止滚轮左右移动，继而提高了滚轮的稳定性。
[0019]进一步的，在步骤三中，所述涂液组件包括有开设于平板顶部的多个滑槽，所述滑槽的内部设置有滑块，所述滑块的顶部固定有涂液海绵，所述滑槽的内部下方开设有多个螺栓孔，所述滑块的顶部安装有延伸至一个螺栓孔内部的固定螺栓。
[0020]通过采用上述技术方案，涂液海绵可对硅片的两侧进行刻蚀，避免硅片的两侧没有被有效刻蚀。
[0021]进一步的，所述限位柱通过活动块与凹槽滑动连接，所述限位柱与滚轮相接触。
[0022]通过采用上述技术方案，可使限位柱上下移动，限位柱移动时会带动活动块移动，继而会使活动块挤压或拉伸弹簧。
[0023]进一步的，所述涂液海绵的一侧与硅片相接触，所述涂液海绵通过滑块与滑槽滑动连接。
[0024]通过采用上述技术方案，涂液海绵可将溶液涂刷至硅片的两侧，继而可对硅片的两侧进行涂刷。
[0025]进一步的，在步骤三中，每根所述滚轮下感应器的数目与一排同时前进的硅片的数目相同，且感应器的位置为硅片经过对应下方的中间位置。
[0026]通过采用上述技术方案，感应器可感应滚轮是否与平板相贴合，继而便于调整滚轮。
[0027]进一步的，所述平板开孔率范围5％
‑
25％，所述平板的内部贯穿有多个通孔，且多个所述通孔间的间距相同。
[0028]通过采用上述技术方案，液体通过通孔流动，进行平板上下溶液的交换、混合，且避免由于溶液交换、混合不均所引起的各项异常。
[0029]进一步的，在步骤一中，所述滚轮的外壁设置有螺纹，所述滚轮的一部分淹没在溶液中。
[0030]通过采用上述技术方案，便于输送硅片，同时滚轮转动时可将溶液涂至硅片的底部，以便对硅片的底部进行刻蚀。
[0031]进一步的，在步骤一中，所述滚轮的底部与平板相贴合，所述滚轮与安装槽相互垂直设置。
[0032]通过采用上述技术方案，以便检测滚轮是否与平板贴合，若滚轮未与平板贴合，感应器则可发出报警信号，同时避免由于滚轮不平造成的过刻，减少由于刻蚀过程中过刻造成效率降低情况，以及过刻造成的外观不良情况。
[0033]综上所述，本专利技术主要具有以下有益效果：
[0034]1、本专利技术通过设置有涂液组件，当将硅片放置于滚轮上后，使用者通过移动涂液海绵，涂液海绵移动会带动滑块在滑槽内部滑动，当涂液海绵与硅片的两侧相接触后，使用者将固定螺栓旋入至螺栓孔内部，以对滑块进行固定，防止滑块随意带动涂液海绵移动，而涂液海绵吸附溶液后，由于硅片移动时涂液海绵会将溶液涂至硅片的两侧，防止硅片两侧
未被溶液刻蚀便被取走，继而提高了对硅片两侧的刻蚀效率；
[0035]2、本专利技术通过设置有限位组件，限位柱可对滚轮进行限位，防止滚轮左右移动，继而提高了滚轮的稳定性，使得滚轮只能转动，以便滚轮输送硅片并将溶液涂至硅片上，继而提高了滚轮对硅片的涂液效率，同时限位柱上下移动时，限位柱会带动活动块移动，继而会使活动块挤压或拉伸弹簧，以便限位柱移入至凹槽内或从凹槽内移出。
附图说明
[0036]图1为本专利技术的整体立体结构示意图；
[0037]图2为本专利技术的平板俯视局部结构示意图；
[0038]图3为本专利技术的平板侧剖局部结构示意图；
[0039]图4为本专利技术的图3中A处的放大图。
[0040]图中：1、平板；2、滚轮；3、通孔；4、安装槽；5、感应器；6、硅片；7、涂液组件；701、滑槽；702、螺栓孔；703、滑块；704、固定螺栓；705、涂液海绵；8、限位组件；801、限位柱；802、活动块；803、凹槽；804、弹簧。
具体实施方式
[0041]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。
[0042]下面根据本专利技术的整体结构，对其实施例进行说明。
[0043]一种改善滚轮带液刻蚀过刻的方法，如图1、图2、图3和图4所示，包括加装平板1、安装感应器5、调节涂液组件7、感应器5报警和硅片6刻蚀，且具体实施步骤如下：
[0044]步骤一：加装平板1
[0045]在滚轮带液刻蚀设备的滚轮2下加装一本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种改善滚轮带液刻蚀过刻的方法，其特征在于：包括加装平板(1)、安装感应器(5)、调节涂液组件(7)、感应器(5)报警和硅片(6)刻蚀，且具体实施步骤如下：步骤一：加装平板(1)在滚轮带液刻蚀设备的滚轮(2)下加装一个平板(1)，同时使滚轮(2)的外表面和背部均与限位组件(8)相接触；步骤二：安装感应器(5)在安装槽(4)内设置感应器(5)，且感应器(5)的顶部与滚轮(2)相接触；步骤三：调节涂液组件(7)将硅片(6)放置于滚轮(2)上，并通过硅片(6)的尺寸大小调节涂液组件(7)的位置，使涂液组件(7)与硅片(6)的两侧相接触；步骤四：感应器(5)报警若滚轮(2)未与平板(1)贴合，则感应器(5)发出报警信号；步骤五：硅片(6)刻蚀通过转动滚轮(2)，以利用滚轮(2)转动时带起的液来对硅片的背面进行刻蚀，且滚轮(2)转动时会带动硅片(6)移动，而涂液组件(7)可对硅片(6)的两侧进行刻蚀。2.根据权利要求1所述的一种改善滚轮带液刻蚀过刻的方法，其特征在于：在步骤一中，限位组件(8)包括有开设于平板(1)顶部两侧的多个凹槽(803)，多个所述凹槽(803)的内部均安装有弹簧(804)，所述弹簧(804)的顶端连接有活动块(802)，所述活动块(802)的顶部固定有延伸至凹槽(803)外部的限位柱(801)。3.根据权利要求1所述的一种改善滚轮带液刻蚀过刻的方法，其特征在于：在步骤三中，所述涂液组件(7)包括有开设于平板(1)顶部的多个滑槽(701)，所述滑槽(701)的内部设置有...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈天令，曹其伟，谢耀辉，曾玉婷，杨加俊，张鹏，
申请(专利权)人：江西中弘晶能科技有限公司，
类型：发明
国别省市：