一种用于PECVD炉口进气装置制造方法及图纸

技术编号:33406430 阅读:40 留言:0更新日期:2022-05-11 23:30
本实用新型专利技术涉及太阳能电池生产领域,特别是涉及太阳能电池镀膜领域。一种用于PECVD炉口进气装置,包括容器和散气环,容器上壳体和容器下壳体密封连接在一起构成容器,容器上壳体顶部有多个单一气体进气口,容器下壳体与容器上壳体连接的口部有内沿,内沿上安装有混气层,容器下壳体底部通过立柱安装混和气球,混和气球通过管道连接混合气出口;散气环的外壁有连接内外的带内螺纹的第一通孔,PECVD炉口部对应散气环的第一通孔处有第二通孔,第一通孔和第二通孔通过螺纹连接安装混合气进气装置,进气装置通过管道连接混合气出口。进气装置通过管道连接混合气出口。进气装置通过管道连接混合气出口。

【技术实现步骤摘要】
一种用于PECVD炉口进气装置


[0001]本技术涉及太阳能电池生产领域,特别是涉及太阳能电池镀膜领域。

技术介绍

[0002]PECVD技术是在低压下,利用低温等离子体在工艺腔体的阴极上(即样品放置的托盘)产生辉光放电,利用辉光放电(或另加发热体)使样品升温到预定的温度,然后通入适量的工艺气体,这些气体经一系列化学反应和等离子体反应,最终在样品表面形成固态薄膜。
[0003]在反应过程中,反应气体从进气口进入炉腔,逐渐扩散至样品表面,在射频源激发的电场作用下,反应气体分解成电子、离子和活性基团等。这些分解物发生化学反应,生成形成膜的初始成分和副反应物,这些生成物以化学键的形式吸附到样品表面,生成固态膜的晶核,晶核逐渐生长成岛状物,岛状物继续生长成连续的薄膜。在薄膜生长过程中,各种副产物从膜的表面逐渐脱离,在真空泵的作用下从出口排出。
[0004]PECVD设备主要由真空和压力控制系统、淀积系统、气体及流量控制、系统安全保护系统、计算机控制等部分组成。
[0005]真空和压力控制系统包括机械泵、分子泵、粗抽阀、前级阀、闸本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于PECVD炉口进气装置,其特征在于:包括容器和散气环(10),容器上壳体(1)和容器下壳体(2)密封连接在一起构成容器,容器上壳体(1)顶部有多个单一气体进气口(3),容器下壳体(2)与容器上壳体(1)连接的口部有内沿(4),内沿(4)上安装有混气层(5),容器下壳体(2)底部通过立柱安装混和气球(6),混和气球(6)通过管道连接混合气出口;散气环(10)为一个内部中空的圆环,散气环(10)安装在PECVD炉口部(11)内侧,散气环(10)内侧有多个小孔,散气环(10)的外壁有连接内外的带内螺纹的第一通孔,PECVD炉口部(11)对应散气环(10)的第一通孔处有第二通孔,第一通孔和第二通孔通过螺纹连接安装混合气进气装置(12),进气装置(12)通过管道连接混合气出口。2.根据权利要求1所述的一种用于PECVD炉口进气装置,其特征在于:混和气球(6)内部...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵科巍张云鹏鲁贵林吕爱武
申请(专利权)人:山西潞安太阳能科技有限责任公司
类型:新型
国别省市:

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