一种复合结构电磁屏蔽膜及其制作方法技术

本发明专利技术公开了一种复合结构电磁屏蔽膜的制作方法，该方法包括：提供一自支撑金属网栅；提供银纳米线；利用迈耶棒将所述银纳米线刮涂在所述自支撑金属网栅的两面，形成复合网栅；在空气中平放晾干后，将所述复合网栅放入烘箱中高温烘烤，得到复合结构电磁屏蔽膜。本发明专利技术还公开了一种复合结构电磁屏蔽膜，包括自支撑金属网栅、设置在所述自支撑金属网栅两侧表面的银纳米线。通过上述方法，有效地增强了复合结构电磁屏蔽膜柔性、适应范围，提升了复合结构电磁屏蔽膜的屏蔽效果。构电磁屏蔽膜的屏蔽效果。构电磁屏蔽膜的屏蔽效果。

【技术实现步骤摘要】
一种复合结构电磁屏蔽膜及其制作方法


[0001]本专利技术涉及电磁屏蔽
，特别是涉及一种复合结构电磁屏蔽膜及其制作方法。

技术介绍

[0002]近年来，随着电子工业的迅速发展，电子电器和通讯设备得到了广泛的应用，电磁波已经与人们的生活密切相关。电磁波的广泛应用在给人们生活带来日新月异变化的同时，也使得空间电磁环境日益复杂，造成电磁辐射污染。电磁波应用波段不断展宽，几乎已经覆盖了低频无线电波到高频γ射线的所有波段，同时，电磁波的强度也在不断增强，尤其是无线电波到微波的宽波段，为实现更远的传播与探测，卫星通讯，雷达等设备发射电磁波的功率越来越大。不必要的电磁干扰不仅对电子设备造成故障，威胁通信设备的信息安全，而且对人体健康产生有害影响，已成为现代社会的严重关注。在军事方面，电磁干扰会影响电台、雷达等通讯设备的正常运行，强电磁辐射甚至会损伤或摧毁各种敏感电子部件，外界电磁波会对内部设备造成干扰，与此同时，内部的机密信息电磁泄露也会造成严重的危害，防止信息泄露，保障信息安全已成为迫切需要解决的问题。
[0003]因此，诸多领域都提出了电磁本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种复合结构电磁屏蔽膜的制作方法，其特征在于，该方法包括：提供一自支撑金属网栅和银纳米线；利用迈耶棒将所述银纳米线刮涂在所述自支撑金属网栅的两面，形成复合网栅；将所述复合网栅高温烘烤，得到复合结构电磁屏蔽膜。2.如权利要求1所述的复合结构电磁屏蔽膜的制作方法，其特征在于，在所述提供一自支撑金属网栅的步骤中，包括制备所述自支撑金属网栅，制备所述自支撑金属网栅的具体步骤包括：提供一导电衬底；在所述导电衬底上涂布一层光刻胶，形成光刻胶层；曝光显影后，蚀刻掉部分光刻胶，在所述光刻胶层上形成底部裸露出所述导电衬底的网栅凹槽；采用电沉积的方式将导电材料沉积在所述网栅凹槽内，得到金属网栅模版；将所述金属网栅模版置于显影液中充分溶解剩余光刻胶，得到裸露在所述导电衬底上的金属网栅；将所述金属网栅与所述导电衬底分离，得到所述自支撑金属网栅。3.如权利要求1所述的复合结构电磁屏蔽膜的制作方法，其特征在于，在所述形成复合网栅的步骤中，刮涂的所述银纳米线均匀得涂覆在所述金属网栅上，且所述银纳米线与所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋周颖，刘艳花，陈林森，
申请(专利权)人：苏州大学，
类型：发明
国别省市：