【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制作方法、显示装置
[0001]本公开涉及显示
,尤其涉及一种显示基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
[0002]显示装置,例如AMOLED(Active-matrix organic light-emitting diode,有源矩阵有机发光二极管)显示装置,具有能够单独控制每个子像素进行显示,对比度高,色彩艳丽等优点。但是,现有的AMOLED显示装置的边框区域不具备可拉伸性能,这导致其难以应用在曲面显示产品中。
技术实现思路
[0003]本公开的目的在于提供一种显示基板及其制作方法、显示装置,用于实现可拉伸功能。
[0004]为了实现上述目的,本公开提供如下技术方案:
[0005]一方面,提供一种显示基板。所述显示基板具有显示区和与所述显示区邻接的非显示区。所述显示基板包括柔性衬底和至少一条信号线。所述柔性衬底包括至少一个可拉伸区域,所述可拉伸区域从所述显示区延伸至所述非显示区,所述可拉伸区域内设置有阵列排布的多个开孔。所述至少一条信号线设置于所述柔性衬底的第一侧、且位于所述非显示区,信号线在所述柔性衬底上的正投影与所述多个开孔中的每个开孔至少部分不交叠。
[0006]在一些实施例中,所述信号线在所述柔性衬底上的正投影与所述多个开孔中的每个开孔不交叠。
[0007]在一些实施例中,所述信号线上具有至少一个第一避让口,所述第一避让口的边缘在所述柔性衬底上的正投影围绕所述开孔设置。所述显示基板还包括:设置于所述柔性衬底第一侧的至少一个隔离柱,所述隔 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种显示基板,具有显示区和与所述显示区邻接的非显示区;所述显示基板包括:柔性衬底,所述柔性衬底包括至少一个可拉伸区域,所述可拉伸区域从所述显示区延伸至所述非显示区,所述可拉伸区域内设置有阵列排布的多个开孔;设置于所述柔性衬底的第一侧、且位于所述非显示区的至少一条信号线,信号线在所述柔性衬底上的正投影与所述多个开孔中的每个开孔至少部分不交叠。2.根据权利要求1所述的显示基板,其中,所述信号线在所述柔性衬底上的正投影与所述多个开孔中的每个开孔完全不交叠。3.根据权利要求1或2所述的显示基板,其中,所述信号线上具有至少一个第一避让口,所述第一避让口的边缘在所述柔性衬底上的正投影围绕所述开孔设置;所述显示基板还包括:设置于所述柔性衬底第一侧的至少一个隔离柱,所述隔离柱围绕所述开孔设置,且所述隔离柱至少覆盖暴露出该开孔的所述第一避让口的侧壁。4.根据权利要求3所述的显示基板,其中,所述隔离柱还覆盖所述信号线远离所述柔性衬底的表面中靠近所述第一避让口的部分表面。5.根据权利要求3所述的显示基板,其中,所述信号线包括依次远离所述柔性衬底的第一金属层和第二金属层;所述隔离柱包括依次远离所述柔性衬底的第一有机绝缘层和第二有机绝缘层;所述第一有机绝缘层覆盖所述第一金属层靠近所述开孔的侧面和所述第一金属层远离所述柔性衬底的部分表面;所述第二金属层与所述第一金属层电接触,且所述第二金属层覆盖所述第一有机绝缘层远离所述开孔的侧面和所述第一有机绝缘层远离所述柔性衬底的部分表面;所述第二有机绝缘层覆盖所述第二金属层靠近所述开孔的侧面和所述第二金属层远离所述柔性衬底的部分表面。6.根据权利要求5所述的显示基板,其中,所述隔离柱还包括:第一无机绝缘层,位于所述第一有机绝缘层、所述第一金属层、第二金属层和所述柔性衬底四者之间;第二无机绝缘层,所述第二无机绝缘层覆盖所述第二有机绝缘层远离所述柔性衬底的至少部分表面、所述第二有机绝缘层靠近所述开孔的侧面和所述第一有机绝缘层靠近所述开孔的侧面,并且所述第二无机绝缘层连接至所述第一无机绝缘层。7.根据权利要求3所述的显示基板,还包括依次设置于所述柔性衬底第一侧的发光功能层和阴极层;所述阴极层从所述显示区延伸至所述非显示区,且所述阴极层的边缘位于所述非显示区;所述发光功能层从所述显示区延伸至所述非显示区,且所述发光功能层在所述柔性衬底上的正投影位于所述阴极层在所述柔性衬底上的正投影范围之内;其中,所述阴极层覆盖的所述隔离柱上设置有隔断槽,所述隔断槽围绕所述开孔设置,所述隔断槽被配置为隔断所述阴极层或者同时隔断所述阴极层和所述发光功能层。8.根据权利要求7所述的显示基板,其中,在所述隔离柱包括第二有机绝缘层和第二无
机绝缘层的情况下,所述隔断槽穿过所述第二无机绝缘层和至少部分所述第二有机绝缘层。9.根据权利要求7所述的显示基板,其中,沿所述开孔的径向方向截断所述隔断槽后得到的横截面大致呈倒T型。10.根据权利要求7~9中任一项所述的显示基板,其中,所述信号线包括电压信号线,所述电压信号线围绕所述显示区设置;所述显示基板还包括:位于所述非显示区的阴极搭接层,包括彼此相连的第一部分和第二部分,所述第一部分与所述阴极层靠近所述柔性衬底的表面电连接,所述第二部分与所述电压信号线远离所述柔性衬底...
【专利技术属性】
技术研发人员:于洋,曹方旭,李文强,王品凡,王博,王景泉,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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