一种采用连续性声波调整单层纳米微球阵列有序排布的方法技术

本发明专利技术属于微纳米结构制备的技术领域，尤其涉及一种采用连续性声波调整单层纳米微球阵列有序排布的方法。包括以下步骤：S1.清洗基片，进行亲水性处理；S2.将纳米微球悬浊液通过气

【技术实现步骤摘要】
一种采用连续性声波调整单层纳米微球阵列有序排布的方法


[0001]本专利技术属于微纳米结构制备的
，具体涉及一种采用连续性声波调整单层纳米微球阵列有序排布的方法。

技术介绍

[0002]纳米球光刻(NSL)是一种简便、经济而有效的光刻技术，它利用高度单分散的纳米球作为沉积或刻蚀掩模，结合物理或化学方法沉积方法得到形貌、尺寸可控的纳米阵列。NSL技术是实验室中快速制备纳米表面的廉价方法，因为其高通量、低成本、并行工艺设计且适用于多种基材的特点，已经在多领域得到了广泛的应用。现在的NSL技术通常利用密排六方纳米至微米级的聚苯乙烯(PS)微球、二氧化硅(SiO2)乳胶球或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)微球单层膜作为模板。
[0003]如何制备高质量的单层微球阵列薄膜具有极大的挑战。传统制备单层微球薄膜的方法存在一些不足之处：1)单层微球膜上会出现因分子堆积而产生的多层微球分子团；2)单层微球薄膜会因制膜期间受到外界作用力干扰而使某些微球间产生不同的晶向，从而引发薄膜阵列产生层错裂缝；3)仅存在短程有序而没有长程有序的单层微球阵列薄膜；4)本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种采用连续性声波调整单层纳米微球阵列有序排布的方法，其特征在于，包括以下步骤：S1.清洗基片，进行亲水性处理；S2.将微球悬浊液通过气
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液界面的自组装初步形成单层膜阵列；S3.利用连续性声波调整步骤S2制备的单层膜阵列，使其呈现有序排布；S4.将步骤S3制备的有序排布的单层膜阵列转移到步骤S1处理好的基片上，蒸发样品残余水分。2.根据权利要求1所述的一种采用连续性声波调整单层纳米微球阵列有序排布的方法，其特征在于，步骤S1中所述基片为具有水稳定性的基底，包括硅片、石英片、玻璃片，所述清洗步骤为使用无水乙醇和去离子水超声水浴清洗，所述亲水化处理使用等离子清洗机清洗。3.根据权利要求1所述的一种采用连续性声波调整单层纳米微球阵列有序排布的方法，其特征在于，步骤S2中所述微球的直径为100nm
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10μm，包括聚苯乙烯微球、二氧化硅乳胶球和聚甲基丙烯酸甲酯微球。4.根据权利要求1所述的一种采用...

【专利技术属性】
技术研发人员：埃泽尔，
申请(专利权)人：肇庆市华师大光电产业研究院，
类型：发明
国别省市：