【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】共模扼流圈
[0001]本专利技术涉及一种共模扼流圈。共模扼流圈具有特别是能磁渗透的环形芯和线圈。共模扼流圈具有至少一个另外的线圈，其中，所述线圈和另外的线圈分别这样布置在环形芯的区域中，使得贯穿线圈的磁通可以检测环形芯。
技术介绍
[0002]共模扼流圈用于EMV 抗干扰（EMV = 电磁兼容性）。为此，共模扼流圈具有至少两个或仅两个线圈，所述线圈可以通过环形芯彼此磁性地相互作用。两个线圈中的线圈电流优选以彼此不同的方向传导，因而环形芯中的EMV干扰磁性地相互抵消。
技术实现思路
[0003]按照本专利技术，环形芯包括优选柱筒形的穿孔。线圈针对每个线圈线匝分别具有至少一个或仅一个电内导体、特别是母线，其中，内导体布置在穿孔中。布置在穿孔中的内导体共同形成了对应穿孔的形状、优选横截面形状并且因此共同填充穿孔。
[0004]共模扼流圈因此可以有利地构造得特别节省空间。当然可知，当穿孔的横截面可以被内导体完全通电时，可以有效提高共模扼流圈的阻抗。
[0005]在一种优选的实施方式中，内导体分别具有...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.共模扼流圈（1、19、35、40），其带有特别是能磁渗透的环形芯（2）和至少一个线圈（6、31、32、37）及另外的线圈（7、31、32、38），其中，线圈（6、31、32、37）和另外的线圈（7、31、32、38）分别这样布置在环形芯（2）的区域中，使得贯穿线圈（6、31、32、37、7、31、32、38）的磁通检测环形芯（2），其特征在于，环形芯（2）包围特别是柱筒形的穿孔（4）并且线圈（6、31、32、37、7、31、32、38）针对每个线圈线匝分别包括至少一个电内导体（6、31、32、37、7、31、32、38）、特别是母线，内导体布置在穿孔（4）中，其中，布置在穿孔（4）中的内导体特别是在横截面中共同形成了对应穿孔（4）的形状并且因此共同填充穿孔（4）。2.按照权利要求1所述的共模扼流圈（1、19、35），其特征在于，所述内导体（6、31、32、37、7、31、32、38）分别具有圆弧段形的横截面。3.按照权利要求1或2所述的共模扼流圈（1、19、35），其特征在于，所述线圈（21、22）分别具有线圈线匝并且所述内导体（6、7）为此分别在横截面中构造成半圆形。4.按照权利要求1或2所述的共模扼流圈（1、19、35），其特征在于，所述线圈（21、22）分别具有两个线圈线匝，其中，所述内导体（31、32、33、34）为此分别在横截面中构造成四分之一圆弧段形。5.按照前述权利要求中任一项所述的共模扼流圈（1、19、35），其特征在于，所述共模扼流圈（1、19、35）具有电绝缘构造的保持体（3），该保持体至少部...
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