聚合物、感光性树脂组合物、树脂膜和电子装置制造方法及图纸

技术编号:33343391 阅读:32 留言:0更新日期:2022-05-08 09:31
一种聚合物,其包含由以下的式(1)和(2a)表示的结构单元。式(1)中,R1、R2、R3和R4分别独立地为氢或碳原子数1~30的有机基团,n为0、1或2,式(2a)中,R5为碳原子数1~30的有机基团,R1、R2、R3、R4和R5中的至少一个为碳原子数1~30的含氟有机基团。的含氟有机基团。的含氟有机基团。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】聚合物、感光性树脂组合物、树脂膜和电子装置


[0001]本专利技术涉及一种聚合物、感光性树脂组合物、树脂膜和电子装置。更详细而言,本专利技术涉及一种聚合物、包含该聚合物的感光性树脂组合物、由该感光性树脂组合物的固化物构成的树脂膜和包括该树脂膜的电子装置。

技术介绍

[0002]在迄今为止的负型感光性树脂组合物的领域中,以随着图案的微细化的抗蚀剂图案高精度化为目的,开发出了各种技术。作为这种技术,例如可以举出专利文献1中所记载的技术。根据该文献,记载有一种含有[A]聚合物和[B]酸产生体的辐射敏感性树脂组合物。而且,记载有如下内容:通过[A]聚合物具有结构单元(I)和结构单元(II),表示线宽的偏离的大小的LWR(Line Width Roughness:线宽粗糙度)性能和缺陷抑制性优异(专利文献1的段落0012)。其中记载有结构单元(I)是源自N

(叔丁氧基羰基甲基)马来酰亚胺、N

(1

甲基
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环戊氧基羰基甲基)马来酰亚胺或N
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种聚合物,其特征在于:包含由以下的式(1)和(2a)表示的结构单元,式(1)中,R1、R2、R3和R4分别独立地为氢或碳原子数1~30的有机基团,n为0、1或2,式(2a)中,R5为碳原子数1~30的有机基团,R1、R2、R3、R4和R5中的至少一个为碳原子数1~30的含氟有机基团。2.根据权利要求1所述的聚合物,其特征在于:所述碳原子数1~30的含氟有机基团为碳原子数1~30的氟烷基或具有醚性氧原子的碳原子数1~30的氟烷基。3.根据权利要求1或2所述的聚合物,其特征在于:所述R1、R2、R3和R4中的至少一个为碳原子数1~30的含氟有机基团。4.根据权利要求3所述的聚合物,其特征在于:所述R1、R2、R3和R4中的至少一个为碳原子数1~30的氟烷基。5.根据权利要求4所述的聚合物,其特征在于:所述碳原子数1~30的氟烷基为全氟烷基。6.根据权利要求1至5中任一项所述的聚合物,其特征在于:所述聚合物还包含由式(B2)~(B6)表示的结构单元中的至少一个,式(B2)中,R6和R7分别独立地为碳原子数1~30的有机基团,
式(B6)中,R8为碳原子数1~30的有机基团。7.根据权利要求1至6中任一项所述的聚合物,其特征在于:所述聚合物的重均分子量为1500以上30000以下。8.一种感光性树脂组合物,其特征在于,含有:包含由以下的式(1)和(2a)表示的结构单元的聚合物;交联剂;和光敏剂,
式(1)中,R1、R...

【专利技术属性】
技术研发人员:池田阳雄
申请(专利权)人:住友电木株式会社
类型:发明
国别省市:

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