热反射构件及带有热反射层的玻璃构件的制造方法技术

本发明专利技术提供维持高反射率并且在制作时及使用时的高温环境下不破损，在使用时不产生尘埃，可进行基于药液的洗净的热反射构件；及适于作为该热反射构件的带有热反射层的玻璃构件的制造方法。是具有在二氧化硅质烧结粉体层的上表面及下表面形成石英玻璃层而成的层叠结构的热反射构件，在所述热反射构件的端部的所述二氧化硅质烧结粉体层部分，具有至少比该二氧化硅质烧结粉体层的1/2的厚度厚且不浸透气体或液体的非透射层、和在该非透射层与该二氧化硅质烧结粉体层之间，从非透射层朝向烧结体粉体层密度发生变化的缓冲层。体粉体层密度发生变化的缓冲层。体粉体层密度发生变化的缓冲层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】热反射构件及带有热反射层的玻璃构件的制造方法


[0001]本专利技术涉及具有高反射率的热反射构件及带有热反射层的玻璃构件的制造方法。

技术介绍

[0002]在需要电炉等的高温气氛时，为了不使内部的热向外部逃逸，一般而言，例如以氧化铝绝热材等的绝热元件对加热气氛进行被覆。就此，对于在半导体工业使用的热处理炉而言也同样。这样的绝热材通过本身也吸收热，有助于高温气氛和其中的被处理物的保温、均热性。为此，在电炉的温度控制中，绝热材的保温性，使得电炉内的需处理的制品的温度控制响应性变迟钝。尤其是，半导体工业的热处理工序为了提升生产量，需要热不从内部逃逸，且热吸收少(热容量小)的绝热单元。
[0003]以往，为了处理这样的对策，将具有大量的微细气泡的不透明石英玻璃的板或圆筒环等作为隔热单元使用，为了达到有效的隔热，需例如在炉入口，将圆盘状的该不透明石英玻璃板排列数片进行配置，结果使得热容量变大。为此，尤其需要遮蔽来自炉的内部的热射线，且高效地进行反射，热容量小(体积小)绝热单元。
[0004]为此，考虑例如在石英玻璃板进行金涂覆，或利用专利文献1那样的涂布有二氧化硅浆料的反射层。但是，例如金等的金属系的反射元件虽然性能高，但是尤其是在半导体工业等的尽量避免金属杂质的用途中难以被使用。
[0005]另外，利用二氧化硅浆料等的方法为了得到高反射性，需要二氧化硅粒子彼此部分熔接成块的粒块结构，但该结构由于粒子相互的接触面积有限，因此强度不稳定，有经基于水分或药液的洗净而溶解、或剥离的问题，或是由于多孔质的原因，有附着污垢时难以除去的问题，在要求高纯度的半导体工业用途中难以被使用。
[0006]为了解决这些问题进行了许多努力。例如，在专利文献1中，尝试在来源于浆料的粉体的烧结体层的表面形成透明的二氧化硅层。这些方法中，为了形成透明的二氧化硅层，需至少施加为了熔融或生成二氧化硅的热，此时会有加热控制的难度的问题：作为反射层的粒块层的粒子彼此被熔接，造成反射性能下降；发生透明层形成时的体积的变化、或透明层与粒块层的膨胀收缩的差异所造成的应变，以至于产生裂纹等或破损。
[0007]现有技术文献
[0008]专利文献
[0009]专利文献1：日本特开2013
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035723号公报

技术实现思路

[0010]专利技术所要解决的课题
[0011]本专利技术的目的在于，提供维持高反射率并且在制作时及使用时的高温环境下不破损，在使用时不产生尘埃，可进行基于药液的洗净的热反射构件、及适于作为该热反射构件的带有热反射层的玻璃构件的制造方法。
[0012]用于解决课题的手段
[0013]为解决上述课题，本专利技术的反射构件是具有在二氧化硅质烧结粉体层的上表面及下表面形成石英玻璃层而成的层叠结构的热反射构件，其特征在于，在上述热反射构件的端部的上述二氧化硅质烧结粉体层部分，具有至少比该二氧化硅质烧结粉体层的1/2的厚度厚且不浸透气体或液体的非透射层；和在该非透射层与该二氧化硅质烧结粉体层之间，从非透射层朝向烧结粉体层密度改变的缓冲层。
[0014]上述反射构件可以成为如下的结构：包含多个上述二氧化硅质烧结粉体层，上述二氧化硅质烧结粉体层及上述石英玻璃层是交互层叠而成的，在多个的上述二氧化硅质烧结粉体层的端部分别形成上述缓冲层和上述非透射层，上述二氧化硅质烧结粉体层未露出于外部。
[0015]可以是多个上述二氧化硅质烧结粉体层分别由相互不同的粒径分布的粉体所构成。
[0016]上述石英玻璃层的形状是以平面、曲面或圆筒形状为宜。
[0017]本专利技术的带有热反射层的玻璃构件的制作方法的第一方式的特征在于，包括以下工序：制造具有在二氧化硅质烧结粉体层的上表面及下表面形成石英玻璃层而成的层叠结构的中间玻璃层叠体的工序；和在用激光将上述中间玻璃层叠体切割成规定的形状的同时，在切割端部的烧结粉体层，同时生成非透射层与缓冲层，制造带有热反射层的玻璃构件的工序。
[0018]本专利技术的带有热反射层的玻璃构件的制作方法的第二方式的特征在于，包括以下工序：制造具有在二氧化硅质烧结粉体层的上表面及下表面形成石英玻璃层而成的层叠结构的中间玻璃层叠体的工序；沿着将上述中间玻璃层叠体切割成规定的形状的部位，利用不切断程度的功率的激光或燃烧器火焰，从外表面的石英玻璃层侧加热并烧固上述烧结粉体层，由此形成由缓冲层形成或由缓冲层与非透射层形成烧固部位的工序；和进一步用激光切割上述烧固部位的形成位置，由此形成更牢固的由缓冲层与非透射层形成端部结构，制造带有热反射层的玻璃构件的工序。
[0019]专利技术效果
[0020]根据本专利技术，可提供维持高反射率并且在制作时及使用时的高温环境下不破损，在使用时不产生尘埃，可进行基于药液的洗净的热反射构件、及适于作为该热反射构件的带有热反射层的玻璃构件的制造方法。
[0021]另外，根据本专利技术的方法，可容易地实现对如下的中间玻璃层叠体进行激光加工，从而一边形成缓冲层与非透射层一边完全封闭，并且同时进行形状加工，其中，所述中间玻璃层叠体具有将遮蔽热射线且高效反射、热容量小(体积小)、绝热(隔热)优异的二氧化硅质烧结粉体层用石英玻璃层夹入的结构。
[0022]本专利技术可制作如下的带有热反射层的玻璃构件，所述带有热反射层的玻璃构件具有高反射性能，也可形成多个层，因此可期待宽广或选择性波长下的反射率的提升，由于耐久力提升，在高温下使用时也不会破损，不产生来源于烧结粉体本身或被俘获于粉体的物质的尘埃，可进行HF洗净等的药液洗净，可使用于高纯度用途。
[0023]另外，根据本专利技术，在石英玻璃层中容易地夹入热反射层的结构可在多个层的情况下实现；可容易地实现利用激光加工，一边形成缓冲层与非透射层一边完全封闭，并且同时进行形状加工；可对于反射层面(二氧化硅质烧结粉体层)，将粒子间或与石英玻璃层的
熔接抑制在最小程度下，不使反射性能劣化地进行制作；可制作将这样的反射层具有多个层的热反射构件。
附图说明
[0024]图1是示出本专利技术的热反射构件的第一方式的示意模式图，(a)是局部剖面示意模式图，(b)是(a)的A部分的扩大图。
[0025]图2是示出本专利技术的热反射构件的第二方式的示意模式图，(a)是局部剖面示意模式图，(b)是(a)的B部分的扩大图。
[0026]图3是示出本专利技术的热反射构件的第三方式的示意模式图，(a)是局部剖面示意模式图，(b)是(a)的C部分的扩大图。
[0027]图4是示出本专利技术的热反射构件的使用方法的一例的示意说明图，(a)示出侧面图，(b)示出立体图、(c)示出(b)的D部分的扩大图。
[0028]图5是示出使用于本专利技术的带有热反射层的玻璃构件的制作方法的中间玻璃层叠体的制造方法一例的示意模式图。
[0029]图6是示出实施例1的厚度测定点的俯视图。
[0030]图7是示出实施例1的结果的图，(a)示出实施例1所得的热反射构件的外周部的剖面照片，(b本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种热反射构件，其特征在于，是具有在二氧化硅质烧结粉体层的上表面及下表面形成石英玻璃层而成的层叠结构的热反射构件，在所述热反射构件的端部的所述二氧化硅质烧结粉体层部分，具有至少比该二氧化硅质烧结粉体层的1/2的厚度厚且不浸透气体或液体的非透射层；和在该非透射层与该二氧化硅质烧结粉体层之间，从非透射层朝向烧结体粉体层密度发生变化的缓冲层。2.如权利要求1所述的热反射构件，其特征在于，包含多个所述二氧化硅质烧结粉体层，交互层叠所述二氧化硅质烧结粉体层及所述石英玻璃层而成，是在所述多个二氧化硅质烧结粉体层的端部，分别形成所述缓冲层与所述非透射层，所述二氧化硅质烧结粉体层未露出于外部的结构。3.如权利要求2所述的热反射构件，其特征在于，所述多个二氧化硅质烧结粉体层分别由相互不同的粒径分布的粉体所构成。4.如权利要求1～3中任一项所述的热反射构件，其特征在于，所述石英玻璃层的形状为平面、曲面或圆筒形状。5.一种带有热反射层的玻...

【专利技术属性】
技术研发人员：山口和宏，藤田大辉，原田义弘，濑川彻，渡边智则，
申请(专利权)人：株式会社山形信越石英，
类型：发明
国别省市：