本实用新型专利技术涉及酸洗设备技术领域，具体为一种硅片生产用具有调节结构的酸洗装置，包括工作架、废液池、酸洗架和调控架，所述调控架的一侧开设有滑动槽，所述滑动槽的内部活动连接有活动杆，所述活动杆的一端固定连接有第一连接块，所述第一连接块的表面开设有卡槽。通过设置的酸洗板、活动杆和振动机可以实现对半导体单晶硅片进行更加快速高效的酸洗操作，在使用时工作人员首先将配置好的稀硝酸溶液倒入至酸洗架内，然后再将需要进行酸洗操作的半导体单晶硅片均匀的摆放在酸洗板之上，此时工作人员可以通过活动杆带动整体酸洗板向下滑动，使得半导体单晶硅片进入酸洗架内的稀硝酸溶液进行酸洗操作。液进行酸洗操作。液进行酸洗操作。
【技术实现步骤摘要】
一种硅片生产用具有调节结构的酸洗装置
[0001]本技术涉及酸洗设备设备
，具体为一种硅片生产用具有调节结构的酸洗装置。
技术介绍
[0002]酸洗是利用酸溶液去除物体表面上的氧化皮和锈蚀物的方法称为酸洗，是清洁物体表面的一种方法，通常与预膜一起进行，一般将制件浸入硫酸等的水溶液，以除去物体表面的氧化物等薄膜，是电镀、搪瓷、轧制和半导体单晶硅片生产等工艺的前处理或中间处理。
[0003]半导体单晶硅片在生产过程中，需要使用到稀硝酸等溶液，对半导体单晶硅片进行表面的快速酸洗操作，从而达到去除表面杂质及提炼时可能产生的四氯化硅，但现有的半导体单晶硅片多只能采用人工手动浸泡式的酸洗方式，不仅会出现酸洗的效率较慢，同时容易会出现对酸洗的半导体单晶硅片，难快速把控酸洗进程的现象，影响到后期半导体单晶硅片生产的品质，同时酸洗后的稀硝酸废液无法难以进行快速有效的处理工作，不利于日常的使用。
技术实现思路
[0004]本技术的目的在于提供一种硅片生产用具有调节结构的酸洗装置，以解决上述
技术介绍
中提出现有的半导体单晶硅片多只能采用人工手动浸泡式的酸洗方式，不仅会出现酸洗的效率较慢，同时容易会出现对酸洗的半导体单晶硅片，难快速把控酸洗进程的现象，影响到后期半导体单晶硅片生产的品质，同时酸洗后的稀硝酸废液无法难以进行快速有效的处理工作，不利于日常的使用的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案，一种硅片生产用具有调节结构的酸洗装置，包括工作架，所述工作架的上表面从左至右依次固定连接有废液池和酸洗架，所述酸洗架的上表面固定连接有调控架，所述调控架的一侧开设有滑动槽，所述滑动槽的内部活动连接有活动杆，所述活动杆的一端固定连接有第一连接块，所述第一连接块的表面开设有卡槽，所述活动杆的表面固定连接有酸洗板，所述酸洗板的表面设置有进水口，所述调控架的一侧固定连接有第二连接块，所述第二连接块的内部活动连接有卡块。
[0006]优选的，所述活动杆的一端固定连接有T型滑动块，所述调控架的内壁设置有滑槽。
[0007]优选的，所述酸洗架的一侧开设有排水槽，所述酸洗架的一端开设有抽槽。
[0008]优选的，所述抽槽的内部活动连接有密封板，所述密封板的一侧表面固定连接有密封胶圈。
[0009]优选的，所述废液池的一端设置有过滤筛网，所述酸洗架的内壁设置有振动机。
[0010]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0011](1)在本技术中，通过设置的酸洗板、活动杆和振动机可以实现对半导体单晶
硅片进行更加快速高效的酸洗操作，在使用时工作人员首先将配置好的稀硝酸溶液倒入至酸洗架内，然后再将需要进行酸洗操作的半导体单晶硅片均匀的摆放在酸洗板之上，此时工作人员可以通过活动杆带动整体酸洗板向下滑动，使得半导体单晶硅片进入酸洗架内的稀硝酸溶液进行酸洗操作，酸洗架内的振动机启动后可以进行对溶液的震荡，使得稀硝酸溶液可以更加高效的将对半导体单晶硅片表面杂质及提炼时产生的四氯化硅进行溶解去除，清洗完成后将活动杆提起，将卡块插入卡槽，将整体固定，等待残留的稀硝酸留下即可，可大大提高了对半导体单晶硅片酸洗的效率，使得把握酸洗的进行，也可以进一步提高酸洗的质量，体现了设备设计的实用性。
[0012](2)在本技术中，通过设置的废液池和过滤筛网可以对酸洗后的稀硝酸废液进行快速的残渣分离，完成酸洗后的稀硝酸废液可通过排水槽快速的从酸洗架内排出，排出后的稀硝酸废液会落入废液池上，在过滤筛网的作用下，快速完成对残渣的分离，有效的对使用后的稀硝酸溶液进行收集，以便于后期进行回收与再利用，大大提高了资源的利用率，体现了设备设计的环保性。
附图说明
[0013]图1为本技术结构立体图；
[0014]图2为本技术活动杆结构示意图；
[0015]图3为本技术密封板结构示意图；
[0016]图4为本技术图1中A处放大结构示意图。
[0017]图中：1、工作架；2、废液池；3、酸洗架；4、调控架；5、滑动槽；6、活动杆；7、第一连接块；8、卡槽；9、酸洗板；10、进水口；11、第二连接块；12、卡块；13、T型滑动块；14、滑槽；15、排水槽；16、抽槽；17、密封板；18、密封胶圈；19、过滤筛网；20、振动机。
具体实施方式
[0018]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0019]请参阅图1
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4，本技术提供的一种实施例：一种硅片生产用具有调节结构的酸洗装置，包括工作架1，本申请中使用的密封胶圈18、过滤筛网19和振动机20为市场上可直接购买到的产品，其原理和连接方式均为本领域技术人员熟知的现有技术，工作架1的上表面从左至右依次固定连接有废液池2和酸洗架3，酸洗架3的上表面固定连接有调控架4，调控架4的一侧开设有滑动槽5，滑动槽5的内部活动连接有活动杆6，活动杆6的一端固定连接有第一连接块7，第一连接块7的表面开设有卡槽8，活动杆6的表面固定连接有酸洗板9，酸洗板9的表面设置有进水口10，调控架4的一侧固定连接有第二连接块11，第二连接块11的内部活动连接有卡块12，废液池2的一端设置有过滤筛网19，酸洗架3的内壁设置有振动机20，振动机20的工作部分是一棒状空心圆柱体，内部装有偏心振子，在电动机带动下高速转动而产生高频微幅的振动，振动频率可达12000～15000次/min，振捣效果好，构造简单，使用寿命长，可以对酸洗架3内部的溶液进行快速的震荡操作，活动杆6的一端固定连接有T型
滑动块13，调控架4的内壁设置有滑槽14，T型滑动块13与滑槽14之间相互适配，可以使得活动杆6活动起来更加顺畅。
[0020]进一步的，酸洗架3的一侧开设有排水槽15，酸洗架3的一端开设有抽槽16，抽槽16的内部活动连接有密封板17，密封板17的一侧表面固定连接有密封胶圈18，抽出密封板17，可使得稀硝酸废液可通过排水槽15快速的从酸洗架3内排出，排出后的稀硝酸废液会落入废液池2上，密封胶圈18提高了密封板17闭合时的密封性。
[0021]工作原理：使用时，使用人员首先将配置好的稀硝酸溶液倒入至酸洗架3内，然后再将需要进行酸洗操作的半导体单晶硅片均匀的摆放在酸洗板9之上，此时工作人员可以通过活动杆6带动整体酸洗板9向下滑动，使得半导体单晶硅片进入酸洗架3内的稀硝酸溶液进行酸洗操作，酸洗架3内的振动机20启动后可以进行对溶液的震荡，使得稀硝酸溶液可以更加高效的将对半导体单晶硅片表面杂质及提炼时产生的四氯化硅进行溶解去除，清洗完成后将活动杆6提起，将卡块12插入卡槽8，将整体固定，等待残留的稀硝酸留下即可，完成酸洗后，工作人员可以本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种硅片生产用具有调节结构的酸洗装置，包括工作架(1)，其特征在于：所述工作架(1)的上表面从左至右依次固定连接有废液池(2)和酸洗架(3)，所述酸洗架(3)的上表面固定连接有调控架(4)，所述调控架(4)的一侧开设有滑动槽(5)，所述滑动槽(5)的内部活动连接有活动杆(6)，所述活动杆(6)的一端固定连接有第一连接块(7)，所述第一连接块(7)的表面开设有卡槽(8)，所述活动杆(6)的表面固定连接有酸洗板(9)，所述酸洗板(9)的表面设置有进水口(10)，所述调控架(4)的一侧固定连接有第二连接块(11)，所述第二连接块(11)的内部活动连接有卡块(12)。2.根据权利要求1所述的一种硅片生产用具有调节结构的酸洗...
【专利技术属性】
技术研发人员：闵高，张绍太，
申请(专利权)人：苏州金裕阳光伏科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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