一种磨盘装置和石墨烯及其制备方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种磨盘装置和石墨烯及其制备方法。磨盘装置包括具有进气口和出料口的密封釜体、在所述釜体内部设置磨盘部件和用于驱动磨盘部件转动的转动部件，所述磨盘部件包括设置有进料口的上磨盘、下磨盘、设置于下磨盘下方的搅拌桨和用于使物料流入所述进料口的挡板。本发明专利技术的磨盘装置简单，适用反应范围广，温度和压力可控，物料磨盘高速旋转从磨盘上部进入两磨盘之间，从而制备高质量的石墨烯。烯。烯。

【技术实现步骤摘要】
一种磨盘装置和石墨烯及其制备方法


[0001]本专利技术涉一种磨盘装置和石墨烯及其制备方法。

技术介绍

[0002]目前，制备石墨烯的主要方法有氧化还原法、液相剥离法和气相沉积法等。其中氧化还原法是以石墨为原料，用浓硫酸、高锰酸钾等强氧化剂将石墨氧化后制得氧化石墨烯，然后再通过高温或者化学法等方式将氧化石墨烯还原成石墨烯，该方法是目前最为常见的方法，也是目前工业化量产最多的，但由于经过强氧化剂氧化后制得的石墨烯缺陷多，即使经过还原，其物理和化学性能仍有所损失，而且在制备过程使用大量的强氧化剂、酸等化学试剂，环境污染严重。液相剥离法主要是采用超声剥离，即在有机溶剂中长时间超声，这样制备的石墨烯缺陷少了，但有机溶剂的使用对人体存在伤害，而且存在产率低、制备的石墨烯尺寸小等问题。气相沉积(CVD)法是以甲烷等含碳化合物为原料，通过其在在金属等基质表面高温分解生长石墨烯。这是目前制备石墨烯薄膜的主要方法。但CVD法工艺的不成熟，而且成本高，限制了其大规模应用。因此，制备石墨烯仍然是石墨烯研究领域的一个重点。
[0003]CN105800594B本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磨盘装置，包括具有进气口和出料口的密封釜体、在所述釜体内部设置磨盘部件和用于驱动磨盘部件转动的转动部件，所述磨盘部件包括设置有进料口的上磨盘、下磨盘、设置于下磨盘下方的搅拌桨和用于使物料流入所述进料口的挡板。2.根据权利要求1所述的磨盘装置，其特征在于，所述釜体具有夹套和/或顶部釜盖。3.根据权利要求1或2所述的磨盘装置，其特征在于，所述上磨盘设置有导流槽；和/或，所述下磨盘具有凹槽，更优选地，所述凹槽的花纹选自臼目型、菊型和扇形中的至少一种；和/或，所述磨盘部件还包括固定于釜体顶部的磨盘支架，用于限位上磨盘；和/或，所述上磨盘和下磨盘之间还安装有调隙螺栓，用于调节上磨盘和下磨盘之间的间隙。4.根据权利要求1
‑
3中任意一项所述的磨盘装置，其特征在于，所述转动部件为磁力转动。5.一种石墨烯，具有羧基改性基团，且所述石墨烯的层数为10层以下的比率不小于30％，优选为30
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50％。6.根据权利要求5所述的石墨烯，其特征在于，所述石墨烯的氧元素含量不大于10％；和/或，所述石墨烯的电导率为500
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1000S/m；和/或，所述石墨烯具有微米级片径，更优选地，所述石墨烯的片径为1<...

【专利技术属性】
技术研发人员：王湘，戚桂村，曾宪忠，陈翔，姜超，李秉海，宋志海，茹越，张江茹，赵月云，张晓红，
申请(专利权)人：中国石油化工股份有限公司北京化工研究院，
类型：发明
国别省市：