微晶玻璃刻蚀液、防眩光微晶玻璃、壳体组件和电子设备制造技术

本申请提供了一种微晶玻璃刻蚀液，按质量百分比计，所述微晶玻璃刻蚀液包括1％

【技术实现步骤摘要】
微晶玻璃刻蚀液、防眩光微晶玻璃、壳体组件和电子设备


[0001]本申请属于电子产品
，具体涉及微晶玻璃刻蚀液、防眩光微晶玻璃、壳体组件和电子设备。

技术介绍

[0002]随着电子设备的不断发展，用户对电子设备外观效果的要求也越来越高。其中，采用防眩光玻璃壳体使得电子设备表面具有防眩光效果以及磨砂质感，给用户提供很好的使用体验。然而，现有的防眩光玻璃采用传统的钠钙玻璃，其强度还有待进一步提高。

技术实现思路

[0003]鉴于此，本申请提供了一种微晶玻璃刻蚀液、防眩光微晶玻璃、壳体组件和电子设备。
[0004]第一方面，本申请提供了一种微晶玻璃刻蚀液，按质量百分比计，所述微晶玻璃刻蚀液包括1％
‑
5％的盐酸、30％
‑
40％的氟化氢铵、1％
‑
5％的氢氟酸、3％
‑
5％的氟硅酸盐、20％
‑
30％的柠檬酸、2％
‑
5％的硫酸钡以及余量的水。
[0005]第二方面，本申请提供了一种防眩光微晶玻璃的制备方法，包括：
[0006]采用第一方面所述的微晶玻璃刻蚀液对微晶玻璃进行刻蚀；
[0007]经所述刻蚀后进行清洗得到防眩光微晶玻璃。
[0008]第三方面，本申请提供了一种防眩光微晶玻璃，所述防眩光微晶玻璃的表面具有凸起结构，所述防眩光微晶玻璃的表面粗糙度为0.4μm
‑
0.5μm，雾度为50％
‑
90％。
[0009]第四方面，本申请提供了一种壳体组件，所述壳体组件包括第二方面所述的制备方法制得的防眩光微晶玻璃，或第三方面所述的防眩光微晶玻璃。
[0010]第五方面，本申请提供了一种电子设备，包括第四方面所述的壳体组件，以及与所述壳体组件相连的显示装置。
[0011]本申请提供的微晶玻璃刻蚀液可以用于防眩光微晶玻璃的制备，既保证了防眩光微晶玻璃的上砂效果，同时又能够获得具有优异力学性能的防眩光微晶玻璃；该防眩光微晶玻璃的制备方法简单，操作方便；具有该防眩光微晶玻璃的壳体组件和电子设备具有防眩光效果和丝滑触感，同时产品机械性能提升，延长使用寿命。
附图说明
[0012]为了更清楚地说明本申请实施方式中的技术方案，下面将对本申请实施方式中所需要使用的附图进行说明。
[0013]图1为本申请一实施方式提供的防眩光微晶玻璃的制备方法流程图。
[0014]图2为本申请一实施方式提供的壳体组件的结构示意图。
[0015]图3为本申请另一实施方式提供的壳体组件的结构示意图。
[0016]图4为本申请一实施方式提供的电子设备的结构示意图。
[0017]图5为实施例1制得的防眩光微晶玻璃的表面示意图。
[0018]图6为实施例2制得的防眩光微晶玻璃的表面示意图。
具体实施方式
[0019]以下是本申请的优选实施方式，应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本申请的保护范围。
[0020]下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
[0021]本申请提供了一种微晶玻璃刻蚀液，按质量百分比计，微晶玻璃刻蚀液包括1％
‑
5％的盐酸、30％
‑
40％的氟化氢铵、1％
‑
5％的氢氟酸、3％
‑
5％的氟硅酸盐、20％
‑
30％的柠檬酸、2％
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5％的硫酸钡以及余量的水。
[0022]相关技术中，往往采用钠钙玻璃、高铝玻璃、高硼玻璃等制备防眩光玻璃，然而钠钙玻璃、高铝玻璃、高硼玻璃等制得的防眩光玻璃的强度还有待提升。有鉴于此，本申请专利技术人采用了微晶玻璃制备防眩光玻璃，然而现有的刻蚀液用于刻蚀传统的钠钙玻璃、高铝玻璃、高硼玻璃等，由于微晶玻璃中含有微小晶体，现有的刻蚀液无法腐蚀这些晶体，从而无法实现防眩光效果。因此，本申请专利技术人提供了上述微晶玻璃刻蚀液，其能够对微晶玻璃起到刻蚀作用，从而使微晶玻璃获得防眩光效果，并且刻蚀后微晶玻璃表面整体砂效均匀一致，可以得到中高雾度、触感丝滑的防眩光微晶玻璃。
[0023]在本申请中，微晶玻璃刻蚀液中盐酸、氢氟酸可以腐蚀微晶玻璃内的微晶，氟化氢铵、氢氟酸与微晶玻璃中的二氧化硅反应生成氟硅酸，氟硅酸与溶液中的阳离子反应生成氟硅酸盐；生成的氟硅酸盐以及微晶玻璃刻蚀液中含有的氟硅酸盐使得溶液中氟硅酸盐的浓度达到饱和状态，氟硅酸盐结晶析出并附着在微晶玻璃表面作为初级晶核，随后以吸附成核的方式继续吸附氟硅酸盐，进行晶体的生长和扩展；附着有氟硅酸盐晶体的微晶玻璃表面免受进一步侵蚀，未有氟硅酸盐晶体附着的微晶玻璃表面会继续反应；刻蚀处理后，将附着在微晶玻璃表面上的氟硅酸盐清洗去除，即可得到防眩光微晶玻璃；在此过程中，硫酸钡调节整体粘度，保证氟硅酸盐晶体的附着和生长，柠檬酸维持体系酸性条件，保证刻蚀的进行。
[0024]在本申请中，微晶玻璃刻蚀液中含有1％
‑
5％的盐酸，通过添加盐酸对微晶玻璃中的微晶颗粒进行腐蚀，保证刻蚀的进行，进而得到具有防眩光效果的微晶玻璃；微晶玻璃刻蚀液中盐酸含量过低(例如低于1％)则无法对微晶玻璃中的微晶颗粒进行有效腐蚀，会导致刻蚀不均匀甚至无法刻蚀的问题，进而不能得到防眩光微晶玻璃，微晶玻璃刻蚀液中盐酸含量过高(例如高于5％)则刻蚀体系酸度过高，导致生成的氟硅酸盐被迅速溶解，无法附着在玻璃表面，也不能得到防眩光微晶玻璃。同时，本申请专利技术人研究发现，将盐酸替换为硫酸或硝酸时，即使在上述质量含量范围内，微晶玻璃表面无法上砂，不能得到防眩光微晶
玻璃，可能是由于硫酸使反应体系酸度过高，无法使氟硅酸盐附着在表面，而硝酸挥发性强也无法使微晶玻璃表面上砂，即使调整硫酸或硝酸的浓度，仍然无法获得防眩光微晶玻璃。具体的，微晶玻璃刻蚀液中盐酸的质量含量可以但不限于为1％、1.5％、2％、2.8％、3％、3.5％、4％、4.4％或5％等。在本申请一实施例中，微晶玻璃刻蚀液中盐酸的质量含量为1％
‑
2％。在本申请另一实施例中，微晶玻璃刻蚀液中盐酸的质量含量为2％
‑
3％。在本申请又一实施例中，微晶玻璃刻蚀液中盐酸的质量含量为3％
‑
5％。如此，能够提高微晶玻璃刻蚀液对微晶颗粒的腐蚀效果，同时提高生成的氟硅酸盐的生成量，提高上砂效果的均匀性，进一步提高防眩光微晶玻璃的顺滑感。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种微晶玻璃刻蚀液，其特征在于，按质量百分比计，所述微晶玻璃刻蚀液包括1％
‑
5％的盐酸、30％
‑
40％的氟化氢铵、1％
‑
5％的氢氟酸、3％
‑
5％的氟硅酸盐、20％
‑
30％的柠檬酸、2％
‑
5％的硫酸钡以及余量的水。2.如权利要求1所述的微晶玻璃刻蚀液，其特征在于，按质量百分比计，所述微晶玻璃刻蚀液包括3％
‑
5％的盐酸，35％
‑
40％的氟化氢铵、3％
‑
5％的氢氟酸、4％
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5％的氟硅酸盐、25％
‑
30％的柠檬酸和3％
‑
5％的硫酸钡。3.如权利要求1或2所述的微晶玻璃刻蚀液，其特征在于，所述盐酸和所述氟化氢铵的质量比为1：(7
‑
9)。4.如权利要求1所述的微晶玻璃刻蚀液，其特征在于，所述氟硅酸盐包括氟硅酸铵、氟硅酸钾、氟硅酸钠和氟硅酸铝中的至少一种。5.一种防眩光微晶玻璃的制备方法，其特征在于，包括：采用权...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨国威，陈志斌，邱惊龙，祝鹏辉，
申请(专利权)人：OPPO广东移动通信有限公司，
类型：发明
国别省市：