【技术实现步骤摘要】
一种包含杂多酸的三元复合光催化剂及其制备方法与应用
[0001]本专利技术涉及光催化
,具体涉及一种包含杂多酸的三元复合光催化剂及其制备方法与应用。
技术介绍
[0002]工业化水平的提高带来了严重的环境污染,其中水资源的污染因其直接危害人类健康受到广泛关注。水体污染物的种类一般包括重金属污染、有机污染、无机物污染,尤其是有机污染物降解困难且需要消耗大量的氧气,对其治理需要耗费大量人力物力。光催化降解技术具有反应条件温和、成本低廉、稳定性好以及无二次污染等优势,符合绿色化学的要求,受到重视。
[0003]光催化反应的顺利进行离不开光催化剂,半导体材料是常见的光催化剂制备原料,如TiO2、Cu2O、CdS等无机半导体材料以及g
‑
C3N4、碳量子点、聚苯胺等有机半导体材料。根据固体能带理论,光照辐射下价带的电子会跃迁到导带上形成光生电子,而价带形成光生空穴;光生空穴具有强氧化性,光生电子具有很强的还原性,价带与导带之间的能量差称为带隙或禁带宽度。因此,设计制备光催化剂时不仅要考虑其吸收光的能力, ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种包含杂多酸的三元复合光催化剂的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1)将一定量的水以及超声处理的g
‑
C3N4、二水乙酸镉、杂多酸置于反应釜内衬中,搅拌过夜;然后加入一定量硫脲,在反应釜中密封加热搅拌反应;2)反应结束后,迅速冷却至室温,过滤,用水和乙醇依次洗涤,真空干燥,即得三元复合光催化剂。2.根据权利要求1所述的一种包含杂多酸的三元复合光催化剂的制备方法,其特征在于,步骤1)中,所述的杂多酸为H3PMo
11
V1O
40
、H4PMo
10
V2O
40
、H5PMo9V3O
40
、H6PMo8V4O
40
、H7PMo7V5O
40
中的一种。3.根据权利要求1所述的一种包含杂多酸的三元复合光催化剂的制备方法,其特征在于,步骤1)中,所述的杂多酸与g
‑
C3N4的质量比为1:10~1:2,杂多酸与二水乙酸镉的质量比为1:20~1:3。4.根据权利要求1所述的一种包...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵炜,梁冲,崔明昱,董林阳,刘序堂,王仃凯,蒋志杰,王飞,
申请(专利权)人:中国矿业大学,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。