一种阻氢涂碳光纤光栅串及其制备方法和制备装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种阻氢涂碳光纤光栅串及其制备方法和制备装置，包括以下步骤：向拉丝炉中通入惰性保护气体，同时光纤预制棒经过拉丝炉进行熔融拉丝，得到裸光纤，其中惰性保护气体流向与光纤预制棒拉丝的方向相反；裸光纤依次进行涂碳处理和光栅的刻写，然后进行涂覆固化处理，收线得到阻氢涂碳光纤光栅串。本发明专利技术加热炉中保护气体流向与光纤拉丝方向相反，保证裸纤表面清洁度，进而提高碳涂覆层的完整性及致密度；通过涂碳获得的碳涂覆层对紫外光具有较好的透射性，制成的涂碳光纤光栅受水分及氢的影响较小，氢损增加速率只有0.02dB/km.h。氢损增加速率只有0.02dB/km.h。氢损增加速率只有0.02dB/km.h。

【技术实现步骤摘要】
一种阻氢涂碳光纤光栅串及其制备方法和制备装置


[0001]本专利技术属于涂碳光纤光栅
，具体涉及一种阻氢涂碳光纤光栅串及其制备方法和制备装置。

技术介绍

[0002]常规光纤的涂层是硅橡胶、聚氨酯或丙烯酸酯等等，这些材料在拉丝过程中涂覆在光纤的表面以保护光纤强度。在恶劣环境下，如海底光缆及海洋探测系统、石油勘探等，光纤涂层虽然能够保护光纤，但是不能够阻止水分和氢对光纤机械强度和光学性能的影响，解决这些问题的途径之一是研制高强度耐疲劳碳涂覆光纤。碳涂覆光纤表面的碳膜对氢具有堵塞效应，碳膜结构致密，在光纤表面收缩小，化学性能稳定，能有效防止光纤表面微裂纹的扩大，提高光纤疲劳指数和密封性。
[0003]热光纤有很高的表面张力，对气体有吸附作用，同时，吸附膜也会大大降低光纤强度，由吸附理论可知，低压吸附是单分子层，压力增高，则转变为多分子层，且在一定的温度下，1/U与1/P呈线性关系(U是吸附量，P是压力)。有机气体裂解属于链式反应。目前采用的热裂解工艺中热CVD过程为目前国外大多数光纤厂商采用。沉积碳的CVD反应器放在拉丝炉下面，在热C本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种阻氢涂碳光纤光栅串的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)向拉丝炉中通入惰性保护气体，同时光纤预制棒经过拉丝炉进行熔融拉丝，得到裸光纤，其中惰性保护气体流向与光纤预制棒拉丝的方向相反；(2)裸光纤依次进行涂碳处理和光栅的刻写，然后进行涂覆固化处理，收线得到阻氢涂碳光纤光栅串。2.根据权利要求1所述的阻氢涂碳光纤光栅串的制备方法，其特征在于，步骤(1)中光纤预制棒采用掺锗光纤预制棒或者纯二氧化硅纤芯的光纤预制棒。3.根据权利要求1所述的阻氢涂碳光纤光栅串的制备方法，其特征在于，光纤预制棒竖直向下拉丝，惰性保护气体流向从下往上；拉丝速度为100m/min。4.根据权利要求1所述的阻氢涂碳光纤光栅串的制备方法，其特征在于，步骤(2)的涂碳处理是在碳涂覆反应器中进行的，反应气体流向与裸光纤运动方向一致；反应温度在800～1000℃。5.根据权利要求4所述的阻氢涂碳光纤光栅串的制备方法，其特征在于，碳涂覆反应器中还通入氩气和含Cl化合物，反应气体与氩气和含Cl化合物的流速比为1:(18～36)：0.4；反应气体为乙炔或丙烷，碳涂覆层厚度为6.根据权利要求1所述的阻氢涂碳光纤光栅串的制备方法，其特征在于，光...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭会勇，陈霡，刘乾锋，范典，唐健冠，姜德生，
申请(专利权)人：武汉理工大学，
类型：发明
国别省市：