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滤光片和成像装置制造方法及图纸

技术编号:33234428 阅读:22 留言:0更新日期:2022-04-27 17:32
本发明专利技术涉及一种滤光片,所述滤光片具有吸收层,所述吸收层含有近红外线吸收色素和树脂,其中,所述近红外线吸收色素包含在650nm~780nm的波长范围内具有最大吸收波长、热分解温度为265℃以上、并且显示出IR20

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】滤光片和成像装置


[0001]本专利技术涉及透射可见光波长范围内的光并且阻隔近红外线波长范围内的光的滤光片、以及具有该滤光片的成像装置。

技术介绍

[0002]在使用固态成像元件的成像装置中,为了良好地再现色调而得到清晰的图像,使用透射可见光区域的光(以下也称为“可见光”)并且阻隔近红外区域的光(以下也称为“近红外光”)的滤光片。作为该滤光片,已知在透明基板上设置有吸收层和反射层的近红外截止滤光片,所述吸收层包含近红外线吸收色素和树脂,所述反射层包含阻隔近红外光的介质反射层(参见专利文献1)。
[0003]在此,在安装滤光片时进行焊接。近年来,随着成像装置的小型化和轻量化,另外,由于操作能够自动化,因此采用基于回流焊方式的焊接。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1:日本特开2012

103340号公报

技术实现思路

[0007]专利技术所要解决的问题
[0008]基于回流焊方式的焊接为如下方法:在安装基板上印刷焊膏,在其上放置要安装的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种滤光片,所述滤光片具有吸收层,所述吸收层含有近红外线吸收色素和树脂,其中,所述近红外线吸收色素包含满足全部下述特性(i

1)~(i

3)的方酸内盐色素,并且所述树脂的玻璃化转变温度为390℃以上,(i

1)在将所述方酸内盐色素溶解在二氯甲烷中而测定光谱透射率时,在650nm~780nm的波长范围内具有最大吸收波长;(i

2)所述方酸内盐色素的热分解温度为265℃以上;(i

3)在以使得最大吸收波长处的透射率为10%的方式使所述方酸内盐色素溶解在二氯甲烷中而测定的光谱透射率曲线中,在将600nm~800nm的波长范围内的透射率为80%时的波长设为IR80、将600nm~800nm的波长范围内的透射率为20%时的波长设为IR20时,显示出IR20

IR80<65nm。2.如权利要求1所述的滤光片,其中,在以使得最大吸收波长处的透射率为10%的方式使所述方酸内盐色素溶解在二氯甲烷中而测定的光谱透射率曲线中,所述方酸内盐色素满足全部下述特性(i

4)~(i

6),(i

4)显示出IR20

IR80<60nm;(i

5)400nm~500nm的波长范围内的光的平均透射率为96%以上;(i

6)400nm~500nm的波长范围内的光的最小透射率为93%以上。3.如权利要求1或2所述的滤光片,其中,在以使得最大吸收波长处的透射率为10%的方式使所述方酸内盐色素溶解在树脂中而测定的光谱透射率曲线中,所述方酸内盐色素满足全部下述特性(i

7)~(i

11),(i

7)最大吸收波长在650nm~790nm的范围内;(i

8)IR20在630nm~770nm的范围内;(i

9)显示出IR20

IR80<80nm;(i

10)400nm~500nm的波长范围内的光的平均透射率为90%以上;(i

11)400nm~500nm的波长范围内的光的最小透射率为85%以上。4.如权利要求1~3中任一项所述的滤光片,其中,所述方酸内盐色素为由下式(I)或(II)表示的化合物,其中,式(I)中的符号如下所述,R
24
和R
26
各自独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、碳原子数1~6的烷基或碳原子数1~6的烷氧基、碳原子数1~10的酰氧基、

NR
27
R
28
(R
27
和R
28
各自独立地表示氢原子、碳原子数1~20的烷基、

C(=O)

R
29
(R
29
为氢原子、可以具有取代基并且在碳原子间可以含有不饱和键、
氧原子、饱和或不饱和的环结构的碳原子数1~25的烃基)、

NHR
30


SO2‑
R
30
(R
30
各自为一个以上的氢原子可以被卤素原子、羟基、羧基、磺基或氰基取代并且在碳原子间可以含有不饱和键、氧原子、饱和或不饱和的环结构的碳原子数1~25的烃基))、或者由下式(S)表示的基团(R
41
、R
42
独立地表示氢原子、卤素原子、或者碳原子数1~10的烷基或碳原子数1~10的烷氧基;k为2或3),R
21
和R
22
、R
22
和R
25
、以及R
21
和R
23
可以彼此连接并与氮原子一起分别形成五元或六元的杂环A、杂环B和杂环C;对于在形成杂环A的情况下的R
21
和R
22
而言,作为R
21
和R
22
所键合的二价基团

Q

,表示氢原子可以被碳原子数1~6的烷基、碳原子数6~10的芳基或者可以具有取代基的碳原子数1~10的酰氧基取代的亚烷基、或者氢原子可以被碳原子数1~6的烷基、碳原子数6~10的芳基或者可以具有取代基的碳原子数1~10的酰氧基取代的亚烷基氧基;对于在形成杂环B的情况下的R
22
和R
25
以及在形成杂环C的情况下的R
21
和R
23
而言,作为R
22
和R
25
所键合的二价基团

X1‑
Y1‑
以及R
21
和R
23
所键合的二价基团

X2‑
Y2‑
(与氮键合的一侧为X1和X2),X1和X2各自为由下式(1x)或(2x)表示的基团,Y1和Y2各自为由选自下式(1y)~(5y)中的任一者表示的基团;在X1和X2各自为由下式(2x)表示的基团的情况下,Y1和Y2各自可以为单键,在该情况下,在碳原子间可以具有氧原子;式(1x)中,4个Z各自独立地表示氢原子、羟基、碳原子数1~6的烷基或碳原子数1~6的烷氧基、或者

NR
38
R
39
(R
38
和R
39
各自独立地表示氢原子或者碳原子数1~20的烷基);R
31
~R
36
各自独立地表示氢原子、碳原子数1~6的烷基或者碳原子数6~10的芳基,R
37
表示碳原子数1~6的烷基或者碳原子数6~10的芳基;R
27
、R
28
、R

【专利技术属性】
技术研发人员:盐野和彦山田纱友梨山森弥生
申请(专利权)人:AGC株式会社
类型:发明
国别省市:

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