一种硅粉法制备硅溶胶用沉降槽装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种硅粉法制备硅溶胶用沉降槽装置。包括沉降槽主体，沉降槽主体的一对侧壁上设置有三层支撑结构，支撑结构下方设置有三角加固结构，支撑结构上设置有活动挡板，活动挡板将沉降槽从上至下分割成第一沉降区、第二沉降区、第三沉降区和第四沉降区；第一沉降区正面设置有硅溶胶入口，第二沉降区正面设置有第一硅溶胶出口，第三沉降区侧面设置有人孔，第四沉降区正面设置有第二硅溶胶出口，背面设置有排水口，沉降槽主体顶部还设置有气孔。本实用新型专利技术能够提高物理沉降的效率，大大缩短沉降周期，从而缩短整体的后处理时间，进一步提高了整体硅溶胶生产的效率。一步提高了整体硅溶胶生产的效率。一步提高了整体硅溶胶生产的效率。

【技术实现步骤摘要】
一种硅粉法制备硅溶胶用沉降槽装置


[0001]本技术涉及一种硅粉法制备硅溶胶用沉降槽装置，属于硅溶胶制备


技术介绍

[0002]硅粉水解法反应生成硅溶胶后，需要将未反应的硅粉分离出去，以获得纳米二氧化硅的水分散体。目前小粒径产品可以通过板框压滤的方法，实现硅粉与硅溶胶的分离，但是对于粒径较大的产品，无法通过板框压滤实现有效分离。目前主要通过物理沉降+离心+滤芯过滤的方案，进行分离；离心和滤芯过滤的成本很高；离心之前，先进行物理沉降，可以去除较大量的硅粉杂质，这样后端离心和过滤的压力会减少很多；但是物理沉降速度较慢，处理效率很低，影响整体硅溶胶生产的效率。

技术实现思路

[0003]针对现有技术的不足，本技术提供一种硅粉法制备硅溶胶用沉降槽装置。
[0004]本技术的技术方案如下：
[0005]一种硅粉法制备硅溶胶用沉降槽装置，包括沉降槽主体，所述沉降槽主体的一对侧壁上设置有三层支撑结构，支撑结构下方设置有三角加固结构，支撑结构上设置有活动挡板，活动挡板将沉降槽从上至下分割成第一沉降区、第二沉降区、第三沉降区本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅粉法制备硅溶胶用沉降槽装置，其特征在于，包括沉降槽主体，所述沉降槽主体的一对侧壁上设置有三层支撑结构，支撑结构下方设置有三角加固结构，支撑结构上设置有活动挡板，活动挡板将沉降槽从上至下分割成第一沉降区、第二沉降区、第三沉降区和第四沉降区；所述第一沉降区正面设置有硅溶胶入口，第二沉降区正面设置有第一硅溶胶出口，第三沉降区侧面设置有人孔，第四沉降区正面设置有第二硅溶胶出口，背面设置有排水口；所述沉降槽主体顶部还设置有气孔。2.如权利要求1所述的沉降槽装置，其特征在于，所述活动挡板直接放置在沉降槽主体侧壁的支撑结构上，每层个数为...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢可彬，朱丽杰，陈少华，冷军晓，李玉鑫，张强，
申请(专利权)人：山东银丰纳米新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：