一种新型氨水槽制造技术

本实用新型专利技术公开了一种新型氨水槽，包括氨水槽及其一侧上部设置的进液管，氨水槽另一侧设置有排液管，所述氨水槽内部设置有多个从进液管向排液管阶梯设置的弯折隔板，所述弯折隔板是由L形隔板以及下部竖直隔板一体构成，相邻两个弯折隔板的上下部形成错位连通的沉淀腔、集杂腔，本实用通过在氨水槽内设置多个阶梯的弯折隔板，并在相邻两个弯折隔板之间形成错位的沉淀腔和集杂腔，可以有效降低上清液从吸附管的排出量，保证了氨水槽的沉淀作用。保证了氨水槽的沉淀作用。保证了氨水槽的沉淀作用。

【技术实现步骤摘要】
一种新型氨水槽


[0001]本技术涉及化工氨水槽领域，具体涉及一种新型氨水槽。

技术介绍

[0002]在煤化工煤制甲醇过程中，会产生副产物氨水，为了处理氨水需要将各个工段的氨水收集到氨水槽中进行缓冲存储，但是氨水中含有杂质，为了沉淀这些杂质，以往在氨水槽中阶梯设置竖直的隔板以形成各个沉淀腔进行沉淀处理，但是在对沉淀腔底部聚集的杂质进行吸附排出时，很容易扰动沉淀腔的上清液，造成大量上清液与杂质排出，影响氨水槽的沉淀效果。

技术实现思路

[0003]为了解决上述存在的问题，本技术提供一种新型氨水槽。
[0004]本技术是通过以下技术方案实现：
[0005]一种新型氨水槽，包括氨水槽及其一侧上部设置的进液管，氨水槽另一侧设置有排液管，所述氨水槽内部设置有多个从进液管向排液管阶梯设置的弯折隔板，所述弯折隔板是由L形隔板以及下部竖直隔板一体构成，相邻两个弯折隔板的上下部形成错位连通的沉淀腔、集杂腔。
[0006]优选的，多个所述集杂腔底部连接有吸附管。
[0007]优选的，所述进液管、排液管以及吸附管上安装有控制阀。
[0008]与现有的技术相比，本技术的有益效果是：本实用通过在氨水槽内设置多个阶梯的弯折隔板，并在相邻两个弯折隔板之间形成错位的沉淀腔和集杂腔，可以有效降低上清液从吸附管的排出量，保证了氨水槽的沉淀作用。
附图说明
[0009]图1是本技术所述结构立体示意图；
[0010]图2是本实用内部结构主要示意图；
[0011]图中：氨水槽1、进液管2、排液管3、弯折隔板4、L形隔板5、竖直隔板6、沉淀腔7、集杂腔8、吸附管9、控制阀10。
具体实施方式
[0012]下面结合附图与具体实施方式对本技术作进一步详细描述：
[0013]如图1、图2所示，一种新型氨水槽，包括氨水槽1及其一侧上部设置的进液管2，氨水槽1另一侧设置有排液管3，所述氨水槽1内部设置有多个从进液管2向排液管3阶梯设置的弯折隔板4，所述弯折隔板4是由L形隔板5以及下部竖直隔板6一体构成，相邻两个弯折隔板4的上下部形成错位连通的沉淀腔7、集杂腔8。
[0014]多个所述集杂腔8底部连接有吸附管9。
[0015]所述进液管2、排液管3以及吸附管9上安装有控制阀10。
[0016]工作原理：各个工段的氨水液体通过进液管2进入到氨水槽1前端的沉淀腔7内进行沉淀，沉淀过程中杂质会向下聚集，而上清液会沿着各个弯折隔板4的顶部进行溢流，经过多个阶梯的沉淀腔7沉淀效果，最终较为清澈的氨水液体通过排液管3排出，而在沉淀腔7下沉的杂质会最终进入到各个集杂腔8进行聚集，当集杂腔8聚满后，打开外接吸附泵的吸附管9上的控制阀10，通过各个吸附管9将集杂腔8聚集的沉淀物杂质清除干净，而相邻两个弯折隔板4形成的错位的沉淀腔7和集杂腔8，沉淀腔7和集杂腔8中间连接间距比以往竖直设置的间距大大降低，在吸附管9吸附沉淀时对上部沉淀腔7上部上清液扰动较小，降低了上清液从吸附管9的排出量，有效的保证了氨水槽1的沉淀作用。
[0017]以上显示和描述了本技术的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解，本技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本技术的原理，在不脱离本技术精神和范围的前提下，本技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本技术范围内。本技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种新型氨水槽，包括氨水槽(1)及其一侧上部设置的进液管(2)，氨水槽(1)另一侧设置有排液管(3)，其特征在于：所述氨水槽(1)内部设置有多个从进液管(2)向排液管(3)阶梯设置的弯折隔板(4)，所述弯折隔板(4)是由L形隔板(5)以及下部竖直隔板(6)一体构成，相邻两个弯折隔板...

【专利技术属性】
技术研发人员：单新龙，张子文，王锋，
申请(专利权)人：单新龙，
类型：新型
国别省市：