【技术实现步骤摘要】
P型SnS纳米颗粒、P型SnS薄膜及其制备与应用
[0001]本专利技术涉及P型半导体纳米材料制备
,尤其是涉及P型SnS纳米颗粒、P型SnS薄膜及其制备与应用。
技术介绍
[0002]SnS由地球中储量丰富且无毒的锡和硫元素组成,出现在罕见的硫锡矿中,是一种环境友好的P型窄带隙半导体材料,禁带宽度为1.2
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1.5eV,具有良好的载流子迁移率、光学透明和机械等性能,与太阳辐射中的可见光体验很好的光谱匹配,非常适合用作太阳能电池中的光吸收层,是一种非常有潜力的太阳能电池材料。然而,目前存在的问题是:(1)通过简单方法较难获得小尺寸、比表面积大的SnS材料;(2)分散性差,无法充分凸显纳米材料的优势,限制了材料的应用范围。因此,采用低温方法制备超细SnS纳米颗粒具有重要意义。
[0003]硫化亚锡是一种灰黑色立方或单斜系晶体。常规制备SnS晶体的方法是通过将锡单质和硫单质直接化合得到。但这种制备方法得到的普遍是几十微米的大颗粒;也有将硫化氢气体通锡(如硫化亚锡)溶液中,得到水合物。在2013年, ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种P型SnS纳米颗粒的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)在氮气保护下,将硫源加入到氯化亚锡水溶液中,与醛类还原剂混匀,得到第一混合溶液;(2)将步骤(1)得到的第一混合溶液转移至反应釜进行水热反应,反应后得到湿沉淀;(3)将步骤(2)得到的湿沉淀通过去离子水和乙醇洗涤后离心,得到SnS纳米颗粒。2.根据权利要求1所述的一种P型SnS纳米颗粒的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,所述氯化亚锡为无水氯化亚锡或二水氯化亚锡;所述醛类还原剂为甲醛、乙醛或丙醛;所述硫源选自CH4N2S、(NH4)2S或CH3CSNH2中的任意一种。3.根据权利要求1所述的一种P型SnS纳米颗粒的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,氯化亚锡的浓度为0.05
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0.2mol/L;优选地,氯化亚锡的浓度为0.05mol/L;氯化亚锡与硫源的摩尔比为0.5
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2:1;优选地,氯化亚锡与硫源的摩尔比为1:1;氯化亚锡水溶液与醛类还原剂的体积比为25
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100:1;优选地,氯化亚锡溶液与醛类还原剂的体积比为50:1。4.根据权利要求1所述的一种P型SnS纳米颗粒的制备方法,其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员:徐雨田,芮一川,朱博雅,丁改琴,
申请(专利权)人:上海工程技术大学,
类型:发明
国别省市:
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