指纹传感器、制造指纹传感器的方法以及显示装置制造方法及图纸

技术编号:33198407 阅读:17 留言:0更新日期:2022-04-24 00:29
本发明专利技术涉及一种指纹传感器、制造指纹传感器的方法以及包括指纹传感器的显示装置。所述指纹传感器包括:光感测层,包括光感测元件;和光学层,包括多个光透射区域、光阻挡区域、设置在所述多个光透射区域中的光透射构件、设置在所述光阻挡区域中的光阻挡构件以及设置在所述光阻挡构件上的平坦化构件,其中,所述光阻挡区域围绕所述多个光透射区域,其中,所述光透射构件包括第一有机材料,其中,所述光阻挡构件包括第二有机材料,并且其中,所述平坦化构件包括第三有机材料和正型感光材料。构件包括第三有机材料和正型感光材料。构件包括第三有机材料和正型感光材料。

【技术实现步骤摘要】
指纹传感器、制造指纹传感器的方法以及显示装置
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2020年10月21日在韩国知识产权局提交的第10

2020

0136675号韩国专利申请的优先权,上述韩国专利申请的公开内容通过引用全部包含于此。


[0003]本专利技术涉及一种指纹传感器、一种制造指纹传感器的方法以及一种包括指纹传感器的显示装置。

技术介绍

[0004]显示装置被并入到诸如智能电话、平板电脑、笔记本计算机、监视器和TV等的各种电子设备中。近年来,随着移动通信技术的发展,诸如智能电话、平板个人计算机(平板PC)和笔记本计算机等的便携式电子设备的使用已经大大地增加。
[0005]通常,便携式电子设备可以存储隐私信息,诸如联系人信息、通话记录、消息、照片、备忘录、用户的网页浏览信息、位置信息、财务信息和生物特征信息。为了保护存储在便携式电子设备上的个人信息,可以使用指纹认证来认证作为用户的生物特征信息的指纹,并在匹配认证后获得对个人信息的访问。在这种情况下,显示装置可以包括用于指纹认证的指纹传感器。例如,指纹传感器可以使用光学方法、超声波方法或电容方法来实现。例如,光学指纹传感器可以典型地包括准直器,该准直器具有用于感测光的光感测单元、用于将光提供给光感测单元的开口以及用于阻挡光的光阻挡单元。
[0006]此外,当指纹传感器设置在显示装置的边框区域或非显示区域中时,在加宽显示装置的显示区域方面可能存在限制。因此,指纹传感器可以设置在显示装置的显示区域中。

技术实现思路

[0007]根据本专利技术的实施例,一种指纹传感器,包括:光感测层,包括光感测元件;以及光学层,包括多个光透射区域、光阻挡区域、设置在所述多个光透射区域中的光透射构件、设置在所述光阻挡区域中的光阻挡构件以及设置在所述光阻挡构件上的平坦化构件,其中,所述光阻挡区域围绕所述多个光透射区域,其中,所述光透射构件包括第一有机材料,其中,所述光阻挡构件包括第二有机材料,并且其中,所述平坦化构件包括第三有机材料和正型感光材料。
[0008]在本专利技术的实施例中,所述平坦化构件在厚度方向上与所述光阻挡构件重叠,并且暴露所述光阻挡构件的一部分。
[0009]在本专利技术的实施例中,所述光阻挡构件的由所述平坦化构件暴露的所述一部分设置在所述光透射构件与所述平坦化构件之间。
[0010]在本专利技术的实施例中,所述光阻挡构件至少部分地围绕所述光透射构件。
[0011]在本专利技术的实施例中,所述光阻挡构件还包括凹部,并且所述平坦化构件设置在所述凹部上。
[0012]在本专利技术的实施例中,所述平坦化构件暴露所述光阻挡构件的一部分,并且所述平坦化构件的第一表面和所述光阻挡构件的由所述平坦化构件暴露的所述一部分的第一表面相对于所述光感测层的第一表面定位在相同的第一高度处。
[0013]在本专利技术的实施例中,所述光透射构件的第一表面相对于所述光感测层的所述第一表面定位在高于所述第一高度的第二高度处。
[0014]在本专利技术的实施例中,所述光透射构件的透光率大于所述平坦化构件的透光率,并且所述平坦化构件的所述透光率大于所述光阻挡构件的透光率。
[0015]在本专利技术的实施例中,所述光透射构件的所述透光率在大约90%与大约100%之间的范围内,其中,所述平坦化构件的所述透光率在大约50%与大约70%之间的范围内,并且其中,所述光阻挡构件的所述透光率在大约0%与大约10%之间的范围内。
[0016]在本专利技术的实施例中,所述光阻挡构件还包括黑色颜料或染料。
[0017]根据本专利技术的实施例,一种显示装置包括:显示面板;以及指纹传感器,设置在所述显示面板上,其中,所述指纹传感器包括:光感测层,包括光感测元件;以及光学层,包括多个光透射区域、光阻挡区域、设置在所述多个光透射区域中的光透射构件、设置在所述光阻挡区域中的光阻挡构件以及设置在所述光阻挡构件上的平坦化构件,其中,所述光阻挡区域围绕所述多个光透射区域,其中,所述光透射构件的透光率大于所述平坦化构件的透光率,并且所述平坦化构件的透光率大于所述光阻挡构件的透光率,并且其中,所述平坦化构件在厚度方向上与所述光阻挡构件重叠,并且暴露所述光阻挡构件的一部分。
[0018]在本专利技术的实施例中,所述光阻挡构件的由所述平坦化构件暴露的所述一部分设置在所述光透射构件与所述平坦化构件之间,并且围绕所述光透射构件。
[0019]在本专利技术的实施例中,所述平坦化构件的第一表面和所述光阻挡构件的由所述平坦化构件暴露的所述一部分的第一表面相对于所述光感测层的第一表面定位在相同的高度处。
[0020]在本专利技术的实施例中,所述光透射构件包括第一有机材料,其中,所述光阻挡构件包括第二有机材料,并且其中,所述平坦化构件包括第三有机材料和正型感光材料。
[0021]在本专利技术的实施例中,所述光阻挡构件包括凹部,并且所述平坦化构件设置在所述凹部上。
[0022]根据本专利技术的实施例,一种制造指纹传感器的方法包括:在光感测层上形成第一有机材料层;使用蚀刻掩模图案化所述第一有机材料层以形成光透射构件;在所述光透射构件上形成第二有机材料层;在所述第二有机材料层上形成第三有机材料层并且包括正型感光材料;以及蚀刻所述第二有机材料层和所述第三有机材料层以形成光阻挡构件和平坦化构件,其中,所述光透射构件设置在彼此间隔开的多个光透射区域中的每一个光透射区域中,其中,所述光阻挡构件设置在围绕所述多个光透射区域的光阻挡区域中,并且其中,所述平坦化构件设置在所述光阻挡构件上。
[0023]在本专利技术的实施例中,所述蚀刻所述第二有机材料层和所述第三有机材料层通过干蚀刻执行。
[0024]在本专利技术的实施例中,所述方法还包括:在蚀刻所述第二有机材料层和所述第三有机材料层之后,去除所述蚀刻掩模,其中,所述去除所述蚀刻掩模通过湿蚀刻执行。
[0025]在本专利技术的实施例中,所述方法还包括:在形成所述第二有机材料层和所述第三
有机材料层之后,曝光并显影所述第三有机材料层。
[0026]在本专利技术的实施例中,所述光阻挡构件包括凹部,并且所述平坦化构件设置在所述凹部上。
附图说明
[0027]通过参照附图详细描述本专利技术的实施例,本专利技术的以上和其它特征将变得更加明显,在附图中:
[0028]图1是根据本专利技术的实施例的显示装置的透视图;
[0029]图2是根据本专利技术的实施例的指纹传感器的透视图;
[0030]图3是根据本专利技术的实施例的指纹传感器的平面图;
[0031]图4是根据本专利技术的实施例的显示装置的截面图;
[0032]图5是图4的区域A的放大图;
[0033]图6是图5的区域B的放大图;
[0034]图7是根据本专利技术的实施例的显示面板的截面图;
[0035]图8、图9、图10、图11和图12是示出根据本专利技术的实施例的制造显示装置的方法的截面图;...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种指纹传感器,其中,所述指纹传感器包括:光感测层,包括光感测元件;以及光学层,包括多个光透射区域、光阻挡区域、设置在所述多个光透射区域中的光透射构件、设置在所述光阻挡区域中的光阻挡构件以及设置在所述光阻挡构件上的平坦化构件,其中,所述光阻挡区域围绕所述多个光透射区域,其中,所述光透射构件包括第一有机材料,其中,所述光阻挡构件包括第二有机材料,并且其中,所述平坦化构件包括第三有机材料和正型感光材料。2.根据权利要求1所述的指纹传感器,其中,所述平坦化构件在厚度方向上与所述光阻挡构件重叠,并且暴露所述光阻挡构件的一部分。3.根据权利要求2所述的指纹传感器,其中,所述光阻挡构件的由所述平坦化构件暴露的所述一部分设置在所述光透射构件与所述平坦化构件之间,并且其中,所述光阻挡构件至少部分地围绕所述光透射构件。4.根据权利要求1所述的指纹传感器,其中,所述光阻挡构件还包括凹部,并且所述平坦化构件设置在所述凹部上。5.根据权利要求4所述的指纹传感器,其中,所述平坦化构件暴露所述光阻挡构件的一部分,并且所述平坦化构件的第一表面和所述光阻挡构件的由所述平坦化构件暴露的所述一部分的第一表面相对于所述光感测层的第一表面定位在相同的第一高度处,并且其中,所述光透射构件的第一表面相对于所述光感测层的所述第一表面定位在高于所述第一高度的第二高度处。6.一种显示装置,其中,所述显示装置包括:显示面板;以及指纹传感器,设置在所述显示面板上,其中,所述指纹传感器包括:光感测层,包括光感测元件;以及光学层,包括多个光透射区域、光阻挡区域、设置在...

【专利技术属性】
技术研发人员:金是广
申请(专利权)人:三星显示有限公司
类型:发明
国别省市:

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