光气化反应生产中的循环溶剂及其除杂方法技术

本发明专利技术属于光气化反应过程杂质分离技术领域，具体涉及一种光气化反应生产中的循环溶剂及其除杂方法；除杂方法包括：(1)将粗溶剂精馏处理；(2)塔顶采出气相料流I，经冷凝后气液两相分离；所得液相料流II全部回流至塔顶，所得气相料流II进入尾气处理系统；(3)塔釜采出的液相料流I分为返回塔釜的液相料流III和送至溶剂反应釜的液相料流IV；(4)溶剂反应釜中加入胺类化合物，与液相料流IV反应；所得物料进行固液分离，液体产物作为循环溶剂直接回用。本发明专利技术的除杂方法可保证循环溶剂中胺消耗类物质总量被合理控制，降低了光气化反应中固体副产物生成，减轻原料在运输、储存中的堵塞，延长装置稳定运行时间，提升产物品质。提升产物品质。提升产物品质。

【技术实现步骤摘要】
光气化反应生产中的循环溶剂及其除杂方法


[0001]本专利技术属于光气化反应过程杂质分离
，具体涉及一种光气化反应生产中的循环溶剂及其除杂方法。

技术介绍

[0002]液相光气法生产二苯基甲烷二异氰酸酯(MDI)的过程中，为提高光气和二氨基二苯甲烷(MDA)的混合效果及反应效果，需同时在光气和MDA中添加大量的有机溶剂，例如，氯苯(MCB)、邻二氯苯(ODCB)等，然后在反应结束后通过蒸馏或精馏等方式将该有机溶剂与异氰酸酯产品进行分离，分离所得溶剂可以重新回用至光气化反应系统。
[0003]然而在此过程中，回用溶剂时不可避免地会带入一些可与体系中作为原料的胺类物质进行反应的杂质，这类杂质例如包括：光气、氯化氢、异氰酸酯类物质、酰氯类物质等。因此，在采用液相光气法生产MDI的过程中，需要对回收溶剂进行净化除杂。
[0004]专利文件EP-A-1073628公开了一种采用相应的胺与光气的混合物在溶剂存在下利用两步法生产二苯基甲烷二异氰酸酯和多苯基多亚甲基多异氰酸酯(称为聚MDI)混合物的方法，在两步反应后，采用蒸馏的方式将过量本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光气化反应生产中的循环溶剂，其特征在于，包括：胺消耗类物质和光气化反应生产所用的有机溶剂；所述胺消耗类物质包括：氯化氢、光气、带有NCO基团的物质和带有COCl基团的物质中的一种或多种；以循环溶剂的总重量为基准计，所述胺消耗类物质的含量为0.2-5000ppm，优选为1-2000ppm，更优选为10-300ppm。2.根据权利要求1所述的循环溶剂，其特征在于，所述有机溶剂选自间苯二甲酸乙酯、苯、甲苯、二甲苯、氯苯和邻二氯苯中的一种或多种，优选为氯苯和/或邻二氯苯，更优选为氯苯。3.一种如权利要求1或2所述的循环溶剂的除杂方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)将光气化反应后经初步蒸馏得到的粗溶剂进行预热，然后通入溶剂精制塔(C01)进行精馏处理；(2)所述溶剂精制塔(C01)的塔顶采出气相料流I，经冷凝后进行气液两相分离；分离所得液相料流II全部回流至溶剂精制塔(C01)的塔顶；(3)所述溶剂精制塔(C01)的塔釜采出液相料流I并分为液相料流III和液相料流IV，其中，液相料流III经再沸器加热后回流至塔釜，液相料流IV采出并送至溶剂反应釜(R01)；(4)在所述溶剂反应釜(R01)中加入胺类化合物，与所述液相料流IV进行反应；将反应后的物料进行固液两相分离，分离所得固体产物采出，分离所得液体产物作为所述循环溶剂直接回用于光气化反应工序。4.根据权利要求3所述的除杂方法，其特征在于，步骤(1)所述预...

【专利技术属性】
技术研发人员：王振有，陈良进，徐丹，文放，吴雪峰，马海洋，张宏科，
申请(专利权)人：万华化学宁波有限公司，
类型：发明
国别省市：