一种采用衰减片的光调制结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种采用衰减片的光调制结构，包括光发射装置和杂散光过滤结构，所述杂散光过滤结构设置在光发射装置的出光端，所述光发射装置出射光束，所述光束经过所述杂散光过滤结构后形成光工作区；所述杂散光过滤结构包括至少一个衰减片，所述衰减片上开设有供所述光束通过的通孔，所述通孔在所述光束的光轴延伸方向上的投影面积限定所述光束的通过面积，所述投影面积之外的光束及杂散光被所述衰减片过滤。所述采用衰减片的光调制结构过滤杂散光的效果更好。滤杂散光的效果更好。滤杂散光的效果更好。

【技术实现步骤摘要】
一种采用衰减片的光调制结构


[0001]本技术涉及光学测量装置
，更准确的说涉及一种采用衰减片的光调制结构。

技术介绍

[0002]光学测量装置需要对其光学系统中的杂散光进行处理。对于成像光学系统，任何非希望但经传播后到达探测器面的光线均为杂散光；对于非成像光学系统，任何成像或其他非预期的光线传播形成的光斑等均为杂散光。如果不能有效地抑制光学系统中的杂散光，光学测量装置的测量精度会受到严重的干扰。现有技术中一般通过在光学系统中添加光阑的方式来过滤杂散光，光阑设置在光发射装置和光工作区之间。但是，光阑在过滤杂散光的过程中存在部分光被反射的缺陷，且经过光阑后光束传播过程中不可避免的依旧存在杂散光。可见，本领域需要一种能够更加有效地过滤杂散光的结构。

技术实现思路

[0003]有鉴于此，本技术的目的在于提供一种采用衰减片的光调制结构，通过至少一个衰减片来过滤杂散光，以提高对杂散光的过滤效果。
[0004]为了达到上述目的，本技术提供一种采用衰减片的光调制结构，包括光发射装置和杂散光过滤结构，所述杂散光过滤结构设置在光发射装置本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种采用衰减片的光调制结构，其特征在于，包括光发射装置和杂散光过滤结构，所述杂散光过滤结构设置在光发射装置的出光端，所述光发射装置出射光束，所述光束经过所述杂散光过滤结构后形成光工作区；所述杂散光过滤结构包括至少一个衰减片，所述衰减片上开设有供所述光束通过的通孔，所述通孔在所述光束的光轴延伸方向上的投影面积限定所述光束的通过面积，所述投影面积之外的光束及杂散光被所述衰减片过滤。2.如权利要求1所述的采用衰减片的光调制结构，其特征在于，当所述衰减片多于一个时，若干所述衰减片沿所述光束的传播方向依次排布。3.如权利要求2所述的采用衰减片的光调制结构，其特征在于，沿所述光束传播方向，后一个所述通孔在所述光束光轴方向上的投影面积不大于前一个所述通孔在所述光束光轴方向上的投影面积。4.如权利要求2所述的采用衰减片的光调制结构，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：王少永，惠旅锋，
申请(专利权)人：苏州苏信环境科技有限公司，
类型：新型
国别省市：