一种控制清洗液滴溢流与气氛调节的装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种控制清洗液滴溢流与气氛调节的装置，涉及到单晶体清洗的技术领域，包括：安装座、第一喷淋装置、第二喷淋装置、第三喷淋装置、夹持装置及废液收集机构，安装座上设有废液收集机构，废液收集机构开设有安装槽，安装槽内设有放置机构，放置机构上设有夹持装置，废液收集机构的两侧分别设有第一喷淋装置及第二喷淋装置，废液收集机构的一端设有第三喷淋装置，第一喷淋装置、第二喷淋装置及第三喷淋装置均位于安装座的上端。三个喷淋装置对晶体全方面进行喷淋，反应更加均匀全面，夹持装置夹持晶体按圆周进行运动，使得晶体能够全方面的接受三个喷淋装置的喷淋进行反应，结构简单，操作方便，协调性高。协调性高。协调性高。

【技术实现步骤摘要】
一种控制清洗液滴溢流与气氛调节的装置


[0001]本专利技术涉及到单晶体清洗的
，尤其涉及到一种控制清洗液滴溢流与气氛调节的装置。

技术介绍

[0002]在单晶圆清洗过程，通常透过集成配置的喷淋装置进行圆弧式的摆动与中心旋转的晶圆进行相对的旋转配置动作，构成对清洗液或是化学反应溶液进行均匀化的扩散动作。
[0003]然而在相对应的动作需要搭配腔体的相位移动与中心晶圆承载平台的协调性动作互相搭配在晶圆洗边的工艺配置有别于一般的喷淋系统的设计方法需要考虑化学品喷淋过程搭配晶圆的旋转动作，配合不协调，使用非常不方便。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种控制清洗液滴溢流与气氛调节的装置，用于解决上述技术问题。
[0005]本专利技术采用的技术方案如下：
[0006]一种控制清洗液滴溢流与气氛调节的装置，包括安装座、第一喷淋装置、第二喷淋装置、第三喷淋装置、夹持装置及废液收集机构，所述安装座上设有所述废液收集机构，所述废液收集机构开设有安装槽，所述安装槽内设有放置机构，所述放置机构上设有所本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种控制清洗液滴溢流与气氛调节的装置，其特征在于，包括安装座、第一喷淋装置、第二喷淋装置、第三喷淋装置、夹持装置及废液收集机构，所述安装座上设有所述废液收集机构，所述废液收集机构开设有安装槽，所述安装槽内设有放置机构，所述放置机构上设有所述夹持装置，所述废液收集机构的两侧分别设有所述第一喷淋装置及所述第二喷淋装置，所述废液收集机构的一端设有所述第三喷淋装置，所述第一喷淋装置、所述第二喷淋装置及所述第三喷淋装置均位于所述安装座的上端；所述第三喷淋装置包括第三支撑架、第三连接座、旋转电机及第三喷头，所述废液收集机构的一侧设有所述第三连接座，所述第三连接座的上端设有所述第三支撑架，所述第三支撑架靠近所述放置机构的一端开设有放置槽，所述放置槽内设有所述旋转电机，所述旋转电机靠近所述放置机构的一端设有所述第三喷头，所述第三喷头与所述旋转电机的伸缩杆连接。2.如权利要求1所述的一种控制清洗液滴溢流与气氛调节的装置，其特征在于，所述第一喷淋装置包括第一支撑架、第一连接座及第一喷头，所述安装座的上端设有所述第一连接座，所述第一连接座位于所述废液收集机构的一侧，所述第一连接座的上端设有所述第一支撑架，所述第一支撑架的下端可转动地设有所述第一喷头。3.如权利要求2所述的一种控制清洗液滴溢流与气氛调节的装置，其特征在于，所述第二喷淋装置包括第二支撑架、第二连接座及第二喷头，所述安装座的上端设有所述第二连接座，所述第二连接座设于所述废液收集机构远离所述第一连接座的一侧，所述第二连接座的上端设有所述第二支撑架，所述第二支撑架靠近所述放置机构的一侧可转动地设有所述第二喷头。4....

【专利技术属性】
技术研发人员：刘大威，毛明军，邓信甫，徐铭，
申请(专利权)人：至微半导体上海有限公司，
类型：发明
国别省市：