噻二唑系列高折射率单体及其应用制造技术

本发明专利技术涉及噻二唑系列高折射率单体及其应用，所述单体具有如下式Ⅰ或者式Ⅱ化学结构：其中，R为含氧或含硫的化学基团，所述化学基团包括环氧类基团、环硫类基团、含氧的杂环烷烃类基团、烯基、烯酯类基团、烯酰胺类基团、氨基烯酯类基团中的一种；其中，A为噻二唑类基团、苯基、苯硫醚类基团、噻吩类基团、芴类基团中的一种；所得单体的折射率大于1.60；所得单体应用于光电子行业的封装材料、光学材料中，应用时将式Ⅰ或式Ⅱ化学结构的单体与光引发剂配制成全固含量聚合体系进行固化聚合制成相应材料使用，固化后得到的材料具有1.62以上的折射率以及90％以上的透光性。率以及90％以上的透光性。

【技术实现步骤摘要】
噻二唑系列高折射率单体及其应用


[0001]本专利技术涉及有机化合物分子设计及合成
，具体涉及噻二唑系列高折射率单体及其应用。

技术介绍

[0002]含硫类高分子材料由于具有高折射、低色散的特点受到人们的重视。一般情况下，通过路线设计，增加分子结构中的含硫量可以增加相应材料的折射率。CN1421445A和CN101787014A分别合成了两种六元含硫杂环，得到了比较高的折射率。但从报道来看，其合成工艺比较复杂，不易进行大规模生产。
[0003]噻二唑硫酚是一种经济易得的高折射率医药中间体，同时又有很好的耐热性和低色散(相对于苯环)。专利CN101481360提出了一种含噻二唑结构的高折射率单体，但这种单体中只含有一个噻二唑五元环，限制了单体的折射率(该系列化合物最高折射率只有1.6)。专利CN102015837A报道了一种硫醇
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乙烯
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纳米颗粒胶体的三组分体系的高分子材料，然而该方法中第二步水解后的样品不易存储，必须现做现用，且第三步的交联反应需要3天，固化速度慢，产品生产周期长且不能堆叠，另本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.噻二唑系列高折射率单体，其特征在于，具有如下式Ⅰ或者式Ⅱ化学结构：其中，R为含氧或含硫的化学基团，所述化学基团包括环氧类基团、环硫类基团、含氧的杂环烷烃类基团、含双键的基团中的一种；其中，A为噻二唑类基团、苯基、苯硫醚类基团、噻吩类基团、芴类基团中的一种。2.根据权利要求1所述的噻二唑系列高折射率单体，其特征在于，所述含双键的基团包括烯基、烯酯类基团、烯酰胺类基团、氨基烯酯类基团中的一种。3.根据权利要求1所述的噻二唑系列高折射率单体，其特征在于，A为噻二唑基团、苯基、二苯硫醚基团、噻吩基团、二苯芴基中的一种。4.根据权利要求1
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3任一项所述的噻二唑系列高折射率单体，其特征在于，所述R具体为如下化学结构中的一种：其中，X为氧原子或硫原子，Y为氧原子或硫原子。5.根据权利要求1
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4任一项所述的噻二唑系列高折射率单体在光电子行业的封装材料、光学材料中的应用，其特征在于，应用时将式Ⅰ或式Ⅱ化学结构的所述噻二唑...

【专利技术属性】
技术研发人员：万晓君，朱晓群，聂俊，
申请(专利权)人：江苏集萃光敏电子材料研究所有限公司，
类型：发明
国别省市：