具有高相对反馈的激光源及其制造方法技术

技术编号:3313807 阅读:169 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及使广泛用于光通信领域的高功率半导体激光二极管光源稳定化。这种激光器多数用作光纤放大器,例如掺铒光纤放大器的所谓泵浦激光源,并且其被设计成在给定的频段内提供具有稳定功率输出的窄带光辐射。为了在离开有源温度稳定元件进行工作时改善这种激光源的波长锁定范围,使用了具有很高的相对反馈的外部反射器。为了改善该激光源的稳定性,该外部反射器的反射率带宽可展宽。在通常使用的用于引导激光束的光纤中,通过一个或多个适当设计的光纤布拉格光栅形成该外部反射器。(*该技术在2024年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及激光器的稳定性,特别是普遍应用在光电子学中的半导体二极管激光器类型,其多数为光通信领域中用于光纤放大器(例如掺铒光纤放大器)的所谓泵浦激光器。这种激光器被设计成在给定的频带内提供具有稳定功率输出的窄带宽光辐射。尤其是,本专利技术涉及一种使用具有非常高相对反馈的外部反射器的激光器,从而该激光器无需有源温度稳定元件就可以稳定工作。
技术介绍
例如上面提到的半导体激光器类型在光通信技术中成为重要的装置,尤其是因为这种激光器可用于直接通过光学装置放大光信号。这允许设计全光光纤通信系统,避免待传输信号的任何复杂的转换,从而可提高系统内的速度和可靠性。在一类光纤通信系统中,激光器被用作泵浦掺铒光学放大器,称作EDFA,这已经在本领域技术人员熟悉的多个专利和出版物中有所描述。其技术意义的一个例子在于具有100mW或更大功率输出的980nm激光器,其波长与980nm铒吸收线相匹配,并由此获得低噪声放大。已经发现InGaAs激光器能较好地实现该目的,并且目前已经大量使用这种激光器。然而,本专利技术决不局限于InGaAs激光器。还有本专利技术可应用到其它波长和材料的激光器的一些例子。通本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于在给定波长处产生稳定出射光束(10)的高功率激光源,所述激光源包括激光二极管(1)和用于引导激光束(4)的导光装置(7,8,9),所述的激光二极管包括反射前端面(2),以及所述的导光装置包括至少一个反射器(8),其中--所述 反射器(9)具有以所述出射光束(10)的所需波长为中心的反射率R↓[FBG],--所述前端面(2)具有反射率R↓[F],朝向所述导光装置(7,8,9),--选择所述反射率R↓[FBG]和R↓[F],以获得预定的相对反馈   r↓[FB]=k*R↓[FBG]/R↓[F]>1,k是在所述导光装置(7,8,9)中由耦合...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:N马图谢克S莫尔迪克T普利斯卡
申请(专利权)人:波科海姆技术公共有限公司
类型:发明
国别省市:GB[英国]

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