聚酯光学基膜及其应用制造技术

本发明专利技术涉及一种聚酯光学基膜及其应用。该聚酯光学基膜包括依次层叠设置的第一聚酯表层、聚酯芯层以及第二聚酯表层，其中，第一聚酯表层和第二聚酯表层中还分布有粒径为50nm

【技术实现步骤摘要】
聚酯光学基膜及其应用


[0001]本专利技术涉及薄膜
，特别是涉及聚酯光学基膜及其应用。

技术介绍

[0002]传统的聚酯光学基膜通常具有A/B/A三层一体化结构，为了提高聚酯光学基膜的抗粘连性，从而方便分切、包装、运输以及深加工，通常在A层中加入抗粘连粒子，为了防止抗粘连粒子团聚，传统的抗粘连粒子的粒径通常为微米级，聚酯光学基膜的表面粗糙度为亚微米级，因此，传统的聚酯光学基膜难以满足片状多层陶瓷电容器离型膜或光学胶离型膜等低表面粗糙度的应用场景中。
[0003]另外，传统的抗粘连粒子难以在A层中均匀分散，易聚集形成大尺寸颗粒，导致在膜拉伸过程中易形成空隙，同时，传统的抗粘连粒子的折光指数与A层的聚酯基材的折光指数相差较大，导致聚酯光学基膜的透明性遭到破坏，透光率降低、雾度增大。

技术实现思路

[0004]基于此，有必要针对上述问题，提供一种聚酯光学基膜及其应用，该聚酯光学基膜具有低表面粗糙度，适用于片状多层陶瓷电容器离型膜或光学胶离型膜等低表面粗糙度的应用场景，另外，该聚酯光学基膜还保持优异的抗粘结性能、透光率以本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种聚酯光学基膜，其特征在于，包括依次层叠设置的第一聚酯表层、聚酯芯层以及第二聚酯表层，其中，所述第一聚酯表层和所述第二聚酯表层中还分布有粒径为50nm
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400nm的复合微球，所述复合微球包括无机粒子以及接枝于所述无机粒子表面的丙烯酸酯聚合物，所述丙烯酸酯聚合物的折光指数大于所述无机粒子的折光指数，且小于聚酯的折光指数，所述聚酯光学基膜的表面粗糙度为15nm
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50nm。2.根据权利要求1所述的聚酯光学基膜，其特征在于，所述无机粒子的粒径为20nm
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300nm。3.根据权利要求1所述的聚酯光学基膜，其特征在于，所述无机粒子选自二氧化硅。4.根据权利要求1所述的聚酯光学基膜，其特征在于，所述丙烯酸酯聚合物包括聚丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸乙酯或聚甲基丙烯酸乙酯中的至少一种。5.根据权利要求1所述的聚酯光学基膜，其特征在于，所述复合微球在所述第一聚酯表层和所述第二聚酯表层中的质量分数均为0.45％
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10％。...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴思瑶，周玉波，王绪，陈程虹，金亚东，
申请(专利权)人：宁波长阳科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：