去污抛光擦制造技术

本实用新型专利技术是一种用于为各种陶瓷、搪瓷、金属等制品去污抛光的擦刷，属刷类制品。本实用新型专利技术由纤维托板和石膏、白水泥，防水剂，氧化铝粉及粘合剂或粘合剂及氧化铝金刚玉涂层组成，可用于各种金属器皿，电镀家具的去污和抛光。（*该技术在1998年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种去污抛光擦，由托板１及吸附在托板上的涂层２构成，其特征在于，所说的涂层由粘合剂，防水剂，石膏，白水泥和氧化铝粉构成，或用粘合剂和氧化剂金刚玉粉构成。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：迟耀中，
申请(专利权)人：迟耀中，
类型：实用新型
国别省市：11[中国|北京]