一种EDFA中混合Bypass光学结构制造技术

本发明专利技术涉及光通信技术领域，提供了一种EDFA中混合Bypass光学结构。使用第一泵浦激光器正向泵浦第一段铒纤；使用第二合分器，将第一泵浦激光器发出的且经过第一段铒纤后的第一残余泵浦光卸下；所述第一残余泵浦光和第二泵浦激光器进入四端口泵浦耦合器，完成功率耦合后分别按配比比例传递正向再分配泵浦光到第二段铒纤,以及反向再分配泵浦光给第三段铒纤。本发明专利技术通过巧妙设计光路充分利用残余泵浦光，提高泵浦利用率，而且避免残余泵浦光的泄露和对光器件的损伤甚至损坏。露和对光器件的损伤甚至损坏。露和对光器件的损伤甚至损坏。

【技术实现步骤摘要】
一种EDFA中混合Bypass光学结构


[0001]本专利技术涉及光通信
，特别是涉及一种EDFA中混合Bypass光学结构。

技术介绍

[0002]随着当前通信技术的发展，对于EDFA产品的小型化要求越来越高；不仅要求EDFA产品在有限的空间内放置所需的光器件、电器件、铒纤、机械件等器件，同时还需要降低产品整体功耗。这就需要在尽可能选用少的器件基础上，尽可能充分地提高泵浦利用率，因此，在满足光学指标基础上提高泵浦利用率非常有必要。
[0003]为了规避残余泵浦光的泄露或者对光器件的损伤甚至损坏，通常需要单独使用波分器将残余泵浦光卸下,如图1所示，这样的方案不仅会浪费泵浦光导致泵浦效率低，而且还额外引入波分器导致光学指标劣化。
[0004]鉴于此，克服该现有技术所存在的缺陷是本
亟待解决的问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术实施例要解决的技术问题是现有技术中规避残余泵浦光的泄露或者对光器件的损伤甚至损坏的方案，不仅会浪费泵浦光导致泵浦效率低，而且还额外引入波分器导致光学指标劣化的问题。
[0006]本专利技术实施例采用如下技术方案：
[0007]第一方面，本专利技术提供了一种EDFA中混合Bypass光学结构，包括：
[0008]使用第一泵浦激光器1
‑
1正向泵浦第一段铒纤3
‑
1；
[0009]使用第二合分器2
‑
2，将第一泵浦激光器1
‑
1发出的且经过第一段铒纤3
‑
1后的第一残余泵浦光卸下；
[0010]所述第一残余泵浦光和第二泵浦激光器1
‑
2进入四端口泵浦耦合器5，完成功率耦合后分别按配比比例传递正向再分配泵浦光到第二段铒纤3
‑
2,以及反向再分配泵浦光给第三段铒纤3
‑
3；
[0011]其中，四端口泵浦耦合器5的四端口分别与位于第一段铒纤3
‑
1之后的第二合分器2
‑
2，位于第二段铒纤3
‑
2之前的第三合分器2
‑
3，第二泵浦激光器1
‑
2，以及位于第三段铒纤3
‑
3之后的第六合分器2
‑
6相连；
[0012]其中，主光路路按照信号光传播方向依次串接有所述第一段铒纤3
‑
1、第二段铒纤3
‑
2和第三段铒纤3
‑
3。
[0013]优选的，四端口泵浦耦合器5还用于滤掉第一残余泵浦光中的信号光，避免残余泵浦光中的信号光进入主光路中，和主光路中的信号光造成多径干涉从而劣化光学指标。
[0014]优选的，所述四端口泵浦耦合器5还用于将正向再分配泵浦光和反向再分配泵浦光两者的残余功率耦合后按照选择的配比关系将泵浦功率再次分配，重新分配的泵浦功率分别反向泵浦第一段铒纤3
‑
1和进入第二泵浦激光器1
‑
2。
[0015]优选的，所述四端口泵浦耦合器5还用避免泵浦光残余的泄露，避免泵浦光残余进
入主光路中损伤光器件。
[0016]优选的，各段掺铒光纤经由四端口泵浦耦合器5获取到的泵谱功率具体表现为：
[0017]正向第二段铒纤获得的泵谱功率为第二泵浦光*x％+第一泵浦光残余*y％；
[0018]反向第三段铒纤获得的泵谱功率为第二泵浦光*y％+第一泵浦光残余*x％；
[0019]反向第一段铒纤获得的泵谱功率为正向再分配泵浦光残余*x％+反向再分配泵浦光残余*y％；
[0020]进入第二泵浦激光器功泵谱功率正向再分配泵浦光残余*y％+反向再分配泵浦光残余*x％。
[0021]第二方面，本专利技术提供了一种EDFA中混合Bypass光学结构，包括：
[0022]使用第一泵浦激光器1
‑
1正向泵浦第一段铒纤3
‑
1；
[0023]使用第四合分器2
‑
4，将第一泵浦激光器1
‑
1发出的且经过第一段铒纤3
‑
1和第二段铒纤3
‑
2后的第一残余泵浦光卸下；
[0024]所述第一残余泵浦光和第二泵浦激光器1
‑
2进入四端口泵浦耦合器5，完成功率耦合后分别按配比比例传递反向再分配泵浦光到第二段铒纤3
‑
2,以及正向再分配泵浦光给第三段铒纤3
‑
3；
[0025]其中，四端口泵浦耦合器5的四端口分别与位于第二段铒纤3
‑
2之后的第四合分器2
‑
4，位于第三段铒纤3
‑
3之前的第五合分器2
‑
5，第二泵浦激光器1
‑
2，以及位于第三段铒纤3
‑
3之后的第六合分器2
‑
6相连；
[0026]其中，主光路路按照信号光传播方向依次串接有所述第一段铒纤3
‑
1、第二段铒纤3
‑
2和第三段铒纤3
‑
3。
[0027]优选的，四端口泵浦耦合器5还用于滤掉第一残余泵浦光中的信号光，避免残余泵浦光中的信号光进入主光路中，和主光路中的信号光造成多径干涉从而劣化光学指标。
[0028]优选的，所述四端口泵浦耦合器5还用于将正向再分配泵浦光和反向再分配泵浦光两者的残余功率耦合后按照选择的配比关系将泵浦功率再次分配，重新分配的泵浦功率分别反向泵浦第一段铒纤3
‑
1和进入第二泵浦激光器1
‑
2。
[0029]优选的，所述四端口泵浦耦合器5还用避免泵浦光残余的泄露，避免泵浦光残余进入主光路中损伤光器件。
[0030]优选的，各段掺铒光纤经由四端口泵浦耦合器5获取到的泵谱功率具体表现为：
[0031]正向第二段铒纤获得的泵谱功率为第二泵浦光*x％+第一泵浦光残余*y％；
[0032]反向第三段铒纤获得的泵谱功率为第二泵浦光*y％+第一泵浦光残余*x％；
[0033]反向第一段铒纤获得的泵谱功率为正向再分配泵浦光残余*x％+反向再分配泵浦光残余*y％；
[0034]进入第二泵浦激光器功泵谱功率正向再分配泵浦光残余*y％+反向再分配泵浦光残余*x％。
[0035]与现有技术相比，本专利技术实施例的有益效果在于：
[0036]本专利技术在不增加成本的基础上，通过巧妙设计光路充分利用残余泵浦光，提高泵浦利用率，而且避免残余泵浦光的泄露和对光器件的损伤甚至损坏；本专利技术可以通过控制可选器件四端口泵浦光耦合器的分光比例来调节泵浦光进入不同铒纤段的功率，从而达到满足需求的光学指标。
【附图说明】
[0037]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种EDFA中混合Bypass光学结构，其特征在于，包括：使用第一泵浦激光器(1
‑
1)正向泵浦第一段铒纤(3
‑
1)；使用第二合分器(2
‑
2)，将第一泵浦激光器(1
‑
1)发出的且经过第一段铒纤(3
‑
1)后的第一残余泵浦光卸下；所述第一残余泵浦光和第二泵浦激光器(1
‑
2)进入四端口泵浦耦合器(5)，完成功率耦合后分别按配比比例传递正向再分配泵浦光到第二段铒纤(3
‑
2),以及反向再分配泵浦光给第三段铒纤(3
‑
3)；其中，四端口泵浦耦合器(5)的四端口分别与位于第一段铒纤(3
‑
1)之后的第二合分器(2
‑
2)，位于第二段铒纤(3
‑
2)之前的第三合分器(2
‑
3)，第二泵浦激光器(1
‑
2)，以及位于第三段铒纤(3
‑
3)之后的第六合分器(2
‑
6)相连；其中，主光路路按照信号光传播方向依次串接有所述第一段铒纤(3
‑
1)、第二段铒纤(3
‑
2)和第三段铒纤(3
‑
3)。2.根据权利要求1所述的EDFA中混合Bypass光学结构，其特征在于，四端口泵浦耦合器(5)还用于滤掉第一残余泵浦光中的信号光，避免残余泵浦光中的信号光进入主光路中，和主光路中的信号光造成多径干涉从而劣化光学指标。3.根据权利要求1所述的EDFA中混合Bypass光学结构，其特征在于，所述四端口泵浦耦合器(5)还用于将正向再分配泵浦光和反向再分配泵浦光两者的残余功率耦合后按照选择的配比关系将泵浦功率再次分配，重新分配的泵浦功率分别反向泵浦第一段铒纤(3
‑
1)和进入第二泵浦激光器(1
‑
2)。4.根据权利要求1所述的EDFA中混合Bypass光学结构，其特征在于，所述四端口泵浦耦合器(5)还用避免泵浦光残余的泄露，避免泵浦光残余进入主光路中损伤光器件。5.根据权利要求1所述的EDFA中混合Bypass光学结构，其特征在于，各段掺铒光纤经由四端口泵浦耦合器(5)获取到的泵谱功率具体表现为：正向第二段铒纤获得的泵谱功率为第二泵浦光*x％+第一泵浦光残余*y％；反向第三段铒纤获得的泵谱功率为第二泵浦光*y％+第一泵浦光残余*x％；反向第一段铒纤获得的泵谱功率为正向再分配泵浦光残余*x％+反向再分配泵浦光残余*y％；进入第二泵浦激光器功泵谱功率正向再分配泵浦光残余*y％+反向再分配泵浦光残余*x％。6.一种EDFA中混合Bypass光学结构...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓福星，陈志，陈俊，张亚洲，万琼，杜刚，
申请(专利权)人：武汉光迅科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：