一种等离子体喷涂涂层工艺参数的确定方法技术

本发明专利技术涉及一种等离子体喷涂涂层工艺参数的确定方法，属于等离子体喷涂熔滴沉积技术领域。解决了传统分析手段无法具体分析单个粒子在喷涂过程中的变化情况。本发明专利技术的检测方法包括以下步骤：步骤1、设计单粒子溅射母材样品，并计算单粒子溅射母材样品尺寸；步骤2、将单粒子溅射母材样品打磨抛光；步骤3、通过等离子体喷涂工艺在单粒子溅射母材样品表面喷涂单层熔滴，形成一层单粒子溅射层；步骤4、观察单粒子溅射层的微观形貌；步骤5、判断单粒子溅射层微观形貌是否存在半熔融和未熔融的单颗粒；然后根据实际情况进行优化等离子体喷涂工艺参数。本发明专利技术建立了喷涂工艺参数与涂层微观形貌的量化关系，提高了喷涂工艺参数确定的效率。率。率。

【技术实现步骤摘要】
一种等离子体喷涂涂层工艺参数的确定方法


[0001]本专利技术涉及等离子体喷涂
，尤其涉及一种等离子体喷涂涂层工艺参数的确定方法。

技术介绍

[0002]通过等离子喷涂技术制得的涂层中存在着大量孔洞、微观裂纹、未熔及半熔颗粒。这些组织的存在对涂层的性能有着很大的影响。大量的氧化物、颗粒、孔隙夹杂在涂层中。
[0003]现有的等离子体喷涂涂层的分析手段是直接采用扫描电镜对涂层形貌进行观察，无法具体分析单个粒子在喷涂过程中的变化情况，进而无法从微观角度分析判断涂层沉积过程的熔化状态。

技术实现思路

[0004]鉴于上述的分析，本专利技术旨在提供一种等离子体喷涂涂层工艺参数的确定方法，用以解决现有技术直接采用扫描电镜对等离子体喷涂涂层形貌进行观察，而无法具体分析单个粒子在喷涂过程中的变化情况的技术问题。
[0005]本专利技术的目的主要是通过以下技术方案实现的：
[0006]本专利技术提供了一种等离子体喷涂涂层工艺参数的确定方法，该方法包括以下步骤：
[0007]步骤1、设计单粒子溅射母材样品，并本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种等离子体喷涂涂层工艺参数的确定方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1、根据等离子体喷涂距离以及等离子体喷涂扩散角确定单粒子溅射母材样品尺寸；步骤2、将单粒子溅射母材样品进行打磨抛光；步骤3、通过预设的等离子体喷涂工艺参数在单粒子溅射母材样品表面喷涂单层熔滴，形成一层单粒子溅射层；步骤4、清理所述单粒子溅射层，通过电子扫描显微镜观察单粒子溅射层的微观形貌；步骤5、判断单粒子溅射层微观形貌是否存在半熔融和未熔融的单颗粒；如存在，确定喷涂工艺参数不合理，调整等离子体喷涂工艺参数，提供另一单粒子溅射母材样品，在另一单粒子溅射母材样品表面喷涂单层熔滴，形成一层单粒子溅射层；重复步骤4至步骤5，直至确定喷涂工艺参数合理；如不存在，确定预设的等离子体喷涂工艺参数合理。2.根据权利要求1所述的等离子体喷涂涂层工艺参数的确定方法，其特征在于，在所述步骤1中，单粒子溅射母材样品材质采用1Cr18Ni9Ti；所述单粒子溅射母材样品的形状为圆状片体结构。3.根据权利要求1所述的等离子体喷涂涂层工艺参数的确定方法，其特征在于，在所述步骤1中，单粒子溅射母材样品尺寸包括单粒子溅射母材样品的直径和厚度，计算公式为：步骤1中，单粒子溅射母材样品尺寸包括单粒子溅射母材样品的直径和厚度，计算公式为：其中：
‑
单粒子溅射母材样品直径(mm)；δ－单粒子溅射母材样品厚度(mm)；d－等离子体喷涂距离(mm)；α－等离子体喷涂扩散角(
°
)，其中陶瓷粉体α＝20
°
，合金粉体α＝13
°
，陶瓷合金混合粉体α＝15
°
。4.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：田伟智，高鑫，杨茗佳，周广伟，
申请(专利权)人：北京星航机电装备有限公司，
类型：发明
国别省市：