【技术实现步骤摘要】
一种模板清洗剂及其制备方法和应用
[0001]本申请属于清洗
，尤其涉及一种模板清洗剂及其制备方法和应用。
技术介绍
[0002]纳米压印模板是纳米压印光刻技术最重要的一部分，模板的图形质量也直接决定着最终压印图形的质量。
[0003]如在制作用于混合现实光波导时，采用纳米压印的技术工艺，用于光波导的光栅周期一般都在百纳米左右，由于模板和胶的力学作用，在脱模时容易在模板表面产生残留，尤其是多次反复压印的过程影响会越来越大。模板表面的清洁度对于压印数百纳米的结构的准确性至关重要，因此模板的清洗效果对于纳米压印的效果影响重大。
[0004]目前模板清洁采用的主要是清洗液浸泡的方法，主要是采用如下方法进行清洗：
[0005](1)食人鱼洗液，即30％H2O2和98％H2SO4按照1:3的比例混合，100℃浸泡30min，去离子水冲洗，氮气吹干；
[0006](2)饱和氢氧化钠溶液浸泡15min，去离子水冲洗，50％浓硫酸浸泡半小时，去离子水冲洗，氮气吹干；
[0007](3)有机溶剂丙...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种模板清洗剂，其特征在于，包括如下重量百分浓度的组分：其中，所述极性溶剂用于溶解所述氧化剂、所述第一有机酸以及所述第二有机酸；所述第一有机酸与所述第二有机酸种类不同。2.如权利要求1所述的模板清洗剂，其特征在于，所述氧化剂包括无机过氧化物或/和有机过氧化物。3.如权利要求2所述的模板清洗剂，其特征在于，所述无机过氧化物包括双氧水、次氯酸、次氯酸盐、过氧化物中的至少一种；所述有机过氧化物包括过氧化苯甲酰、过氧化环己酮、过醋酸中的至少一种。4.如权利要求1
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3任一项所述的模板清洗剂，其特征在于，所述第一有机酸的酸性弱于所述第二有机酸的酸性。5.如权利要求4任一项所述的模板清洗剂，其特征在于，所述第一有机酸包括乙酸；所述第二有机酸包括邻苯二甲酸、酒石酸、水杨酸、柠檬酸中的至少一种。6.如权利要求5任一项所述的模板清洗剂，其特征在于，所述氧化剂为H2O2；所述第一有机酸为乙酸，所述第二有机酸包括柠檬酸；所述极性溶剂为去离子水。...
【专利技术属性】
技术研发人员：杜有成，李鹏飞，何益多，侯威，李晓军，
申请(专利权)人：广东粤港澳大湾区国家纳米科技创新研究院，
类型：发明
国别省市：
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