【技术实现步骤摘要】
多层电容器
[0001]本申请要求于2020年10月12日在韩国知识产权局提交的第 10
‑
2020
‑
0131113号韩国专利申请的优先权的权益,所述韩国专利申请的公开 内容通过引用被全部包含于此。
[0002]本公开涉及一种多层电容器。
技术介绍
[0003]电容器是能够储存电的装置,其基本上基于以下原理:当向电容器施加 电压时,在两个面对的电极中的每个电极中累积电荷。当施加直流(DC)电 压时,电流在电容器中流动,而电荷在其中累积,当累积完成时,没有电流 流动。此外,当施加交流(AC)电压时,AC电流流动,同时电极的极性交 替。
[0004]电容器可分为各种类型,诸如电极利用铝形成并且在铝电极之间设置薄 氧化物膜的铝电解电容器、使用钽作为电极材料的钽电容器、在电极之间使 用诸如钛酸钡等的高k介电材料的陶瓷电容器、使用高k陶瓷作为设置在电 极之间的介电材料的多层结构的多层陶瓷电容器(MLCC)、使用聚苯乙烯膜 作为电极之间的介电材料的膜电容器等。
[0005]在电容器之中,MLCC的优势是具有优异的温度特性和频率特性,可以 以小尺寸实现,因此已经广泛应用于诸如高频率电路的各种领域。近年来, 一直尝试实现较小的多层陶瓷电容器,为此,介电层和内电极形成为薄的。
[0006]此外,最近,已经进行了许多尝试来改善防潮可靠性和减少由于在板安 装期间出现应力而引起的裂纹。
技术实现思路
[0007]本公开的一方面可提供一种针对外部影响具有改善 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种多层电容器,包括:主体,包括堆叠的多个介电层和多个内电极的多层结构,且所述介电层介于所述多个内电极之间;以及外电极,设置在所述主体的外表面上并连接到所述内电极,其中,所述主体包括:第一表面和第二表面,所述多个内电极暴露于所述第一表面和所述第二表面,所述第一表面和所述第二表面在第一方向上彼此相对;第三表面和第四表面,在第二方向上彼此相对,所述第二方向是所述多个介电层堆叠的方向;以及第五表面和第六表面,在与所述第一方向和所述第二方向垂直的第三方向上彼此相对,并且所述多个内电极中的至少一个内电极包括第一瓶颈结构和第二瓶颈结构,所述第一瓶颈结构的第三方向外部区域的第一方向长度小于所述第一瓶颈结构的内部区域的第一方向长度,并且所述第二瓶颈结构的第一方向外部区域的第三方向长度小于所述第二瓶颈结构的内部区域的第三方向长度。2.如权利要求1所述的多层电容器,其中,所述第一瓶颈结构和所述第二瓶颈结构彼此连接,并且所述第一瓶颈结构的外表面和所述第二瓶颈结构的外表面是不连续的。3.如权利要求1所述的多层电容器,其中,所述第二瓶颈结构连接到所述外电极。4.如权利要求1所述的多层电容器,其中,所述第一瓶颈结构具有在所述第一方向上向内凹入到所述主体中的形状,所述第二瓶颈结构具有在所述第三方向上向内凹入到所述主体中的形状。5.如权利要求1所述的多层电容器,其中,所述第一瓶颈结构的外表面和所述第二瓶颈结构的外表面包括相对于所述第一表面和所述第五表面倾斜的平面。6.如权利要求1所述的多层电容器,其中,所述第一瓶颈结构具有第一方向长度在所述第三方向上朝向所述主体的外侧减小的形状。7.如权利要求1所述的多层电容器,其中,所述第二瓶颈结构具有第三方向长度在所述第一方向上朝向所述主体的外侧减小的形状。8.如权利要求1所述的多层电容器,其中,所述第一瓶颈结构设置在所述多个内电极中的所述至少一个内电极的与所述第一表面和所述第二表面相邻的两个区域中。9.如权利要求8所述的多层电容器,其中,所述第一瓶颈结构的设置在与所述第一表面相邻的所述区域中的部分的形状和设置在与所述第二表面相邻的所述区域中的部分的形状彼此相同或不同。10.如权利要求1所述的多层电容器,其中,所述第二瓶颈结构设置在所述多个内电极中的所述至少一个内电极的与所述第五表面和所述第六表面相邻的两个区域中。
11.如权利要求1所述的多层电容器,其中,所述第一瓶颈结构和所述第二瓶颈结构通过连接部彼此连接,所述连接部在所述第三方向上与所述外电极中的一个外电极叠置。12.如权利要求1所述的多层电容器,其中,在所述多个内电极中的所述至少一个内电极中,所述第一瓶颈结构具有基本上平坦的部分,所述基本上平坦的部分具有预定的第三方向长度。13.如权利要求12所述的多层电容器,其中,所述基本上平坦的部分连接到所述第二瓶颈结构。14.如权利要求12所述的多层电容器,其中,在所述多个内电极中的所述至少一个内电极中,所述基本上平坦的部分在所述第三方向上提供最外表面。15.如权利要求14所述的多层电容器,其中,C/L大于或等于0.069,其中,C是从所述基本上平坦的部分到所述第二瓶颈结构的第一方向长度,L是所述主体的第一方向长度。16.如权利要求14所述的多层电容器,其中,C大于B,其中,C是从所述基本上平坦的部分到所述第二瓶颈结构的第一方向长度,B是所述第二瓶颈结构的第一方向长度。17.如权利要求1
‑
16中任一项所述的多层电容器,其中,D/W大于或等于0.013,其中,D是所述第一瓶颈结构在所述第三方向上的长度,W是所述主体在所述第三方向上的长度。18.一种多层电容器,包括:主体,包括介电层以及第一...
【专利技术属性】
技术研发人员:李种晧,孙命赞,姜心忠,沈银珍,金善花,金柄秀,
申请(专利权)人:三星电机株式会社,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。