干式镭射清洗设备制造技术

本实用新型专利技术涉及镭射清洁领域，特别指干式镭射清洗设备，包括机台，所述机台上设有置物平台，以及光纤镭射模组、镭射清洗模组、供电模组和控制模组，所述光纤镭射模组、镭射清洗模组分别与控制模组电性连接；所述镭射清洗模组设有轴向轨道组，所述轴向轨道组上滑动连接有一承接座，所述承接座上设有镭射光刀，所述镭射光刀通过光纤与光纤镭射模组连接。本实用新型专利技术的干式镭射清洗设备，采用多轴向移动轨道进行激光清洁作业，可进行实时监测调整激光参数以及移动轨迹，清洁高效全面，具有优异的清洁效果，本结构光转换率高，耐震动，低损耗，维护成本低，具有较长的使用寿命。具有较长的使用寿命。具有较长的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
干式镭射清洗设备


[0001]本技术涉及激光清洁领域，特别指干式镭射清洗设备。

技术介绍

[0002]目前，采用激光照射来清理材料表面所积累的污垢作为常规的技术被广泛应用，现常用的是采用机械手臂来夹持住激光光源，通过机械手臂来带动激光光源来对材料进行清洗，然而因机械手臂作业的高度和速度的限制，对于高度较高的材料则无法达到最佳清洗效果，另一方面，目前广泛应用的激光光源常用半导体泵浦固体激光，除了无法自动对焦外，使用一段时间之后需要更换共振腔等零件，更换过程繁杂，不利于使用。
[0003]中国专利(公告号CN 103736693 A)公开用于核电站放射性污染去污的激光清洁系统，包括激光发生器、与激光发生器的激光输出口相连的激光传导装置、设置在目标材料附近的作业监控系统、控制系统、废物回收系统，激光传导装置包括与激光发生器的激光输出口相连并用于传输激光的光纤、用于将光纤的激光输出口移动到放射性污染物表面上方的移动器、机械手臂、设置在机械手臂上的操作装置，光纤固定设置在移动器内且光纤的激光输出口位于移动器的一端部，移动器的一端部悬空而另一端部安装在机械手臂上，操作装置用于控制机械手臂和移动器的运动，移动器的运动带动光纤的激光输出口移动。可见，上述清洁系统是采用常规的机械手臂和移动器进行激光的移动输出，所述并不能灵活调节作业的高度，清洁效果不佳，以及使用常规的激光发生器进行激光发射，不便于长期的使用。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是提出干式镭射清洗设备，可灵活调节激光清洁模组作业的位移，精准度高，具有优异的清洁效果，光转换率高，低损耗，使用寿命长。
[0005]为了达到上述目的，本专利技术采用的技术方案如下：干式镭射清洗设备，包括机台，所述机台上设有置物平台，以及光纤镭射模组、镭射清洗模组、供电模组和控制模组，所述光纤镭射模组、镭射清洗模组分别与控制模组电性连接；所述镭射清洗模组设有轴向轨道组，所述轴向轨道组上滑动连接有一承接座，所述承接座上设有镭射光刀，所述镭射光刀通过光纤与光纤镭射模组连接。
[0006]根据以上方案，所述置物平台上方设有遮蔽壳体，所述遮蔽壳体的一侧设有两扇防护拉门，所述遮蔽壳体内部顶壁设置有一方位感测装置。
[0007]根据以上方案，所述置物平台上设有一块可拆卸的放置平板，所述平板下方设有一个转轴装置。
[0008]根据以上方案，所述轴向轨道组包括第一平行轴向轨道组、第二平行轴向轨道组和垂直轴向轨道组，所述第一平行轴向轨道组设有两个，并平行设置于平板的两侧，可进行Y轴方向上的往复运动。
[0009]根据以上方案，所述第二平行轴向轨道组跨设于两个第一平行轴向轨道组的上
方，并与第一平行轴向轨道组滑动连接，可进行X轴方向上的往复运动。
[0010]根据以上方案，所述垂直轴向轨道组与第二平行轴向轨道组滑动连接，所述承接座滑动连接于垂直轴向轨道组上，可进行Z轴方向上的往复运动。
[0011]根据以上方案，所述承接座上还设有高度感测装置和影像撷取装置。
[0012]根据以上方案，所述承接座与高度感测装置、影像撷取装置以及镭射光刀之间设有微调结构。
[0013]根据以上方案，所述光纤镭射模组包括激光器、聚焦透镜、光纤、光纤连接器、耦合器和镭射光刀。
[0014]根据以上方案，所述机台上还设有空气过滤装置和警报装置，所述空气过滤装置和警报装置分别与控制模组电性连接。
[0015]本技术的干式镭射清洗设备，采用多轴向移动轨道进行激光清洁作业，可进行实时监测调整激光参数以及移动轨迹，清洁高效全面，具有优异的清洁效果，本结构光转换率高，耐震动，低损耗，维护成本低，具有较长的使用寿命。
附图说明
[0016]图1是本技术的外部整体示意图；
[0017]图2是本技术的结构分解示意图1；
[0018]图3是本技术的结构分解示意图2；
[0019]图4是本技术的激光清洁模组结构示意图；
[0020]图5是本技术的遮蔽壳体结构示意图；
[0021]图6是本技术的使用状态示意图1；
[0022]图7是本技术的使用状态示意图2；
[0023]图8是本技术的使用状态示意图3.
[0024]图中：1、设备本体；2、机台；21、置物平台；211、平板；212、转轴装置；22、光纤镭射模组；23、供电模组；24、空气监测过滤装置；3、镭射清洗模组；31、第一平行轴向轨道组；32、第二平行轴向轨道组；33、垂直轴向轨道组；34、镭射光刀；35、高度感测装置；36、影像撷取装置；37、微调结构；4、遮蔽壳体；41、防护拉门；411、观测窗；42、控制模组；421、影像显示装置；43、方位感测装置；44、警报装置；5、空气监测过滤装置；6、待清洁材料。
具体实施方式
[0025]下面结合附图与实施例对本技术的技术方案进行说明。
[0026]如图1和2所示，本技术所述的干式镭射清洗设备，包括机台2，所述机台2上设有置物平台21，以及光纤镭射模组22、镭射清洗模组3、供电模组23和控制模组42，所述光纤镭射模组22、镭射清洗模组(3)分别与控制模组42电性连接；所述镭射清洗模组3设有平行轴向轨道组和垂直轴向轨道组33，所述垂直轴向轨道组33滑动连接有一承接座，所述承接座上设有高度感测装置35、影像撷取装置36和镭射光刀34，所述镭射光刀34通过光纤与光纤镭射模组22连接，所述置物平台21上方设有遮蔽壳体4，所述遮蔽壳体4内部顶壁上设有方位感测装置43。本专利技术通过控制模组42驱动平行轴向轨道组和垂直轴向轨道组33移动来带动镭射光刀34运动作业，通过照射达到对待清洁材料6清洁的目的，同时辅以高度感测装
置35和方位感测装置43来感测待清洁材料6的高度和位置，使得光纤镭射光刀34可更精准移动清洁，具有优异的清洁效果。
[0027]如图2所示，所述光纤镭射模组22和供电模组23设置在置物平台21的一侧，所述光纤镭射模组22包括激光器、聚焦透镜、光纤、光纤连接器、耦合器和镭射光刀34，所述激光器发出的激光束经过聚焦透镜汇聚，通过光纤连接器进入光纤，多股光纤通过耦合器耦合后将激光能量输送至镭射光刀34，所述的光纤套接在柔性套管内，并延伸出光纤镭射模组22外部与镭射光刀34连接，所述镭射光刀34套设于垂直轴向轨道组33的承接座上，所述光纤长度设置较长，可适用于镭射光刀34随轨道来回往返运动，所述光纤镭射模组22与控制模组42电性连接，可进行激光光束参数的调节。本激光结构不具备激光谐振腔，可免除谐振腔更换和校正的繁杂程序，维护成本低，耐震动，光转换率高，低损耗。
[0028]如图2和图3所示，所述置物平台21上设有一块可拆卸的放置平板211，可用于放置待清洁材料6，所述平板211下方设有一个转轴装置212，所述转轴装置212可与待清洁材料6插接连接，实现转动照射清洁。
[0029]如图3和图4所本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.干式镭射清洗设备，包括机台(2)，其特征在于,所述机台(2)上设有置物平台(21)，以及光纤镭射模组(22)、镭射清洗模组(3)、供电模组(23)和控制模组(42)，所述光纤镭射模组(22)、镭射清洗模组(3)分别与控制模组(42)电性连接；所述镭射清洗模组(3)设有轴向轨道组，所述轴向轨道组上滑动连接有一承接座，所述承接座上设有镭射光刀(34)，所述镭射光刀(34)通过光纤与光纤镭射模组(22)连接。2.如权利要求1所述的干式镭射清洗设备，其特征在于，所述置物平台(21)上方设有遮蔽壳体(4)，所述遮蔽壳体(4)的一侧设有两扇防护拉门(41)，所述遮蔽壳体(4)内部顶壁设置有一方位感测装置(43)。3.如权利要求2所述的干式镭射清洗设备，其特征在于，所述置物平台(21)上设有一块可拆卸的放置平板(211)，所述平板(211)下方设有一个转轴装置(212)。4.如权利要求3所述的干式镭射清洗设备，其特征在于,所述轴向轨道组包括第一平行轴向轨道组(31)、第二平行轴向轨道组(32)和垂直轴向轨道组(33)，所述第一平行轴向轨道组(31)设有两个，并平行设置于平板(211)的两侧，...

【专利技术属性】
技术研发人员：张智年，
申请(专利权)人：宏惠光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：