用于有色基底上的打印的颜色匹配制造技术

一种方法和系统的示例测量沉积在参考基底上和至少一个另外的基底上的颜色样本集合的比色数据，所述至少一个另外的基底具有彼此有区别的颜色。基于所测量的比色数据，应用估计函数，以用于在不同着色的基底上沉积的所述颜色样本的比色数据之间进行映射。颜色样本的比色数据之间进行映射。颜色样本的比色数据之间进行映射。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于有色基底上的打印的颜色匹配

技术介绍

[0001]当在有色打印基底（colored print substrate）（诸如，染色纺织品）上打印图像时，打印输出的由人眼感知的颜色（也被称为比色学（colorimetry））可能会受基底的颜色所影响。此外，可由给定打印过程或打印设备再现的颜色的整体（也被称为相应的色域）也可能取决于基底的颜色。
附图说明
[0002]图1是根据示例的打印系统的示意图；图2是根据示例的方法的流程图；图3示出了示出根据示例的在颜色空间中沉积在参考基底和不同着色的（differently colored）另外的基底上的颜色样本集合的所测量的比色数据（colorimetric data）的示图；图4是根据示例的方法的流程图；以及图5示出了根据示例的比色数据的示图。
具体实施方式
[0003]在下文中，描述了可以允许预测不同颜色在任何给定有色基底上的外观（appearance）的方法和系统的示例。一种方法和系统的示例可以允许：如果图像被打印在至少一个有色基底上，则预测该图像的比色学。一种方法和系统的示例可以允许：确定本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种方法，包括：测量沉积在参考基底上的颜色样本集合的参考比色数据，其中所述参考基底具有参考颜色；测量沉积在至少一个另外的基底上的所述颜色样本集合的另外的比色数据，所述至少一个另外的基底具有与所述参考颜色有区别的相应另外的颜色；针对所述至少一个另外的基底中的每一个，应用相应的估计函数来估计以下各项中的至少一个：
ꢀ–
参考比色数据到相应另外的比色数据的映射；以及
ꢀ–
相应另外的比色数据到参考比色数据的映射。2.根据权利要求1所述的方法，其中参考比色数据和相应另外的比色数据中的至少一个包括以下各项中的至少一个：反射率光谱、三刺激值、透射率光谱和相对辐照度光谱、光谱功率分布。3.根据权利要求1所述的方法，其中通过应用回归分析和监督学习中的至少一个来提供相应的估计函数。4.根据权利要求1所述的方法，其中参考比色数据和相应另外的比色数据均包含在可见范围内的不同波长下测量的反射率强度，其中所述方法进一步包括：提供参考比色数据和相应另外的比色数据作为S
×
R矩阵，其中第一维度S表示颜色样本，并且第二维度R表示在其下测量反射率强度的不同波长，在与所述参考基底和所述至少一个另外的基底相关联的矩阵之间执行回归分析。5.根据权利要求4所述的方法，其中回归分析是多项式回归，其中通过非线性项和交联项中的至少一个来扩展参考比色数据和相应另外的比色数据的S
×
R矩阵。6.根据权利要求1所述的方法，其中针对所述至少一个另外的基底中的每一个：通过非线性回归分析来计算相应的正向矩阵，所述非线性回归分析采用参考比色数据作为自变量，并且采用相应另外的比色数据作为因变量，以及通过非线性回归分析来计算相应的反向矩阵，所述非线性回归分析采用相应另外的比色数据作为自变量，并且采用参考比色数据作为因变量。7.根据权利要求1所述的方法，其中针对所述至少一个另外的基底中的每一个，通过应用一系列感知器来提供相应的估计函数，其中串联地采用至少两个不同的回归模型。8.根据权利要求1所述的方法，其中针对所述至少一个另外的基底中的每一个，根据最小二乘算法来确定相应的估计函数。9.根据权利要求1所述的方法，其中所述至少一个另外的基底包括分别具有彼此有区别的第一颜色和第二颜色的第一基底和第二基底，其中分别从沉积在第一基底和第二基底上的所述颜色样本集合来测量第一比色数据和第二比色数据，其中第一估计函数估...

【专利技术属性】
技术研发人员：P，
申请(专利权)人：惠普发展公司，有限责任合伙企业，
类型：发明
国别省市：