光刻胶输送系统技术方案

本发明专利技术公开了一种光刻胶输送系统，该光刻胶输送系统包括光刻胶供给瓶、缓冲罐和排液胶泵，其中，缓冲罐的顶部设置有进液口和排液口，进液口与光刻胶供给瓶通过进液管路连通，以使光刻胶流入；缓冲罐的底部设置有光刻胶出口，光刻胶出口用于与光刻胶喷嘴连通，以使光刻胶流入光刻胶喷嘴中；排液胶泵与排液口通过排液管路连通，以抽取缓冲罐中的空气。本发明专利技术中排液胶泵通过抽取的方式促使光刻胶进入缓冲罐，降低或避免了光刻胶中产生气泡的可能性；而且排液口设置在缓冲罐的顶部，能够将缓冲罐中的空气以及含有气泡的光刻胶抽取出去，不仅避免了浪费大量光刻胶，而且避免了后续光刻胶涂布时由于气泡造成的晶圆缺陷。时由于气泡造成的晶圆缺陷。时由于气泡造成的晶圆缺陷。

【技术实现步骤摘要】
光刻胶输送系统


[0001]本专利技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种光刻胶输送系统。

技术介绍

[0002]本部分提供的仅仅是与本公开相关的背景信息，其并不必然是现有技术。
[0003]光刻胶涂布工艺是半导体硅片制造过程中的重要工艺，在光刻胶涂布过程中，光刻胶喷嘴与光刻胶输送系统连通，光刻胶输送系统通常包括相连通的光刻胶供给瓶和缓冲罐，为了使更换后新的光刻胶供给瓶中的光刻胶流到缓冲罐中，通常会使用高压氮气充入光刻胶供给瓶，促使光刻胶流动。
[0004]但充入光刻胶供给瓶的氮气会使光刻胶产生气泡，气泡会使光刻胶在涂布时导致晶圆缺陷，因此需要将气泡去除，但现有的光刻胶输送系统通过在缓冲罐上设置排液管去除气泡，这样的方式不仅去除气泡的效果差，而且由于光刻胶是通过氮气压入缓冲罐，容易混入空气，需要将这段光刻胶全部排出才可以避免气泡导致缺陷，容易造成光刻胶的浪费。

技术实现思路

[0005]本专利技术提出了一种光刻胶输送系统，所述光刻胶输送系统包括：
[0006]光刻胶供给瓶；
[0007]缓冲罐，所本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶输送系统，其特征在于，包括：光刻胶供给瓶；缓冲罐，所述缓冲罐的顶部设置有进液口和排液口，所述进液口与所述光刻胶供给瓶通过进液管路连通，以使光刻胶流入；所述缓冲罐的底部设置有光刻胶出口，所述光刻胶出口用于与光刻胶喷嘴连通，以使所述光刻胶流入所述光刻胶喷嘴中；排液胶泵，所述排液胶泵与所述排液口通过排液管路连通，以抽取所述缓冲罐中的空气。2.根据权利要求1所述的光刻胶输送系统，其特征在于，所述排液管路靠近所述排液口的位置设置有第一液位传感器，以检测所述排液管路中的光刻胶的液位。3.根据权利要求2所述的光刻胶输送系统，其特征在于，所述光刻胶输送系统还包括控制器，所述第一液位传感器与所述控制器通信连接，以向所述控制器传递所述排液管路中的液位信号。4.根据权利要求3所述的光刻胶输送系统，其特征在于，所述控制器与所述排液胶泵通信连接，以根据所述液位信号控制所述排液胶泵工作。5.根据权利要求3所述的光刻胶输...

【专利技术属性】
技术研发人员：金在植，张成根，林锺吉，贺晓彬，丁明正，杨涛，李俊峰，王文武，
申请(专利权)人：真芯北京半导体有限责任公司，
类型：发明
国别省市：