一种基于阴影法的微小位移测量装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种基于阴影法的微小位移测量装置及方法，包括测量系统和电控位移台，测量系统包括粘弹性胶体、工作台、平行光源、图像传感器，待测位移施加在工作台上，粘弹性胶体与圆柱支撑杆接触的表面发生凹陷，平行光源出射圆形光斑到工作台的其中任意一个圆柱支撑杆上，发生凹陷的粘弹性胶体的表面使平行光线发生折射并在粘弹性胶体的下方形成阴影，通过图像传感器采集阴影的图像，从而通过未施加待测位移之前所形成的阴影直径和施加待测位移之后所形成的阴影直径的变化获得待测位移；电控位移台用于对工作台施加标定位移，用以获得工作台的位移变化与变化的阴影直径之间的关系。本发明专利技术具有分辨力高且抗干扰性强的优点。点。点。

【技术实现步骤摘要】
一种基于阴影法的微小位移测量装置及方法


[0001]本专利技术涉及微小位移测量技术，特别涉及一种基于阴影法的微小位移测量装置及方法。

技术介绍

[0002]微小位移测量作为测量领域的一个重要分支，在传感器设计、航空航海、武器工业、生产制造等领域有着重要的意义，是各国工业的科技发展水平的重要标志。常用的位移传感器有电感式、电容式、光电式、霍尔式等，电感式激光位移传感器。可精确地测量位移，但其结构复杂，抗干扰能力差，无法在一些复杂的测量环境下有效的使用。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的是克服现有技术中的不足，提供一种基于阴影法的微小位移测量装置及方法，具有装置简单、分辨力高且抗干扰能力强的优点，可以弥补相关技术的空缺。
[0004]本专利技术所采用的技术方案是：一种基于阴影法的微小位移测量装置，所述测量装置包括测量系统，所述测量系统包括：
[0005]粘弹性胶体；
[0006]工作台，所述工作台的底面设置有若干个圆柱支撑杆，所述工作台通过所述圆柱支撑杆放置在所述粘弹性胶体上；<br/>[0007]本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于阴影法的微小位移测量装置，其特征在于，所述测量装置包括测量系统，所述测量系统包括：粘弹性胶体(4)；工作台(2)，所述工作台(2)的底面设置有若干个圆柱支撑杆(21)，所述工作台(2)通过所述圆柱支撑杆(21)放置在所述粘弹性胶体(4)上；平行光源(1)，所述平行光源(1)布置在所述粘弹性胶体(4)的上方；以及图像传感器(5)，所述图像传感器(5)布置在所述粘弹性胶体(4)的下方；其中，待测位移施加在所述工作台(2)上，所述粘弹性胶体(4)与所述圆柱支撑杆(21)接触的表面发生凹陷，所述平行光源(1)出射圆形光斑到所述工作台(2)的其中任意一个所述圆柱支撑杆(21)上，发生凹陷的所述粘弹性胶体(4)的表面使平行光线发生折射并在所述粘弹性胶体(4)的下方形成阴影，通过所述图像传感器(5)采集所述阴影的图像，从而通过未施加待测位移之前所形成的阴影直径和施加待测位移之后所形成的阴影直径的变化获得所述待测位移；所述测量装置还包括电控位移台(3)，所述电控位移台(3)用于对所述工作台(2)施加标定位移，用以获得所述工作台(2)的位移变化与变化的所述阴影直径之间的关系。2.根据权利要求1所述的基于阴影法的微小位移测量装置，其特征在于，所述平行光源(1)的主光轴与所述粘弹性胶体(4)的表面垂直。3.一种基于阴影法的微小位移测量方法，其特征在于，所述测量方法采用如权利要求1或2所述的测量装置，所述测量方法包括以下步骤：步骤1，搭建所述测量装置，并获得所述工作台(2)未施加位移时所述阴影的直径D1；步骤2，利用所述电控位移台(3)输出设定标定位移到所述工作台(2)上，获得所述工作台(2)的位移变化

【专利技术属性】
技术研发人员：杨永，赵美蓉，郑叶龙，黄银国，李丹彤，陶默然，朱春源，
申请(专利权)人：天津大学，
类型：发明
国别省市：