【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】离子分析装置
[0001]本专利技术涉及一种检测通过对源自试样成分的前体离子照射自由基来使该前体离子裂解所生成的产物离子的离子分析装置。
技术介绍
[0002]为了鉴定高分子化合物或对其结构进行解析,广泛地利用了以下质谱分析法:使源自试样成分的前体离子裂解1次或多次来生成碎片离子(也称为产物离子。),根据质荷比将碎片离子分离并进行检测。作为执行这种质谱分析法的装置,例如使用离子阱
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飞行时间质谱分析装置或三重四极杆质谱分析装置。
[0003]作为使前体离子裂解的方法,最普遍的是使前体离子与氩气等非活性气体碰撞来诱导裂解的碰撞诱导裂解(CID:Collision Induced Dissociation)法。在离子阱
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飞行时间质谱分析装置中,将由试样成分生成的离子捕捉到离子阱内,并从中筛选具有规定的质荷比的离子来作为前体离子,之后使其振动来与非活性气体碰撞。另外,在三重四极杆质谱分析装置中,利用前级四极杆滤质器从由试样成分生成的离子中筛选具有规定的质荷比的离子来作为前体离子。然后, ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种离子分析装置,基于源自试样成分的前体离子生成产物离子并对所述产物离子进行分析,所述离子分析装置具备:反应室,其被导入所述前体离子;自由基生成部,其具有绝缘管和使该绝缘管的内部发生放电的放电部;气体供给部,其能够将第一气体和第二气体择一地供给到所述绝缘管的内部,其中,所述第一气体是作为自由基的原料的气体,所述第二气体是氧气、臭氧气体、氮气、含有氧原子或氮原子的化合物的气体以及稀有气体中的任一方;真空排气部,其对所述绝缘管的内部进行真空排气;自由基导入部,其向所述反应室的内部导入在所述绝缘管的内部生成的自由基;以及控制部,其控制所述自由基生成部、所述气体供给部、所述真空排气部以及所述自由基导入部的动作,所述控制部执行第一动作和第二动作,其中,在所述第一动作中,通过在对所述绝缘管的内部进行了真空排气的状态下向所述绝缘管的内部导入所述第一气体并使所述绝缘管的内部发生放电来生成自由基,并将所述自由基导入到所述反应室的内部,在所述第二动作中,向所述绝缘管的内部导入所述第二气体。2.根据权利要求1所述的离子分析装置,其特征在于,所述第二气体是水蒸气或氧气。3.根据权利要求1所述的离子分析装置,其特征在于,所述控制部在所述第二动作时,在对所述绝缘管的内部进行了真空排气的状态下一边向所述线圈供给高频电力一边向所述绝缘管的内部导入所述第二气体,由此生成自由基和/或离子。4.根据权利要求1所述的离子分析装置,其特征在于,所述绝缘管由氧化铝或二氧化硅构成。5.一种离子分析装置,基于源自试样成分的前体离子生成产物离子并对所述产物离子进行分析,所述离子分析装置具备:反应室,其被导入所述前体离子;气体供给部,其能够供给第一气体和第二气体,其中,所述第一气体是具有氧化能力的气体,所述第二气体是具有还原能力的气体;自由基生成部,其基于所述第一气体来生成自由基;自由基导入部,其向所述反应室的内部导入由所述自由基生成部生成的自由基;以及控制部,其控制所述气体供给部、所述自由基生成部以及所述自由基导入部的动作,所述控制部执行第一动作和...
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