一种提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料及其制备方法技术

本发明专利技术提供一种提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料及其制备方法，涉及建材技术领域，所述提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料的制备材料是由钾长石、烧滑石、氧化锌、石英、方解石、刚玉、高岭土、煅烧土组成。本发明专利技术中，该提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料能够使全抛釉成品具更强的耐磨性能，刚玉具有高熔点、高硬度、高比重的特性，能够加强坯釉结合度，并具有提高釉的硬度和耐磨度的作用，石英作为玻璃相形成的主要成分，能有效地增加釉面的硬度，相比现有常规的生产工艺，本发明专利技术在淋抛釉工艺后喷多一层薄薄的耐磨釉，其硅铝含量较抛釉高，覆盖在抛釉表面薄薄的一层，抛光后可直接提升抛釉的硬度。硬度。硬度。

【技术实现步骤摘要】
一种提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料及其制备方法


[0001]本专利技术涉及建材
，尤其涉及一种提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料及其制备方法。

技术介绍

[0002]在建材中，全抛釉产品作为花色丰富、表面亮洁的一类瓷砖产品，其表层为一层透明釉，不遮盖底釉层上的各种花釉或喷墨打印的呈色效果，抛光时只抛掉透明釉薄薄的一层，抛光后砖面光滑亮洁，色彩绚丽，应用场合广泛，但全抛釉普遍存在釉面耐磨性差、硬度小的问题，这就导致在实际铺贴和应用中，很容易刮花釉面，影响产品的使用寿命，需要进行改进。
[0003]中国专利号CN105461226A公开了全生料水晶厚抛釉料，其由以下重量份的组分制成：钾长石20％～25％，钠长石10％～15％，硅灰石20％～25％，滑石10％～15％，高岭土7％～10％，石英粉6％～9％，氧化锌6％～8％，碳酸钡8％～12％，绿柱石1％～5％。本专利技术所述的全生料水晶厚抛釉料，在其配方中加入了绿柱石，由于绿柱石含有天然矿物稀有金属铍，在烧制水晶厚抛釉过程中金属铍能促进其晶相发育，大幅度降低厚抛釉在熔融过程中的玻璃相的高温黏度，澄清了釉液，改善了排气，从而使釉面清澈透明、更透更亮、美观度好，该种制备方式，对于全抛釉产品的亮度和美观度进行了改善，但在长期使用过程中，依然具有表面容易刮花的问题，需要进行改进。
[0004]中国专利号CN112745145A公开了一种全抛釉、以及具有全抛釉的抛釉砖及其制备方法，所述全抛釉施加于砖体上在烧成温度为1200～1220℃、烧成周期为60～80min的条件下烧成后的釉面层中均匀存在直径在20μm以下的气泡，所述全抛釉的原料配方包括：按质量计，茶晶长石22～30％，氧化锌6～9％，碳酸钡12～14％，烧滑石7～9％，高岭土8～10％，325目刚玉6～12％，玻璃熔块23～27％，硅酸锆1～3％。该种全抛釉产品在产品的硬度上具有相应的改进，但相对而言烧制的材料没有进行相关细分，对于加工的参数未进行明确说明，导致成品的加工效果与预期效果有所差异，需要进行改进。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料及其制备方法。
[0006]为了实现上述目的，本专利技术采用了如下技术方案：一种提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料，所述提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料的制备材料是由钾长石、烧滑石、氧化锌、石英、方解石、刚玉、高岭土、煅烧土组成，且各材料由以下重量百分数的组分组成：钾长石30
‑
35％，烧滑石2
‑
5％，氧化锌5％，石英20
‑
22％，方解石12
‑
15％，刚玉4
‑
7％，高岭土5
‑
7％，煅烧土10
‑
15％。
[0007]为了确保钾长石的耐高温性能与硬度系数，本专利技术的改进有，所述钾长石的密度为2.54
‑
2.57g/cm。
[0008]为了对烧滑石的原料进行相关限定，本专利技术的改进有，所述烧滑石由滑石与矽酸镁组成，所述烧滑石的晶体结构呈层状。
[0009]为了使方解石更加易于加工，本专利技术的改进有，所述方解石为一种碳酸钙矿物，所述方解石原料取样为粒状。
[0010]为了避免该全抛釉制品在烧制过程中烧结的情况发生，本专利技术的改进有，所述石英为低温石英。
[0011]为了实现高岭土的混合效果，本专利技术的改进有，高岭土为软质高岭土，所述软质高岭土砂质含量小于50％，所述煅烧土为煅烧高岭土。
[0012]为了达到不同效果，本专利技术的改进有，各材料由以下重量百分数的组分组成：各材料由以下重量百分数的组分组成：钾长石30％，烧滑石5％，氧化锌5％，石英20％，方解石15％，刚玉5％，高岭土5％，煅烧土15％。
[0013]为了达到不同效果，本专利技术的改进有，各材料由以下重量百分数的组分组成：钾长石33％，烧滑石3％，氧化锌4％，石英22％，方解石13％，刚玉5％，高岭土5％，煅烧土15％。
[0014]为了达到不同效果，本专利技术的改进有，各材料由以下重量百分数的组分组成：钾长石35％，烧滑石2％，氧化锌5％，石英22％，方解石12％，刚玉7％，高岭土7％，煅烧土10％。
[0015]所述提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料的制备方法，包括以下步骤：
[0016]S1：按比例在球釉机中加入钾长石、烧滑石、氧化锌、石英、方解石、刚玉、高岭土和煅烧土，并加入相对总量0.2％的甲基、0.35％的三聚氰胺以及40％的水；
[0017]S2：由球釉机进行球磨8
‑
10小时，直至325目筛余0.3
‑
0.5，出球过200目振动筛，并用除铁机进行除铁，出球比重控制在1.85
‑
1.88g/ml；
[0018]S3：使用喷釉工艺比重加水调整为1.50
‑
1.55g/ml，出球流速为60
‑
80/秒，淋底釉后通过喷墨打印或丝网印花技术，进行相应的纹路处理，再喷淋一层厚度为3
‑
5mm的抛釉；
[0019]S4：通过喷釉柜喷涂耐磨釉，喷釉流速为13
‑
15/秒，施釉参数为喷400
×
400的测釉盘25
‑
28克，最终得到烧制原料；
[0020]S5：将S4得到的烧制原料，入窑烧制，窑温控制在1160
‑
1165℃，烧制完成后得到抛釉砖成品，将抛釉砖成品进行指标检测，检测合格后入库封装。
[0021]与现有技术相比，本专利技术的优点和积极效果在于，
[0022]本专利技术中，该提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料能够使全抛釉成品具更强的耐磨性能，刚玉具有高熔点、高硬度、高比重的特性，能够加强坯釉结合度，并具有提高釉的硬度和耐磨度的作用，石英作为玻璃相形成的主要成分，能有效地增加釉面的硬度，相比现有常规的生产工艺，本专利技术在淋抛釉工艺后喷多一层薄薄的耐磨釉，其硅铝含量较抛釉高，覆盖在抛釉表面薄薄的一层，抛光后可直接提升抛釉的硬度。
附图说明
[0023]图1为本专利技术提出一种提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料及其制备方法的制备流程图；
[0024]图2为本专利技术提出一种提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料及其制备方法的各实施例检测结果示意图。
具体实施方式
[0025]为了能够更清楚地理解本专利技术的上述目的、特征和优点，下面结合附图和实施例对本专利技术做进一步说明。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0026]在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料，其特征在于：所述提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料的制备材料是由钾长石、烧滑石、氧化锌、石英、方解石、刚玉、高岭土、煅烧土组成，且各材料由以下重量百分数的组分组成：钾长石30
‑
35％，烧滑石2
‑
5％，氧化锌5％，石英20
‑
22％，方解石12
‑
15％，刚玉4
‑
7％，高岭土5
‑
7％，煅烧土10
‑
15％。2.根据权利要求1所述提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料，其特征在于：所述钾长石的密度为2.54
‑
2.57g/cm。3.根据权利要求1所述提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料，其特征在于：所述烧滑石由滑石与矽酸镁组成，所述烧滑石的晶体结构呈层状。4.根据权利要求1所述提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料，其特征在于：所述方解石为一种碳酸钙矿物，所述方解石原料取样为粒状。5.根据权利要求1所述提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料，其特征在于：所述石英为低温石英。6.根据权利要求1所述提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料，其特征在于：所述高岭土为软质高岭土，所述软质高岭土砂质含量小于50％，所述煅烧土为煅烧高岭土。7.根据权利要求1所述提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料，其特征在于，各材料由以下重量百分数的组分组成：钾长石30％，烧滑石5％，氧化锌5％，石英20％，方解石15％，刚玉5％，高岭土5％，煅烧土15％。8.根据权利要求1所述提高瓷质抛釉砖耐磨度的耐磨釉料，其特征在于，各材料由以下重量...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨文端，刘芳，
申请(专利权)人：广东永航新材料实业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：