一种激光加工装置和激光加工系统制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种激光加工装置和激光加工系统，其中，激光加工装置包括控制器、电光调制器和多个光学调节结构，电光调制器包括电光晶体和偏振器；控制器用于调节电光晶体的状态，以使入射激光光束经过处于不同状态的电光晶体后偏振状态发生变化；偏振器用于将偏振状态不同的入射激光光束转化为对应的多个子光束；各光学调节结构位于对应子光束的光路上，光学调节结构用于调节对应子光束的光斑大小和/或焦点位置，各子光束经过对应光学调节结构后，分别形成加工光束；通过改变入射激光光束的偏振状态，即可获得的多路加工光束，多路加工光束能够各自独立的进行加工，减少了等待的时间从而提高了加工效率，从而提高了产能。能。能。

【技术实现步骤摘要】
一种激光加工装置和激光加工系统


[0001]本技术涉及激光加工
，尤其涉及一种激光加工装置和激光加工系统。

技术介绍

[0002]随着太阳能电池硅片的大小逐渐增大、激光开槽加工图形日益复杂，单张硅片的实际开槽面积逐渐增大，在加工速度、开槽线宽不变的情况下，必然导致加工时间的增长。与此同时，激光开槽设备要保证相对较高的加工精度。
[0003]为保证较高的加工精度，现有的硅片激光加工设备，一般采用一台激光器对应一台振镜进行加工，设备的加工速度取决于激光雕刻加工时间和硅片传输时间，由于硅片的传输只能采用机械方法，单个工位加工时，下一片硅片必须等候加工位上的硅片加工完毕才能传输到位，加工效率不够高，使得太阳能电池硅片产能难以提高。

技术实现思路

[0004]本技术的目标在于提供一种激光加工装置和激光加工系统，以解决硅片激光加工设备加工效率不够高，使得产能难以提高的问题。
[0005]提供一种激光加工装置，包括控制器、电光调制器和多个光学调节结构，电光调制器包括电光晶体和偏振器；
[0006]控制器用于调节电光晶体的状态，以使入射激光光束经过处于不同状态的电光晶体后偏振状态发生变化；偏振器用于将偏振状态不同的入射激光光束转化为对应的多个子光束；
[0007]各光学调节结构位于对应子光束的光路上，光学调节结构用于调节对应子光束的光斑大小和/或焦点位置，各子光束经过对应光学调节结构后，分别形成加工光束。
[0008]可选地，多个光学调节结构包括反射镜和扩束镜，反射镜用于调节各子光束的光路路径和准直情况，扩束镜用于调节子光束的光斑大小和/或焦点位置。
[0009]可选地，入射激光光束经过电光晶体调节后，入射激光光束经过处于不同状态的电光晶体后，形成具有不同偏振状态的第一光束和第二光束，第一光束和第二光束的光路重合；
[0010]第一光束经过偏振器后形成反射光束，第二光束经过偏振器后形成透射光束。
[0011]可选地，多个光学调节结构包括第一光学调节结构和第二光学调节结构；
[0012]第一光学调节结构位于反射光束的光路上，第一光学调节结构包括依次排列的第一反射镜、第一扩束镜和第二反射镜；
[0013]第二光学调节结构位于透射光束的光路上，第二光学调节结构包括依次排列的第三反射镜、第二扩束镜和第四反射镜。
[0014]可选地，第二光学调节结构还包括第五反射镜，第五反射镜、第三反射镜、第二扩束镜和第四反射镜依次排列在透射光束的光路上。
[0015]可选地，激光加工装置还包括第一调光光阑，第一调光光阑位于电光调制器的前方。
[0016]可选地，激光加工装置还包括第二调光光阑、第三调光光阑，第二调光光阑和第三调光光阑分别位于反射光束、透射光束的光路上。
[0017]可选地，激光加工装置还包括准直调节单元，准直调节单元位于光源和电光调制器之间，光源射出的激光光束经过准直调节单元调节准直后，形成电光调制器的入射激光光束。
[0018]可选地，准直调节单元包括依次排列的第六反射镜和第七反射镜。
[0019]提供一种激光加工系统，包括用于发出激光光束的光源、多个振镜和上述激光加工装置，激光加工装置位于激光光束的光路上，光源发出的激光光束经激光加工装置后，形成多个加工光束并投射至对应振镜上，经振镜作用后投射至对应的加工工位。
[0020]本技术实施例提供的激光加工装置和激光加工系统的有益效果在于：
[0021]本实施例中的激光加工装置包括控制器、电光调制器和多个光学调节结构，电光调制器包括电光晶体和偏振器，其中，控制器用于调节电光晶体的状态，以使入射激光光束经过处于不同状态的电光晶体后偏振状态发生变化；偏振器用于将偏振状态不同的入射激光光束转化为对应的多个子光束；各光学调节结构位于对应子光束的光路上，光学调节结构用于调节对应子光束的光斑大小和/或焦点位置，各子光束经过对应光学调节结构后，分别形成加工光束；本实施例中的激光加工装置，通过控制器调节电光晶体的状态以改变入射激光光束的偏振状态，即可将入射激光光束转化为多个子光束，再经过光学调节结构进行光斑大小和/或焦点位置的调节，最终分别形成加工光束，多路加工光束具有各自独立的光路，能够各自独立的进行加工，减少了等待的时间从而提高了加工效率，从而提高了产能。
附图说明
[0022]为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0023]图1为本技术中激光加工装置和激光加工系统的一结构示意图；
[0024]图2为图1中电光调制器的一原理图。
[0025]其中，图中各附图标记：
[0026]1‑ꢀ
光源；2
‑
电光调制器；21
‑
电光晶体；22
‑
偏振器；
[0027]01
‑
反射光束；02
‑
透射光束；11
‑
第一加工光束；12
‑
第二加工光束；
[0028]31
‑
第一反射镜；32
‑
第一扩束镜；33
‑
第二反射镜；34
‑
第三反射镜；35
‑
第二扩束镜；36
‑
第四反射镜；37
‑
第五反射镜；38
‑
第六反射镜；39
‑
第七反射镜；
[0029]41
‑
第一振镜；42
‑
第二振镜。
具体实施方式
[0030]为了使本技术所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以
下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。
[0031]需要理解的是，术语
ꢀ“
上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0032]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0033]请一并参阅图1至图2，现对本实施例提供的激光加工装置进行说明。
[0034]本实施本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种激光加工装置，其特征在于，包括控制器、电光调制器和多个光学调节结构，所述电光调制器包括电光晶体和偏振器；所述控制器用于调节所述电光晶体的状态，以使入射激光光束经过处于不同状态的所述电光晶体后偏振状态发生变化；所述偏振器用于将偏振状态不同的所述入射激光光束转化为对应的多个子光束；各所述光学调节结构位于对应所述子光束的光路上，所述光学调节结构用于调节对应所述子光束的光斑大小和/或焦点位置，各所述子光束经过对应所述光学调节结构后，分别形成加工光束。2.如权利要求1所述的激光加工装置，其特征在于，所述多个光学调节结构包括反射镜和扩束镜，所述反射镜用于调节各所述子光束的光路路径和准直情况，所述扩束镜用于调节所述子光束的光斑大小和/或焦点位置。3.如权利要求1所述的激光加工装置，其特征在于，所述入射激光光束经过处于不同状态的所述电光晶体后，形成具有不同偏振状态的第一光束和第二光束，所述第一光束和所述第二光束的光路重合；所述第一光束经过所述偏振器后形成反射光束，所述第二光束经过所述偏振器后形成透射光束。4.如权利要求3所述的激光加工装置，其特征在于，所述多个光学调节结构包括第一光学调节结构和第二光学调节结构；所述第一光学调节结构位于所述反射光束的光路上，所述第一光学调节结构包括依次排列的第一反射镜、第一扩束镜和第二反射镜；所述第二光学调节结构位于所述透射光束的光路上，所述第二光学调节结构包括...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨永亮，赵佳祺，胡锡亨，袁云飞，王振华，高云峰，
申请(专利权)人：大族激光科技产业集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：