大尺寸钼溅射靶材及采用化学气相沉积法的制备工艺制造技术

本发明专利技术属于钼溅射靶材技术领域，具体涉及一种大尺寸钼溅射靶材及采用化学气相沉积法的制备工艺。所述大尺寸钼溅射靶材的制备方法，包括以下步骤：将钼与三氟化氮在高温条件下反应，制备出粗品六氟化钼；对所述粗品六氟化钼经真空蒸馏法和吸附法提纯后，得到高纯度六氟化钼；采用化学气相沉积法，用还原气体将高纯度六氟化钼还原成金属钼；将金属钼沉积到基体材料上，一步法生产出大尺寸钼溅射靶材。本发明专利技术制作的超高纯钼溅射靶材以高纯三氟化氮、高纯钼粉和还原气体(氢气)为原料，在化学气相沉积设备中一步完成，反应过程为连续气相反应，产品各向一致性和批次间一致性远优于传统钼靶材。统钼靶材。

【技术实现步骤摘要】
大尺寸钼溅射靶材及采用化学气相沉积法的制备工艺


[0001]本专利技术属于钼溅射靶材
，具体涉及一种大尺寸钼溅射靶材及采用化学气相沉积法的制备工艺。

技术介绍

[0002]金属钼为一种硬度较大的难熔金属，导致其加工成型困难，目前行业内制作金属钼靶材主要通过粉末冶金的方法，粉末冶金工艺是用高纯金属钼粉为原料，经过成型和烧结制成坯料，然后经过反复轧制校平，最后机加工打磨抛光，制备成理想形状。成型工艺主要是将高纯金属钼粉装进专用的模具中，经冷等静压设备压制成型后，经真空保护炉或气氛保护烧结后，再经反复轧制后，机加成型，或经热等静压设备烧结成粗坯，或置于真空热压炉中热压成型。粉末冶金方法工艺过程复杂，难以一次成型，往往需要先将钼粉压制成坯料后，才能进行下一步的加工，且靶材尺寸受限于模具，大尺寸靶材加工困难。
[0003]由于金属钼在常温下质地硬而脆，不易在常温下加工，在生产过程中需要进行二次加热费时费力不经济，这还使得金属钼靶材长时间暴露在大气环境中，容易使靶材表面产生一层氧化皮，造成二次污染，还易出现众多问题，比如开裂，无法校平等。由于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种大尺寸钼溅射靶材的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将钼与三氟化氮在高温条件下反应，制备出粗品六氟化钼；对所述粗品六氟化钼经真空蒸馏法和吸附法提纯后，得到高纯度六氟化钼；采用化学气相沉积法，用还原气体将高纯度六氟化钼还原成金属钼；将金属钼沉积到基体材料上，一步法生产出大尺寸钼溅射靶材。2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，将钼与三氟化氮在高温条件下反应的温度为400℃，将反应制得的六氟化钼通入另一低温容器内以液体形式收集。3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述钼溅射靶材中钼的含量为99.999～99.99999％。4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述钼溅射靶材的相对密度...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐从康，马赛，贺涛，陈箫箫，
申请(专利权)人：亚芯电子科技常州有限公司，
类型：发明
国别省市：