本发明专利技术提供一种电子装置，包括：光学感测模块以及设置于光学感测模块上的显示模块。光学感测模块包括：光学传感器阵列、至少一透明层、以及微透镜阵列。光学传感器阵列包括至少一光学传感器。透明层设置于光学传感器阵列上。微透镜阵列包括至少一微透镜，设置于透明层上。层上。层上。
【技术实现步骤摘要】
电子装置
[0001]本专利技术有关于一种电子装置，特别是有关于一种可降低噪声、提升感测灵敏度及增加感测面积的电子装置。
技术介绍
[0002]现行的光学影像传感器是由多层透镜以及晶圆级(wafer-based)光学传感器所组成。由于晶圆级光学传感器造价昂贵，且因使用多层透镜，使得光学影像传感器整体厚度难以减薄，导致由晶圆级光学传感器以及多层透镜所组成的光学影像传感器无法兼顾目前市场上对于感测尺寸、产品厚度、及价格等的需求。
技术实现思路
[0003]根据本专利技术的一实施例，提供一种电子装置，包括光学感测模块。光学感测模块包括光学传感器阵列、至少一透明层、以及微透镜阵列。光学传感器阵列包括至少一光学传感器。透明层设置于光学传感器阵列上。微透镜阵列包括至少一微透镜，设置于透明层上。
[0004]根据本专利技术的一实施例，该光学传感器包括一光电二极管、一光学薄膜晶体管、或一金属-半导体-金属传感器。
[0005]根据本专利技术的一实施例，该透明层过滤波长小于400纳米或大于700纳米的入射光。
[0006]根据本专利技术的一实施例，该电子装置更包括至少一滤光层，设置于该光学传感器阵列与该微透镜阵列之间，其中该滤光层由不同折射率且相互堆栈的多层膜所组成。
[0007]根据本专利技术的一实施例，该电子装置更包括至少一具有开孔的遮光层，设置于该光学传感器阵列与该微透镜阵列之间，且该遮光层与该透明层以相互堆栈的方式设置。
[0008]根据本专利技术的一实施例，该遮光层包括一金属层。
[0009]根据本专利技术的一实施例，该遮光层更包括至少一光阻层，设置于该金属层上。
[0010]根据本专利技术的一实施例，单一该光学传感器对应多个该微透镜。
[0011]根据本专利技术的一实施例，该光学感测模块的配置符合公式n2/n1＝F/(F-R)，该公式中，n1为空气或位于该微透镜外围的材料的折射率，n2为该微透镜的折射率，F为该微透镜的顶部与该光学传感器之间的距离，R为该微透镜的曲率半径。
[0012]根据本专利技术的一实施例，包括光学感测模块以及设置于光学感测模块上的显示模块。光学感测模块包括光学传感器阵列、至少一透明层、以及微透镜阵列。光学传感器阵列包括至少一光学传感器。透明层设置于光学传感器阵列上。微透镜阵列包括至少一微透镜，设置于透明层上。
附图说明
[0013]为让本专利技术的上述目的、特征和优点能更明显易懂，以下结合附图对本专利技术的具体实施方式作详细说明，应注意的是，各种特征部件并未按照比例绘制且仅用以说明例示。
事实上，组件的尺寸可能经放大或缩小，以清楚地表现出本专利技术实施例的技术特征。其中：
[0014]图1根据本专利技术的一实施例，一种电子装置的部分剖面图；
[0015]图2根据本专利技术的一实施例，一种光学传感器的部分剖面图；
[0016]图3根据本专利技术的一实施例，一种光学传感器的部分剖面图；
[0017]图4根据本专利技术的一实施例，一种光学传感器的部分剖面图；
[0018]图5A根据本专利技术的一实施例，一种电子装置的部分剖面图；
[0019]图5B根据本专利技术的一实施例，一种电子装置的部分剖面图；
[0020]图5C根据本专利技术的一实施例，一种电子装置的部分剖面图；
[0021]图6根据本专利技术的一实施例，一种电子装置的部分剖面图；
[0022]图7根据本专利技术的一实施例，一种电子装置的部分剖面图；
[0023]图8A根据本专利技术的一实施例，一种遮光层制造方法的部分示意图；
[0024]图8B-8C根据本专利技术的一实施例，一种遮光层制造方法的部分示意图；以及
[0025]图9根据本专利技术的一实施例，一种电子装置的部分俯视图。
[0026]符号说明：
[0027]10:电子装置
[0028]12:光学感测模块
[0029]14:显示模块
[0030]16:光学传感器阵列、光学传感器
[0031]16a,16b,16c:光学传感器
[0032]18:透明层
[0033]18a:第一透明层
[0034]18b:第二透明层
[0035]20:微透镜阵列、微透镜
[0036]20a,20b,20c,20d,20e,20f:微透镜
[0037]22:基板
[0038]24:薄膜晶体管层
[0039]26:N型非晶硅层
[0040]28:本质非晶硅层
[0041]30:P型非晶硅层
[0042]32:铟锡氧化物层
[0043]36:栅极金属层
[0044]38:氮化硅层
[0045]40:图案化源极/漏极金属层
[0046]41,43:开口
[0047]42:感光半导体层
[0048]44:图案化金属层
[0049]46:滤光层
[0050]48:遮光层
[0051]48a:第一遮光层
[0052]48b:第二遮光层
[0053]48c:第三遮光层
[0054]48a
’
:第一开孔
[0055]48b
’
:第二开孔
[0056]48c
’
:第三开孔
[0057]50:黑色负光阻层
[0058]52,66,78:光罩
[0059]54,68,80:遮光区
[0060]56,70,82:透光区
[0061]58:曝光制程
[0062]60,74,86:曝光区
[0063]62,76,88:未曝光区
[0064]64,90:开孔
[0065]72:第一次曝光制程
[0066]84:第二次曝光制程
[0067]A:微透镜的顶部
[0068]D:微透镜的宽度
[0069]f,f
’
:透明层的厚度
[0070]F,F
’
:微透镜的顶部与光学传感器之间的距离
[0071]O,O
’
:微透镜的球心
[0072]R,R
’
:微透镜的曲率半径
[0073]S:光学传感器的间距
[0074]T、T
’
:微透镜的厚度
[0075]T1:第一透明层的厚度
[0076]T2:第二透明层的厚度
[0077]W1:第一开孔的宽度
[0078]W2:第二开孔的宽度
[0079]W3:第三开孔的宽度
具体实施方式
[0080]以下的揭露内容提供许多不同的实施例以说明本案的不同特征。以下的揭露内容叙述各个构件及其排列方式的特定范例，以简化说明。当然，这些特定的范例并非用以限定。例如，若是本专利技术实施例叙述了一第一特征部件形成于一第二特征部件之上或上方，即表示其可能包含上述第一特征部件与上述第二特本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种电子装置，其特征在于，包括：一光学感测模块，包括：一光学传感器阵列，包括至少一光学传感器；至少一透明层，设置于该光学传感器阵列上；以及一微透镜阵列，包括至少一微透镜，设置于该透明层上。2.如权利要求1的电子装置，其特征在于，该光学传感器包括一光电二极管、一光学薄膜晶体管、或一金属-半导体-金属传感器。3.如权利要求1的电子装置，其特征在于，该透明层过滤波长小于400纳米或大于700纳米的入射光。4.如权利要求1的电子装置，其特征在于，更包括至少一滤光层，设置于该光学传感器阵列与该微透镜阵列之间，其中该滤光层由不同折射率且相互堆栈的多层膜所组成。5.如权利要求1的电子装置，其特征在于，更包括至少一具有开孔的遮光层，设置于该光学传感器阵列与该微透镜阵列之间，且该遮光层与该透明层以相互堆栈的方式...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘侑宗，廖伟汝，林柏辛，林昭吟，李淂裕，
申请(专利权)人：群创光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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