一种可异地加工的抗氧化低辐射镀膜玻璃制造技术

本实用新型专利技术公开了一种可异地加工的抗氧化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：在玻璃基底上向外依次设置有第一介质层、第一功能层、第一保护层、第二介质层、第二保护层、第二功能层、第三保护层、第三介质层、第四介质层，所述第二保护层为金属保护层，所述第四介质层为致密介质层。通过在现有技术的普通双银膜系Low

【技术实现步骤摘要】
一种可异地加工的抗氧化低辐射镀膜玻璃


[0001]本技术涉及低辐射镀膜玻璃
，尤其涉及一种可异地加工的抗氧化低辐射镀膜玻璃。

技术介绍

[0002]低辐射镀膜玻璃(“Low
‑
E”玻璃)是一种对波长4.5～25um的红外线有较高反射比的镀膜玻璃。Low
‑
E玻璃具有传热系数低和反射红外线的特点，它的主要功能是降低室内外远红外线的辐射能量传递，而允许太阳能辐射尽可能多地进入室内，从而维持室内的温度，节省暖气、空调费用的开支。这种产品的可见光透过较高，其反射光的颜色较淡，几乎难以看出。因此，它多被用于中、高纬度寒冷地区。适当控制Low
‑
E玻璃的透过，使它既能反射部分太阳能辐射，也能降低室内外热辐射能量的传递，从而形成一堵隔离辐射能的窗。这种Low
‑
E玻璃产品的可见光透过适中，其反射光的颜色还具有一定的装饰效果，适用性强、选用范围广，可被广泛地用于高、中、低纬度地区，兼具夏天阻挡外部热量进入室内功能。低辐射玻璃是一种既能像浮法玻璃一样让室外太阳能、可见光透过,又像红外线反射镜一样，将物体二次辐射热反射回去的新一代镀膜玻璃，在任何气候环境下使用，均能达到控制阳光、节约能源、热量控制调节及改善环境。低辐射玻璃除了影响玻璃的紫外光线、遮光系数外,还从某角度上观察会小许不同颜色显现在玻璃的反射面上。
[0003]离线低辐射镀膜玻璃，简称离线Low
‑
E，是采用离线磁控真空溅射镀膜工艺，以优质浮法玻璃为基片制备的含有一层金属层，辅以多层耐腐蚀、耐高温能力强的保护膜，具有反射中远红外热辐射、低的传热系数K值、较低的太阳红外热能总透射比，从而具有优异的保温隔热性能。离线Low
‑
E具有清透、雾度极小、热稳定性好的优异性能，可进行多种热处理。
[0004]现有的低辐射膜系一般以传统的工艺为前提，普通Low
‑
E玻璃的膜系结构中，金属膜层是其主功能膜层，其质地较软，与其他膜层结合力较弱，因此要求在成膜后短时间内必须合成中空玻璃使用，而不能异地加工。
[0005]双银Low
‑
E玻璃，因其膜层中有双层银层面而得名，其属于Low
‑
E玻璃膜系结构中较复杂的一种。它突出了玻璃对太阳热辐射的遮蔽效果，将玻璃的高透光性与太阳热辐射的低透过性巧妙地结合在一起，因此与普通Low
‑
E玻璃比较，在可见光透射率相同的情况下具有更低太阳能透过率。目前的双银Low
‑
E膜系结构通常在玻璃基层上依次为：介质层+银层+保护层+介质层+银层+保护层+介质层，由于空气中的氧气，水蒸汽腐蚀容易从顶层渗透进膜层内而将银层氧化，造成产品报废。现有的离线Low
‑
E结构和加工工艺，其报废率高，且加工难度大，影响产品交期。

技术实现思路

[0006]针对上述技术问题，本技术的目的是提供一种可异地加工的抗氧化低辐射镀膜玻璃。
[0007]本技术为了实现其目的采用的技术方案如下：
[0008]一种可异地加工的抗氧化低辐射镀膜玻璃，在玻璃基底上向外依次设置有第一介质层、第一功能层、第一保护层、第二介质层、第二保护层、第二功能层、第三保护层、第三介质层、第四介质层，所述第二保护层为金属保护层，所述第四介质层为致密介质层。
[0009]作为优选地，所述第二保护层为镍铬合金层，所述第四介质层为氮化锆层。
[0010]作为优选地，所述第一介质层为氮化硅层或者锌锡氧化物层或者锌铝氧化物层，所述第二介质层为氧化锡层或者锌锡氧化物层或者锌铝氧化物层，所述第三介质层为氮化硅层，所述第一功能层和第二功能层均为银层或银合金层，所述第一保护层和第三保护层均为镍铬合金层。
[0011]作为优选地，所述第一介质层为氮化硅层。
[0012]作为优选地，所述第二介质层为氧化锡层。
[0013]作为优选地，所述第一功能层和第二功能层均为银层。
[0014]作为优选地，所述第二保护层的厚度为1～2nm，所述第四介质层的厚度为5～10nm。
[0015]作为优选地，所述第一介质层的厚度为25～35nm，所述第二介质层的厚度为60～65nm，所述第三介质层的厚度为30～40nm，所述第四介质层的厚度为5～10nm。
[0016]作为优选地，所述第一功能层的厚度为4～10nm，所述第二功能层的厚度为10～15nm，所述第一保护层的厚度为1～2nm，所述第二保护层的厚度为0.8～2nm，所述第三保护层的厚度为3～5nm。
[0017]作为优选地，所述第一介质层的厚度为35nm，第一功能层的厚度为4nm，第一保护层的厚度为2nm，第二介质层的厚度为60nm，第二保护层的厚度为0.8nm，第二功能层的厚度为12nm，第三保护层的厚度为4nm，第三介质层的厚度为30nm，第四介质层的厚度为5nm。
[0018]实施本技术实施例，将具有如下有益效果：
[0019]本技术的抗氧化低辐射镀膜玻璃，相对于现有技术中的普通双银膜系Low
‑
E玻璃结构，增加最外面的致密介质层，并在第二功能层之前增加一层金属保护层，通过增加的这两层结构，经过实验证明，本技术的低辐射镀膜玻璃抗氧化性强，有效降低产品氧化风险，大幅度减少产品报废率，且本技术的低辐射镀膜玻璃可以异地加工，减少了加工难度。
附图说明
[0020]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0021]其中：
[0022]图1是实施例1中的抗氧化低辐射镀膜玻璃的结构示意图；
[0023]图中，1
‑
玻璃基底、2
‑
第一介质层、3
‑
第一功能层、4
‑
第一保护层、5
‑
第二介质层、6
‑
第二保护层、7
‑
第二功能层、8
‑
第三保护层、9
‑
第三介质层、10
‑
第四介质层。
[0024]图2是实施例2中的抗氧化低辐射镀膜玻璃的玻面反射率检测结果图。
[0025]图3是实施例2中的抗氧化低辐射镀膜玻璃的膜面反射率检测结果图。
[0026]图4是实施例2中的抗氧化低辐射镀膜玻璃的透过率检测结果图。
具体实施方式
[0027]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种可异地加工的抗氧化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：在玻璃基底(1)上向外依次设置有第一介质层(2)、第一功能层(3)、第一保护层(4)、第二介质层(5)、第二保护层(6)、第二功能层(7)、第三保护层(8)、第三介质层(9)、第四介质层(10)，所述第二保护层(6)为金属保护层，所述第四介质层(10)为致密介质层。2.如权利要求1所述的可异地加工的抗氧化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二保护层(6)为镍铬合金层，所述第四介质层(10)为氮化锆层。3.如权利要求1或2所述的可异地加工的抗氧化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一介质层(2)为氮化硅层或者锌锡氧化物层或者锌铝氧化物层，所述第二介质层(5)为氧化锡层或者锌锡氧化物层或者锌铝氧化物层，所述第三介质层(9)为氮化硅层，所述第一功能层(3)和第二功能层(7)均为银层或银合金层，所述第一保护层(4)和第三保护层(8)均为镍铬合金层。4.如权利要求3所述的可异地加工的抗氧化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一介质层(2)为氮化硅层。5.如权利要求3所述的可异地加工的抗氧化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二介质层(5)为氧化锡层。6.如权利要求3所述的可异地加工的抗氧化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一功能层(3)和第...

【专利技术属性】
技术研发人员：董清世，虞海田，
申请(专利权)人：信义玻璃工程东莞有限公司，
类型：新型
国别省市：