涂敷装置以及涂敷方法制造方法及图纸

技术编号:32964048 阅读:8 留言:0更新日期:2022-04-09 11:03
根据实施方式,涂敷装置包括第1管、第1泵、第1、第2喷嘴以及保持部。第1管包括第1流入口、第1流出口以及第2流出口。第1泵可朝向第1流入口供给液体。第1喷嘴包括第1喷嘴流入口以及第1喷嘴排出口。第1喷嘴流入口与第1流出口连接。第1喷嘴排出口可将通过了第1管的液体排出。第2喷嘴包括第2喷嘴流入口以及第2喷嘴排出口。第2喷嘴流入口与第2流出口连接。第2喷嘴排出口可将通过了第1管的液体排出。保持部保持第1、第2喷嘴。保持部可形成第1、第2状态。在第1状态下,第1喷嘴排出口的高度以及第2喷嘴排出口的高度在第1管的高度以上。在第2状态下,第1喷嘴排出口的高度以及第2喷嘴排出口的高度也比第1管的高度低。第1管的高度低。第1管的高度低。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】涂敷装置以及涂敷方法


[0001]本专利技术的实施方式涉及涂敷装置以及涂敷方法。

技术介绍

[0002]存在使用涂敷杆来涂敷液体的涂敷头。希望的是能够形成均匀的涂敷膜的涂敷装置。
[0003]在先技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1:日本特开2016

174992号公报

技术实现思路

[0006]专利技术所要解决的课题
[0007]本专利技术的实施方式是提供一种能够形成均匀的涂敷膜的涂敷装置以及涂敷方法。
[0008]为了解决课题的手段
[0009]根据本专利技术的实施方式,涂敷装置包括第1管、第1泵、第1喷嘴、第2喷嘴以及保持部。所述第1管包括所述第1流入口、第1流出口以及第2流出口。所述第1泵可朝向所述第1流入口供给液体。所述第1喷嘴包括所述第1喷嘴流入口以及第1喷嘴排出口。所述第1喷嘴流入口与所述第1流出口连接。所述第1喷嘴排出口可将通过了所述第1管的所述液体排出。所述第2喷嘴包括所述第2喷嘴流入口以及第2喷嘴排出口。所述第2喷嘴流入口与所述第2流出口连接。所述第2喷嘴排出口可将通过了所述第1管的所述液体排出。所述保持部保持所述第1喷嘴以及所述第2喷嘴。所述保持部可形成第1状态和第2状态。在所述第1状态下,所述第1喷嘴排出口的高度以及所述第2喷嘴排出口的高度为所述第1管的高度以上。在所述第2状态下,所述第1喷嘴排出口的所述高度以及所述第2喷嘴排出口的所述高度比所述第1管的所述高度低。
附图说明
[0010]图1是举例表示有关第1实施方式的涂敷装置的示意性的侧视图。
[0011]图2是举例表示有关第1实施方式的涂敷装置的示意性的俯视图。
[0012]图3的(a)以及图3的(b)是举例表示有关第1实施方式的涂敷装置的示意性的侧视图。
[0013]图4的(a)以及图4的(b)是举例表示有关第1实施方式的涂敷装置的示意性的侧视图。
[0014]图5的(a)以及图5的(b)是举例表示有关第1实施方式的涂敷装置的示意性的侧视图。
[0015]图6的(a)以及图6的(b)是举例表示有关第1实施方式的涂敷装置的示意性的侧视图。
[0016]图7的(a)以及图7的(b)是举例表示有关第1实施方式的涂敷装置的示意性的侧视图。
[0017]图8的(a)以及图8的(b)是举例表示有关第1实施方式的涂敷装置的示意性的侧视图。
[0018]图9是举例表示有关第1实施方式的涂敷装置的一部分的示意性的侧视图。
[0019]图10是举例表示有关第2实施方式的涂敷方法的流程图。
具体实施方式
[0020]下面,参照附图,对本专利技术的实施方式详细地进行说明。
[0021]另外,附图是示意性的或者概念性的图,各部分的厚度和宽度的关系、部分之间的大小的比率等没有必要与现实的情况相同。另外,即使在表示相同的部分的情况下,也存在根据附图而将相互的尺寸、比率不同地表示的情况。
[0022]另外,在本申请说明书和各图中,对与已经出现的图中所述的要素相同的要素标注相同的附图标记,适宜地省略详细的说明。
[0023](第1实施方式)
[0024]图1是举例表示有关第1实施方式的涂敷装置的示意性的侧视图。
[0025]图2是举例表示有关第1实施方式的涂敷装置的示意性的俯视图。
[0026]图3的(a)、图3的(b)、图4的(a)、图4的(b)、图5的(a)以及图5的(b)是举例表示有关第1实施方式的涂敷装置的示意性的侧视图。
[0027]如图1以及图2所示,有关实施方式的涂敷装置110包括第1管21、第1泵31、第1喷嘴11、第2喷嘴12以及保持部41。
[0028]第1管21包括第1流入口21i、第1流出口21a以及第2流出口21b。第1泵31可朝向第1流入口21i供给液体50。
[0029]在该例子中,液体50被积存在容器55。液体50经管28a流入第1泵31。
[0030]第1喷嘴11包括第1喷嘴流入口11i以及第1喷嘴排出口11o。第1喷嘴流入口11i与第1流出口21a连接。第1喷嘴排出口11o可将通过了第1管21的液体50排出。通过第1泵31向第1管21供给液体50,液体50从第1喷嘴排出口11o被排出。
[0031]第2喷嘴12包括第2喷嘴流入口12i以及第2喷嘴排出口12o。第2喷嘴流入口12i与第2流出口21b连接。第2喷嘴排出口12o可将通过了第1管21的液体50排出。通过第1泵31向第1管21供给液体50,液体50从第2喷嘴排出口12o被排出。
[0032]保持部41保持第1喷嘴11以及第2喷嘴12。例如,保持部41是杆状。第1喷嘴11以及第2喷嘴12可以以任意的方法固定在保持部41。
[0033]如图1以及图2所示,例如,设置基体48。基体48的表面例如沿X

Y平面扩展。将相对于X

Y平面垂直的方向作为Z轴方向。
[0034]在基体48设置保持部底座41B。也可以是保持部底座41B相对于基体48移动。保持部底座41B保持杆状的保持部41。杆状的保持部41例如沿Y轴方向延伸。
[0035]在该例子中,保持部41可相对于保持部底座41B转动。转动例如以Y轴方向为中心。例如,保持部41的角度可以以保持部底座41B为基准变更。也可以是可在角度被限制的状态下,角度可变更。若角度变化,则被保持部41保持的多个喷嘴的角度也变化。在实施方式中,
也可以是保持部41的角度不变化,多个喷嘴的角度变化。
[0036]保持部41具有多个状态。保持部41可形成多个状态(例如第1状态以及第2状态等)。图3的(a)以及图3的(b)举例表示第1状态ST1。图4的(a)以及图4的(b)举例表示第2状态ST2。图3的(a)以及第4(a)举例表示包括第1喷嘴11的部分。图3的(b)以及图4的(b)举例表示包括第2喷嘴12的部分。在这些图中,为了容易看图,省略了涂敷装置110中所包括的一部分要素。
[0037]如图3的(a)以及图3的(b)所示,在第1状态ST1下,第1喷嘴排出口11o的高度以及第2喷嘴排出口12o的高度为第1管21的高度以上。如图4的(a)以及图4的(b)所示,在第2状态ST2下,第1喷嘴排出口11o的高度以及第2喷嘴排出口12o的高度比第1管21的高度低。高度例如是Z轴方向上的位置。高度例如是以基体48为基准的Z轴方向上的位置。通过这样的第1状态ST1,如下面说明的那样,能够形成均匀的涂敷膜。
[0038]例如,存在在空气等气体残存在第1管21的一部分的内部的状态下,液体50被供给到第1管21的情况。例如,存在空气等气体残存在第1喷嘴11以及第2喷嘴12中的至少任一者的情况。在这样的状态下,若液体50被供给到第1管21,则气体没有被排出,容易使液体从没有残存气体的喷嘴被排出的状态持续。若气体没有被排出,则液体50的均匀的排本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种涂敷装置,其中,所述涂敷装置具备第1管、第1泵、第1喷嘴、第2喷嘴和保持部,所述第1管包括所述第1流入口、第1流出口以及第2流出口,所述第1泵能朝向所述第1流入口供给液体,所述第1喷嘴包括所述第1喷嘴流入口以及第1喷嘴排出口,所述第1喷嘴流入口与所述第1流出口连接,所述第1喷嘴排出口能将通过了所述第1管的所述液体排出,所述第2喷嘴包括所述第2喷嘴流入口以及第2喷嘴排出口,所述第2喷嘴流入口与所述第2流出口连接,所述第2喷嘴排出口能将通过了所述第1管的所述液体排出,所述保持部保持所述第1喷嘴以及所述第2喷嘴,所述保持部能形成第1状态和第2状态,在所述第1状态下,所述第1喷嘴排出口的高度以及所述第2喷嘴排出口的高度为所述第1管的高度以上,在所述第2状态下,所述第1喷嘴排出口的所述高度以及所述第2喷嘴排出口的所述高度比所述第1管的所述高度低。2.如权利要求1所述的涂敷装置,其中,所述第1泵能在所述第1状态下向所述第1流入口供给所述液体,从所述第1喷嘴排出口以及所述第2喷嘴排出口排出所述液体。3.如权利要求2所述的涂敷装置,其中,所述涂敷装置还具备喷嘴液体接收部,所述喷嘴液体接收部能接收从所述第1喷嘴排出口以及所述第2喷嘴排出口排出的所述液体。4.如权利要求1所述的涂敷装置,其中,所述第1泵能在所述第1状态下向所述第1流入口供给所述液体,从所述第1喷嘴以及所述第2喷嘴中的至少任一者排出所述第1喷嘴以及所述第2喷嘴中的所述至少任一者中的气体。5.如权利要求1所述的涂敷装置,其中,所述第1泵能在所述第2状态下向所述第1流入口供给所述液体,从所述第1喷嘴以及所述第2喷嘴排出所述液体,向被涂敷部件涂敷所述液体。6.如权利要求1所述的涂敷装置,其中,所述涂敷装置还具备能与被涂敷部件相向的涂敷杆,在所述第2状态下,所述第1喷嘴排出口以及所述第2喷嘴排出口能向所述涂敷杆供给所述液体。7.如权利要求6所述的涂敷装置,其中,所述涂敷杆能在所述涂敷杆和所述被涂敷部件之间形成所述液体的弯液面。8.如权利要求6所述的涂敷装置,其中,所述涂敷杆的表面包括凹凸,所述凹凸的最大高度Rz例如为5μm以上且50μm以下。9.如权利要求6所述的涂敷装置,其中,所述保持部能控制所述第1喷嘴和所述涂敷杆之间的相对位置关系以及所述第2喷嘴
和所述涂敷杆之间的相对位置关系。10.如权利要求6所述的涂敷装置,其中,所...

【专利技术属性】
技术研发人员:内藤胜之信田直美奈良康平小久保高弘平泽博明齐田穰
申请(专利权)人:东芝能源系统株式会社
类型:发明
国别省市:

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