显示面板均匀性校准系统技术方案

显示器校准装置(300A)包括透镜(310)和主动冷却电磁辐射检测器(303)，该电磁辐射检测器被配置为检测从被测的电子显示面板的各个像素发射的电磁辐射。电磁辐射在到达检测器之前穿过透镜。显示器校准装置还包括专用计算设备，该专用计算设备被配置为：分析来自电子显示面板的像素的检测到的电磁辐射，并使用指定的校准算法为电子显示面板生成校准数据。这样，电子显示面板使用生成的校准数据进行操作。还公开了相应的计算机实现的方法。作。还公开了相应的计算机实现的方法。作。还公开了相应的计算机实现的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】显示面板均匀性校准系统


[0001]本公开总体上涉及用于校准电子显示器的方法和系统。
[0002]背景
[0003]许多电子显示器使用像素的网格来投射整体图像。网格可以包括数千或数百万个像素。这些像素中的每一个都可以被配置成投射特定的颜色：通常是红色、绿色或蓝色。根据来自图形卡或其他显示控制器的控制信号，这些像素中的每一个可以以不同的强度投射颜色。人工现实设备中使用的电子显示器通常比诸如电视或桌面显示器的其他显示器更靠近用户的眼睛。因为这些人工现实显示器更靠近用户的眼睛，所以用户可以更容易地看到显示器中的差异。例如，一些像素可能以不同于其他像素的强度投射。用户的眼睛可能能够发现这些差异，并且当这种情况发生时，用户可能会从显示设备投射的人工世界中分心。
[0004]在某些情况下，当电子显示器被设置为显示不同级别的灰度时，可以看到这种像素到像素的变化。像素的这种变化传统上被称为“不均匀(mura)”。不均匀通常描述在相同的输出灰度级下显示的像素到像素的变化所导致的非均匀性。这种非均匀性在较低的输出灰度级时可能更加突出。例如，当显示均匀的黑暗场景时，用户可能会注意到像素之间的变化，可能会看到一些像素投射出较浅或较深的灰色阴影，而不是为用户提供良好的沉浸体验。
[0005]概述
[0006]本文描述的实施例可以减少电子显示器中经历的不均匀。在一些情况下，可以逐个像素地校准电子显示器。例如，本文描述的系统可以计算像素到像素的校准数据，并且当在该显示器上渲染图像时，将计算的值应用于每个红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)通道。本文描述的实施例可以分析从电子显示器发射的电磁辐射，并且为每个颜色通道和/或为每个像素生成校准数据。该校准数据然后可以用于测试和校准跨电子显示器的像素的均匀性。
[0007]本专利技术涉及根据权利要求1的显示器校准装置、根据权利要求8的计算机实现的方法和根据权利要求13的系统。有利的实施例可以包括从属权利要求的特征。
[0008]因此，根据本专利技术的显示器校准装置包括透镜和主动冷却电磁辐射检测器，该检测器被配置为检测从被测的电子显示面板的一个或更多个像素发射的电磁辐射，其中电磁辐射在到达检测器之前穿过透镜。该装置还包括专用计算设备，该专用计算设备被配置为分析来自电子显示面板的一个或更多个像素的检测到的电磁辐射，并使用指定的校准算法为电子显示面板生成校准数据，使得电子显示面板使用生成的校准数据进行操作。
[0009]在一个实施例中，主动冷却电磁辐射检测器可以进一步包括主动冷却互补金属氧化物半导体(CMOS)检测器。
[0010]在一个实施例中，透镜可以具有一个或更多个指定的特性，这些特性被配置为增加校准数据的准确度，包括指定的最小分辨率水平，并且校准数据的生成取决于指定的最小分辨率水平。
[0011]在一个实施例中，透镜可以具有一个或更多个指定的特性，这些特性被配置为增加校准数据的准确度，包括指定的最大失真水平，并且校准数据的生成取决于指定的最大
失真水平。
[0012]在一个实施例中，透镜可以具有一个或更多个指定的特性，这些特性被配置为增加校准数据的准确度，包括指定的最大场曲率水平，并且校准数据的生成取决于指定的最大场曲率水平。
[0013]在一个实施例中，透镜可以具有一个或更多个指定的特性，这些特性被配置为增加校准数据的准确度，包括指定的最大色差(chromatic aberration)水平，并且校准数据的生成取决于指定的最大色差水平。
[0014]在一个实施例中，与透镜相关联的纵横比可以匹配与显示面板相关联的纵横比。
[0015]在另一个实施例中，透镜和电磁辐射检测器可以被配置成匹配指定的校准算法的一个或更多个特征。
[0016]此外，在另一实施例中，由专用计算设备执行的分析来自电子显示面板的一个或更多个像素的检测到的电磁辐射的步骤可以由多个专用计算设备并行执行。
[0017]在另一个实施例中，使用指定的校准算法为电子显示面板生成校准值的步骤可以由多个专用计算设备并行执行。
[0018]一种根据本专利技术的计算机实现的方法包括分析由主动冷却电磁辐射检测器检测到的电磁辐射的一个或更多个部分，其中主动冷却电磁辐射检测器被配置成检测从被测的电子显示面板的一个或更多个像素发射的电磁辐射，并且其中电磁辐射在到达检测器之前穿过至少一个透镜。该方法还包括使用指定的校准算法为电子显示面板生成校准数据，并使用生成的校准数据控制电子显示面板。
[0019]在一个实施例中，在生成校准数据的同时，可以分析从一个或更多个不同的电子显示面板检测到的电磁辐射。
[0020]在一个实施例中，电子显示器的校准数据可以被并行生成，其中可选地，校准数据的并行生成允许用于电磁辐射检测器的增加的曝光时间。
[0021]在一个实施例中，电磁辐射检测器可以包括用于显示面板的每个像素的至少多个检测像素。
[0022]根据一个实施例，电磁辐射检测器上的传感器区域可以与电子显示面板的纵横比对齐。
[0023]在一个实施例中，分析由主动冷却电磁辐射检测器检测到的电磁辐射的一个或更多个部分可以包括识别电子显示面板中的一个或更多个质心。在这种情况下，识别电子显示面板中的一个或更多个质心的步骤可以可选地跨两个或更多个专用计算系统并行化，其中进一步可选地，基于并行化的专用计算系统的数量，减少或增加与检测从被测的电子显示面板的一个或更多个像素发射的电磁辐射相关联的曝光时间量。
[0024]一种根据本专利技术的系统包括透镜和主动冷却电磁辐射检测器，该检测器被配置为检测从被测的电子显示面板的一个或更多个像素发射的电磁辐射，其中电磁辐射在到达检测器之前穿过透镜。该系统还包括至少一个物理处理器和物理存储器，该物理存储器包括计算机可执行指令，该指令在被物理处理器执行时使物理处理器分析来自电子显示面板的一个或更多个像素的检测到的电磁辐射，并且使用指定的校准算法为电子显示面板生成校准数据，使得电子显示面板使用生成的校准数据进行操作。
[0025]来自本文描述的任何实施例的特征可以根据本文描述的一般原理彼此组合使用。
通过结合附图和权利要求阅读以下详细描述，将会更全面地理解这些和其他实施例、特征和优点。
[0026]附图简述
[0027]附图示出了许多示例性实施例，并且是说明书的一部分。这些附图与以下描述一起展示并解释了本公开的各种原理。
[0028]图1示出了可以校准电子显示器的计算环境。
[0029]图2是用于校准电子显示器的示例性方法的流程图。
[0030]图3A和图3B示出了其中测试设备可用于测试和校准电子显示器的实施例。
[0031]图4示出了将电磁辐射波长映射到光的可见颜色的图表。
[0032]图5示出了测试架构，其中实现了各种部件来校准电子显示器。
[0033]图6示出了计算环境，其中并行使用多个专用计算系统来分析来自电子显示器的电磁辐射。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种显示器校准装置，包括：透镜；主动冷却电磁辐射检测器，其被配置为检测从被测的电子显示面板的一个或更多个像素发射的电磁辐射，其中所述电磁辐射在到达所述检测器之前穿过所述透镜；以及专用计算设备，其被配置为：分析来自所述电子显示面板的一个或更多个像素的检测到的电磁辐射；以及使用指定的校准算法为所述电子显示面板生成校准数据，使得所述电子显示面板使用生成的校准数据进行操作。2.根据权利要求1所述的显示器校准装置，其中，所述主动冷却电磁辐射检测器包括主动冷却互补金属氧化物半导体(CMOS)检测器。3.根据权利要求1所述的显示器校准装置，其中所述透镜具有被配置为增加所述校准数据的准确度的一个或更多个指定特性，所述一个或更多个指定特性选自由以下项构成的组：
‑
指定的最小分辨率水平，
‑
指定的最大失真水平，
‑
指定的最大场曲率水平，以及
‑
指定的最大色差水平；并且其中，所述校准数据的生成依赖于所述一个或更多个指定特性。4.根据权利要求1所述的显示器校准装置，其中，与所述透镜相关联的纵横比匹配与所述显示面板相关联的纵横比。5.根据权利要求1所述的显示器校准装置，其中，所述透镜和所述电磁辐射检测器被配置为匹配所述指定的校准算法的一个或更多个特性。6.根据权利要求1所述的显示器校准装置，其中，由所述专用计算设备执行的分析来自所述电子显示面板的一个或更多个像素的检测到的电磁辐射的步骤由多个专用计算设备并行执行。7.根据权利要求1所述的显示器校准装置，其中，使用指定的校准算法为所述电子显示面板生成校准值的步骤由多个专用计算设备并行执行。8.一种计算机实现的方法，包括：分析由主动冷却电磁辐射检测器检测到的电磁辐射的一个或更多个部分，所述主动冷却电磁辐射检...

【专利技术属性】
技术研发人员：白楠，基兰，
申请(专利权)人：脸谱科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：