【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于对物体成像的设备和方法
[0001]本专利技术涉及一种用于显微镜的光学成像设备，包括被配置为收集来自物体的检测光并将所述检测光聚焦到光路中的物镜。此外，本专利技术涉及一种用于对物体成像的方法。
技术介绍
[0002]通过显微镜寻找成像的物体可能是一项艰巨的任务。特别是在显微镜系统中，物镜的改变是不可能的或有严格的限制，寻找物体可能是一个重大的挑战。当在倒置显微镜配置中使用具有长工作距离的浸没物镜时，情况尤其如此。即使在使用自动浸没式分配器时，也存在应用或移除浸没式介质会破坏使用不同物镜的成像情况之间的相关性的风险。
[0003]当使用具有相对高倍率和高数值孔径的显微镜系统时，要成像的物场(object field)的横向尺寸和轴向景深都相对较小。特别是为了扩大物场，因此有必要切换到具有较低倍率和较低数值孔径的不同物镜。然而，由于上述原因，改变物镜会带来严重的缺点，尤其是在使用基于浸没的显微镜系统时。
[0004]当使用成像配置偏离聚焦在平行于显微镜载物台表面的物平面上的通常配置的显微镜时，情况变得更加复杂...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于显微镜(100)的光学成像设备(102)，包括：物镜(106)，被配置为收集来自物体(104)的检测光，并将所述检测光引导到光路(114)中，以及光学系统(108)，包括多个透镜元件，所述多个透镜元件被配置为与所述物镜(106)相互作用，用于选择性地在第一操作模式和第二操作模式中对所述物体(104)进行光学成像，其中所述光学系统(108)包括与所述第一操作模式相关联的第一光学子系统(110)，所述第一光学子系统被配置为以第一倍率形成所述物体(104)的第一图像，其中所述光学系统(108)包括与所述第二操作模式相关联的第二光学子系统(112)，所述第二光学子系统(112)被配置为以第二倍率形成所述物体(104)的第二图像，所述第二倍率小于所述第一倍率，其中所述第二光学子系统(112)包括可插入到所述光路(114)中以用于选择所述第二操作模式的光学模块(118)，所述光学模块(118)包括具有正折射力的透镜元件(126)，所述具有正折射力的透镜元件(126)当被插入到所述光路(114)中时通过比所述光学系统(108)的其他透镜元件更靠近所述物镜(106)的出射光瞳(130)而使得所述第二倍率小于所述第一倍率。2.根据权利要求1所述的光学成像设备(102)，其中，所述光学模块进一步包括光偏转器(128)，所述光偏转器(128)被配置为当被插入到所述光路(124)中时从所述光路(114)分支出光侧路(130)，所述第二图像被形成在所述光侧路(130)中。3.根据权利要求1或2所述的光学成像设备(102)，其中所述第二光学子系统(112)包括开普勒望远镜系统(138)，所述开普勒望远镜系统(138)具有由包括在所述光学模块(118)中的所述具有正折射力的透镜元件(126)形成的最靠近物侧的第一透镜元件。4.根据权利要求3所述的光学成像设备(102)，其中，所述开普勒望远镜系统(138)被配置为形成所述出射光瞳(130)的图像(142)。5.根据权利要求4所述的光学成像设备(120)，其中，所述第二光学子系统(112)包括孔径光阑(144)，所述孔径光阑(144)位于所述出射光瞳(130)的所述图像(142)的位置处，所述图像(142)作为真实图像来形成。6.根据权利要求3至5中的一项所述的光学成像设备(102)，其中，所述开普勒望远镜系统(138)包括具有正折射力的第二透镜元件(140)，所述第二透镜元件(140)被配置为对所述检测光的光束进行准直，每个光束与所述物镜(106)从中收集所述检测光的物场(116)中的单个点相关联。7.根据前述权利要求中任一项所述的光学成像设备(102)，其中，所述第二光学子系统(112)包括被配置为将所述检测光聚焦到像平面上的管透镜(146)。8.根据权利要求7所述的光学成像设备(102)，其中，所述第二光学子系统(112)包括位于所述像平面中的图像传感器(148)。9.根据权利要求6至8中的一项所述的光学成像设备(102)，其中，所述第二光学...
【专利技术属性】
技术研发人员：克里斯蒂安，
申请(专利权)人：莱卡微系统CMS有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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