一种纹理采样方法、设备、存储介质技术

本申请提供一种纹理采样方法、设备、存储介质，该方法包括：基于目标点确定纹理坐标；根据纹理坐标计算各向同性多细节层次值LOD

【技术实现步骤摘要】
一种纹理采样方法、设备、存储介质


[0001]本申请涉及图形处理器
，尤其涉及一种纹理采样方法、设备、存储介质。

技术介绍

[0002]GPU(Graphics Processing Unit，图形处理器)在渲染过程中，需要将纹理图的某个部分贴到三维物体的表面，物体上的每个点都对应一个纹理坐标，纹理采样即根据片元的纹理坐标到纹理图中取对应位置的颜色。但由于被渲染图元中的片元数量与其对应纹理区域中纹理元素(texel)的数量不一定相同，直接使用最邻近采样可能导致过采样和欠采样。
[0003]通常的做法是使用Mipmap和双线性插值。
[0004]Mipmap是一组纹理图，分辨率按2的倍数逐渐缩小，直至1
×
1。当片元对应的纹理元素较多时，使用分辨率较低的纹理图，以避免过多的计算量。
[0005]片元的纹理坐标通常不是整数，此时，对最近的2
×
2纹理元素采样并通过双线性插值得到片元的纹理值。
[0006]上述采样是各向同性采样，适用于一个片元对应于一个正方形区域纹理元素的情况本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种纹理采样方法，其特征在于，所述方法包括：基于目标点确定纹理坐标；根据所述纹理坐标计算各向同性多细节层次值LOD
max
；根据LOD
max
确定各向异性多细节层次值LOD
aniso
；根据LOD
max
和LOD
aniso
生成采样点；基于所述采样点计算所述目标点的纹理值。2.根据所述权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于目标点确定纹理坐标，包括：获取目标点的纹理坐标(s0，t0)；获取所述目标点水平方向邻点的纹理坐标(s1，t1)；获取所述目标点垂直方向邻点的纹理坐标(s2，t2)。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述纹理坐标计算各向同性多细节层次值LOD
max
，包括：，包括：确定第三值＝max{第一值，第二值}；计算LOD
max
＝log2第三值。4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据LOD
max
确定各向异性LOD，包括：确定LOD
aniso
＝log2[|(s1‑
s0)(t2‑
t0)
‑
(s2‑
s0)(t1‑
t0)|]
‑
LOD
max
。5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据LOD
max
和LOD
aniso
生成采样点，包括：确定比率确定采样点数量N为不小于ratio的最小偶数；根...

【专利技术属性】
技术研发人员：李可寒，
申请(专利权)人：长沙景美集成电路设计有限公司，
类型：发明
国别省市：