基板收纳容器制造技术

技术编号:32870022 阅读:20 留言:0更新日期:2022-04-02 11:58
本发明专利技术提供一种清洗液不易残留于供气机构的基板收纳容器。基板收纳容器于前表面侧具有开口,于底面包括供气机构,其中,所述供气机构包括:导入通路,从底面侧接收气体;以及止回阀,配置于在沿着底面的水平面内的与导入通路不重合的位置,以及流路,从导入通路朝向止回阀供给气体。阀供给气体。阀供给气体。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板收纳容器


[0001]本专利技术涉及一种收纳基板的基板收纳容器。

技术介绍

[0002]收纳半导体晶片等的基板的基板收纳容器,用于仓库内的基板保管、半导体加工装置之间的基板搬送或者工厂之间的基板搬送等。基板收纳容器构成为,可以通过来自气体置换装置送来的氮气等的惰性气体或干燥空气等置换其内部空间,以防止收纳于内部的基板被氧化或污染,或者使内部湿度保持为恒定。在基板收纳容器的底面设置有用于导入来自气体置换装置送来的气体的供气机构。
[0003]现有技术
[0004]专利文献
[0005]专利文献1:日本特许6265844号公报

技术实现思路

[0006]专利技术要解决的技术问题
[0007]基板收纳容器在收纳基板之前,预先使用专用的清洗装置进行清洗。清洗工序中包括向基板收纳容器喷射清洗液(水)的工序,以及干燥残留在基板收纳容器的表面的清洗液的工序。然而,在现有的基板收纳容器中,存在清洗工序中清洗液容易残留在设置于其底面的供气机构的问题。
[0008]本专利技术的目的在于提供一种清洗液不易残本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种基板收纳容器,于前表面侧具有开口,于底面包括供气机构,且所述基板收纳容器的特征在于,所述供气机构包括:导入通路,从所述底面侧接收气体;以及止回阀,配置于在沿着所述底面的水平面内的与所述导入通路不重合的位置,以及流路,从所述导入通路朝向所述止回阀供给所述气体。2.根据权利要求1所述的基板收纳容器,其特征在于,所述流路形成于与包括所述止回阀的部件不同的部件。3.根据权利要求1所述的基板收纳容器,其特征在于,所述供气机构包括:过滤器构件,配置于比所述流路更靠近下流侧。4.根据权利要求1所述的基板收纳容器,其特征在于,所述导入通路配置于比所...

【专利技术属性】
技术研发人员:小川统
申请(专利权)人:信越聚合物株式会社
类型:发明
国别省市:

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