光刻装置的控制方法、光刻装置以及物品制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及光刻装置的控制方法、光刻装置以及物品制造方法。提供有利于提高基板的位置测量的精度的技术。光刻装置的控制方法具有：取得工序，由摄像部对基板的测量区域进行摄像而得到图像；计算工序，计算与得到的所述图像的熵有关的评价值；以及登记工序，在计算出的所述评价值满足预定的基准的情况下，将所述图像的信息登记为用于基板的位置测量的信息。像的信息登记为用于基板的位置测量的信息。像的信息登记为用于基板的位置测量的信息。

【技术实现步骤摘要】
光刻装置的控制方法、光刻装置以及物品制造方法


[0001]本专利技术涉及光刻装置的控制方法、光刻装置以及物品制造方法。

技术介绍

[0002]在专利文献1中，公开了一种将任意的图案预先登记为标记，使用所登记的图案测量基板的位置的技术。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2006
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032521号公报

技术实现思路

[0006]专利技术要解决的课题
[0007]在被登记为标记的图案的形状任意的情况下，根据其形状，由于测量系统的透镜像差的影响，测量精度可能降低。特别，在图案的形状相对于测量中心非对称地分布的情况下，受到由相对于测量中心以各向同性扩展的透镜像差引起的失真的影响。即，在图案的形状相对于测量中心非对称的情况下，在图案的一方的单侧产生的失真量和在另一方的单侧产生的失真量不同。因此，根据送入的图案的位置不同而图案失真的量发生变化，测量线性度(linearity)降低。另外，在可识别为标记的图案的信息量少的情况下，受到电气噪声等的影响本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻装置的控制方法，其特征在于，具有：取得工序，由摄像部对基板的测量区域进行摄像而得到图像；计算工序，计算与得到的所述图像的熵有关的评价值；以及登记工序，在计算出的所述评价值满足预定的基准的情况下，将所述图像的信息登记为用于基板的位置测量的信息。2.根据权利要求1所述的控制方法，其特征在于，所述评价值是用于评价所述图像的信息量、在所述图像中示出的图案的分布的偏差、所述图案的对称性中的至少任意一个的值。3.根据权利要求2所述的控制方法，其特征在于，所述计算工序包括：计算分割所述图像而得到的多个区域中的各区域中的图像的熵的工序；以及根据计算出的所述各区域的图像的熵来计算所述评价值的工序。4.根据权利要求3所述的控制方法，其特征在于，所述评价值包括表示计算出的所述各区域的图像的熵的总和的整体熵，所述整体熵是表示所述信息量的值。5.根据权利要求3所述的控制方法，其特征在于，所述评价值包括表示计算出的所述各区域的图像的熵的方差的熵方差值，所述熵方差值是表示所述偏差的值。6.根据权利要求3所述的控制方法，其特征在于，所述评价值包括相对于所述图像的中心处于对称的位置的区域的图像的熵的差分，所述熵的差分是表示所述对称性的值。7.根据权利要求3所述的控制方法，其特征在于，所述评价值使用评价式来计算，该评价式包括以下项：包括表示计算出的所述各区域的图像的熵的总和的整体熵的项，所述整体熵是表示所述信息量的值；包括表示计算出的所述各区域的图像的熵的方差的熵方差值的项，所述熵方差值是表示所述偏差的值；以及包括相对于所述图像的中心处于对称的位置的区域的图像的熵的差分的项，所述熵的差分是表示所述对称性的值。8.根据权利要求1至7中的任意一项所述的控制方法，其特征在于，在所述登记工序中，在计算出的所述评价值满足预定的基准的情...

【专利技术属性】
技术研发人员：辻川卓朗，本岛顺一，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：