一种高解卷、无析出、高雾度的自粘性聚乙烯保护膜及其制备方法技术

本发明专利技术涉及光学保护膜技术领域，提供了一种高解卷、无析出、高雾度的自粘性聚乙烯保护膜及其制备方法。本发明专利技术通过对原料的选择和匹配，使膜材表面形成规则且密集的凸凹点排布，解卷剥离时，膜材的粘层和背层结合面不会产生微观上的真空负压，达到了易于解卷、防黏连的目的；另外，本发明专利技术提供的保护膜中不添加硅酮母粒，在使用时不会出现析出现象；保护膜的内层选择高雾度的高压低密度聚乙烯，使保护膜具有较高的雾度，呈现出较好的哑光效果。本发明专利技术还提供了上述方案所述高解卷、无析出、高雾度的自粘性聚乙烯保护膜的制备方法，本发明专利技术将冷却膜泡的风温控制在20～25℃，通过提高风温降低膜泡的冷却速度，从而使保护膜达到所需的雾度。度。度。

【技术实现步骤摘要】
一种高解卷、无析出、高雾度的自粘性聚乙烯保护膜及其制备方法


[0001]本专利技术涉及光学保护膜
，尤其涉及一种高解卷、无析出、高雾度的自粘性聚乙烯保护膜及其制备方法。

技术介绍

[0002]偏光片广泛应用于光电显示、太阳眼镜、防眩护目镜、摄影器材之滤光镜、偏光显微镜、3D眼镜、特殊医疗用眼镜等领域，其中应用在光电显示的市场规模及产值最大。
[0003]在制造和运输偏光片的过程中，为了防止偏光片表面的污染或损伤，需要在偏光片的表面贴合保护膜。保护膜通常是由三层一体成型，包括粘性层、芯层和背胶层，在实际生产时，保护膜通常被卷成筒状，在较大的收卷压力下，粘层和背层的结合面紧密压迫，导致成卷后不易解卷，在使用时容易造成薄膜拉伸变形。
[0004]专利CN112430436A中公布了一种高粘易解卷自粘保护膜，该保护膜包括粘层、中间层和防粘层，粘层原料包括热塑性弹性体材料和增粘树脂，中间层原料包括聚丙烯无规共聚树脂，防粘层原料包括高密度聚乙烯、低密度聚乙烯和防粘母料，防粘母料为硅酮母料。该保护膜解卷性较好，但是由于添加了硅酮母料，膜在后期应用时，因为对接物温度高或贴膜时间长，膜材中会析出低分子化合物或产生气泡，去除保护膜后在保护物表面留下残留，形成鬼影。

技术实现思路

[0005]有鉴于此，本专利技术提供了一种高解卷、无析出、高雾度的自粘性聚乙烯保护膜及其制备方法。本专利技术提供的自粘性聚乙烯保护膜不添加硅酮母料，所得保护膜无析出现象，且容易解卷，还具有较好的哑光效果(即高雾度)。
>[0006]为了实现上述专利技术目的，本专利技术提供以下技术方案：
[0007]一种高解卷、无析出、高雾度的自粘性聚乙烯保护膜，由外层、中层和内层三层共挤吹膜制成；
[0008]所述外层的制备原料为茂金属低密度聚乙烯和聚烯烃塑性体；所述茂金属低密度聚乙烯和聚烯烃塑性体的质量比为6～17:4～15；
[0009]所述中层的制备原料为第一高压低密度聚乙烯；所述第一高压低密度聚乙烯的熔指为0.5～1.5g/10min；密度为0.920～0.930g/cm3；
[0010]所述内层的制备原料为第二高压低密度聚乙烯；所述第二高压低密度聚乙烯为高雾度高压低密度聚乙烯；所述高雾度高压低密度聚乙烯的熔指为 1.0～2.0g/10min，密度为0.920～0.930g/cm3。
[0011]优选的，所述外层的制备原料中，茂金属低密度聚乙烯的熔指为 0.8～1.5g/10min，密度为0.910～0.915g/cm3；
[0012]所述的外层的制备原料中，聚烯烃塑性体的熔指为2.5～4g/10min，密度为0.870
～0.900g/cm3。
[0013]优选的，所述外层、中层和内层的质量比为10～15:30～50:40～70。
[0014]优选的，所述保护膜的雾度≥18％。
[0015]优选的，包括以下步骤：
[0016]将外层的制备原料、中层的制备原料和内层的制备原料分别进入外层、中层和内层挤出机中进行熔融塑化，所得熔胶过滤后输送至模头，挤出吹膜并形成膜泡自模口吹出，吹出的膜泡通过模口处的自动风环冷却，得到高解卷、无析出、高雾度的自粘性聚乙烯保护膜；所述自动风环的风温为20～25℃。
[0017]优选的，所述外层挤出机、中层挤出机和内层挤出机均设置有6个加热区，按照原料通过顺序，依次记为一区～六区；所述模头设置有4个加热区，按照原料通过顺序，依次记为一区～四区；
[0018]所述外层挤出机的一区温度为170～175℃，二区温度为175～180℃，三区温度为175～180℃，四区温度为175～180℃，五区温度为175～180℃，六区温度为175～180℃；
[0019]所述中层挤出机的一区温度为160～165℃，二区温度为165～170℃，三区温度为165～170℃，四区温度为165～170℃，五区温度为160～165℃，六区温度为160～165℃；
[0020]所述内层挤出机的一区温度为155～160℃，二区温度为160～165℃，三区温度为160～165℃，四区温度为160～165℃，五区温度为160～165℃，六区温度为160～165℃；
[0021]所述模头的一区温度为170～175℃，二区温度为175～180℃，三区温度为 175～180℃，四区温度为175～180℃。
[0022]优选的，所述外层挤出机、中层挤出机和内层挤出机的挤出压力独立地为15～40MPa。
[0023]根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，膜泡冷却后，还包括依次进行稳泡、测厚、牵引、瑕疵检测、切边、除静电和收卷。
[0024]本专利技术提供了一种高解卷、无析出、高雾度的自粘性聚乙烯保护膜，由外层、中层和内层三层共挤吹膜制成；所述外层的制备原料为茂金属低密度聚乙烯和聚烯烃塑性体；所述茂金属低密度聚乙烯和聚烯烃塑性体的质量比为6～17:4～15；所述中层的制备原料为第一高压低密度聚乙烯；所述第一高压低密度聚乙烯的熔指为0.5～1.5g/10min；密度为0.920～0.930g/cm3；所述内层的制备原料为第二高压低密度聚乙烯；所述第二高压低密度聚乙烯为高雾度高压低密度聚乙烯；所述高雾度高压低密度聚乙烯的熔指为 1.0～2.0g/10min，密度为0.920～0.930g/cm3。本专利技术通过对外层、内层和中层制备原料的选择和匹配，使膜材表面形成规则且密集的凸凹点排布，解卷剥离时，膜材的粘层和背层结合面不会产生微观上的真空负压，达到了易于解卷、防黏连的目的；另外，本专利技术提供的保护膜中不添加硅酮母粒，在使用时不会出现析出现象；并且本专利技术在保护膜的内层选择高雾度的高压低密度聚乙烯，使保护膜具有较高的雾度，呈现出较好的哑光效果。
[0025]本专利技术还提供了上述方案所述高解卷、无析出、高雾度的自粘性聚乙烯保护膜的制备方法，传统的保护膜制备时，为了保证产能，膜泡的冷却温度一般为15℃以下，而本专利技术将冷却膜泡的风温控制在20～25℃，通过提高风温降低膜泡的冷却速度，使保护膜达到所需的雾度。
[0026]实施例结果表明，本专利技术提供的高解卷、无析出、高雾度的聚乙烯保护膜解卷性
好，无析出现象，且雾度达到19％以上。
附图说明
图1为实施例1制备的聚乙烯保护膜的显微镜图。
具体实施方式
[0027]本专利技术提供了一种高解卷、无析出、高雾度的自粘性聚乙烯保护膜，其特征在于，由外层、中层和内层三层共挤吹膜制成。
[0028]在本专利技术中，所述外层的制备原料为茂金属低密度聚乙烯和聚烯烃塑性体；所述茂金属低密度聚乙烯和聚烯烃塑性体的质量比为6～17:4～15，
[0029]所述中层的制备原料为第一高压低密度聚乙烯；所述第一高压低密度聚乙烯的熔指为0.5～1.5g/10min；密度独立地为0.920～0.930g/cm3；
[0030]所述内层的制备原料为第二高压低密度聚乙烯；所述第二高压低密度本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高解卷、无析出、高雾度的自粘性聚乙烯保护膜，其特征在于，由外层、中层和内层三层共挤吹膜制成；所述外层的制备原料为茂金属低密度聚乙烯和聚烯烃塑性体；所述茂金属低密度聚乙烯和聚烯烃塑性体的质量比为6～17:4～15；所述中层的制备原料为第一高压低密度聚乙烯；所述第一高压低密度聚乙烯的熔指为0.5～1.5g/10min；密度为0.920～0.930g/cm3；所述内层的制备原料为第二高压低密度聚乙烯；所述第二高压低密度聚乙烯为高雾度高压低密度聚乙烯；所述高雾度高压低密度聚乙烯的熔指为1.0～2.0g/10min，密度为0.920～0.930g/cm3。2.根据权利要求1所述的高解卷、无析出、高雾度的自粘性聚乙烯保护膜，其特征在于，所述外层的制备原料中，茂金属低密度聚乙烯的熔指为0.8～1.5g/10min，密度为0.910～0.915g/cm3；所述的外层的制备原料中，聚烯烃塑性体的熔指为2.5～4g/10min，密度为0.870～0.900g/cm3。3.根据权利要求1所述的高解卷、无析出、高雾度的自粘性纯聚乙烯保护膜，其特征在于，所述外层、中层和内层的质量比为10～15:30～50:40～70。4.根据权利要求1～3任一项所述的高解卷、无析出、高雾度的自粘性纯聚乙烯保护膜，其特征在于，所述保护膜的雾度≥18％。5.权利要求1～4任意一项所述高解卷、无析出、高雾度的自粘性聚乙烯保护膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将外层的制备原料、中层的制备原料和内层的制备原料分别进入外层、中层和内层挤出机...

【专利技术属性】
技术研发人员：文斌森，魏洪媚，
申请(专利权)人：江门市华龙膜材股份有限公司，
类型：发明
国别省市：