铜电解液循环槽制造技术

本实用新型专利技术的目的是提供一种阴极铜质量好且结构简单的铜电解液循环槽，进液侧的槽体上设置有补液口，出液侧的槽体上部位置处设置有溢流口，临近溢流口的槽腔内设置有挡板，挡板将槽体分隔电解主槽和溢流槽，挡板的下端位置处设置有过液口，电解液自补液口进入电解主槽内，再经过液口进入溢流槽内。与现有技术相比，电解液循环方式由“下进上出”改变成“上进下出”，这与阳极泥的掉落方向一致，有助于阳极泥掉落至槽底，从而保证阴极板的质量。从而保证阴极板的质量。从而保证阴极板的质量。

【技术实现步骤摘要】
铜电解液循环槽


[0001]本技术涉及铜冶炼
，具体涉及一种铜电解液循环槽。

技术介绍

[0002]电解精炼工艺装置一般采用不锈钢阴极电解技术，该技术电流密度为220
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300A/m2，其配套使用的电解液循环装置为“电解槽
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电解液循环槽
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电解循环泵
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换热器
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高位槽
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分液器
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电解槽”形式，该工艺技术是当前比较成熟的电解液循环工艺，具有电流效率高、产品质量好、高纯阴极铜合格率高等特点。电解铜时，铜离子在阴极上不断地析出，当溶液中铜离子浓度降低到一定程度后，砷、锑、铋也相继与铜一起在阴极上析出而形成黑铜，为保证电解铜质量，所以应该在硫酸铜电解液循环时，保持浓度稳定，及时补充硫酸铜电解液。
[0003]现有技术中的电解液槽的结构如图1所示，在补充液一侧的槽内设置有挡板2，电解液从电解槽1的上方进入电解槽1内，然后从挡板2 与槽底之间的通道进入电解槽主体内，另一侧上部位置处的槽体1上设置有溢流口3。同样的，名称为《硫酸铜电解液循环装置》(授权公告号：CN 206328469 U)的中国专利公开了以下技术方案：如图2所示，电解槽的底部安装布液管，布液管由一根主管和连接主管的两排支管构成，所述支管上均匀分布布液孔，主管连接电解槽的进液管，可根据电解进程，自动补充和调节硫酸铜电解液浓度，从而保证了电解铜产品质量稳定。上述的两种方案中，电解液的给液方式都是“下进上出”的方式，但是在电解精炼过程中，阳极中贵金属和某些金属等不溶解，成为阳极泥从上往下掉落在电解槽槽底，而在“下进上出”循环给液方式电解槽中，电解液的流动方向是自下而上的，这就与阳极泥的沉降方向相反，不利于阳极泥的快速沉降，导致部分阳极泥吸附在阴极板上，阴极铜机械夹杂的银量升高，根据经验，这种“下进上出”循环给液方式电解生产阴极铜含银达到了10～14ppm，影响阴极铜的质量。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是提供一种阴极铜质量好且结构简单的铜电解液循环槽。
[0005]为了实现上述目的，本技术采用的技术方案为：一种铜电解液循环槽，包括槽体，进液侧的槽体上设置有补液口，出液侧的槽体上部位置处设置有溢流口，临近溢流口的槽腔内设置有挡板，挡板将槽体分隔电解主槽和溢流槽，挡板的下端位置处设置有过液口，电解液自补液口进入电解主槽内，再经过液口进入溢流槽内。
[0006]与现有技术相比，电解液循环方式由“下进上出”改变成“上进下出”，这与阳极泥的掉落方向一致，有助于阳极泥掉落至槽底，从而保证阴极板的质量。
附图说明
[0007]图1、图2为现有技术中铜电解液循环槽的结构示意图；
[0008]图3为本技术中铜电解液循环槽的结构示意图。
具体实施方式
[0009]如图3所示，一种铜电解液循环槽，包括槽体10，进液侧的槽体 10上设置有补液口11，出液侧的槽体10上部位置处设置有溢流口12，临近溢流口12的槽腔内设置有挡板13，挡板13将槽体10分隔电解主槽A和溢流槽B，挡板13的下端位置处设置有过液口14，电解液自补液口11进入电解主槽A内，再经过液口14进入溢流槽B内。上述方案中，用挡板13将溢流口12隔出来，电解主槽A内的电解液只能从挡板 13下端位置处的过液口14通过，因此电解液在电解主槽A电解主槽A 内的流动方向如图3中的箭头所示，整体上是向下流动的，这与阳极泥的掉落方向(自上向下)一致，有助于阳极泥掉落至槽底，从而保证阴极板的质量，经试验得出采用该循环方式阴极板上析出的阴极铜含银由 10～14ppm降至6～8ppm，有效提高了阴极铜的纯度。
[0010]具体的做法是：挡板13板面位于铅垂方向布置且与进/出液侧的槽体10槽壁平行，挡板13的上端与槽体10上槽口固定连接、下端与槽底之间留有余隙，该余隙构成过液口14。直接将挡板13与槽体10间距式布置，不用另外开设过液口14作为过液通路，结构简单。
[0011]挡板13整体呈上窄下宽的梯形，尺寸选择：上边500mm，下边 800mm，高度1000mm。
[0012]由于电解液的特性，这里挡板13由玻璃钢材料制成，玻璃钢具有耐高温、防腐蚀、防电化学腐蚀，非常适用于此类场景。
[0013]优选的，所述的补液口11设置在进液侧的槽体10上部位置处。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种铜电解液循环槽，包括槽体(10)，进液侧的槽体(10)上设置有补液口(11)，出液侧的槽体(10)上部位置处设置有溢流口(12)，其特征在于：临近溢流口(12)的槽腔内设置有挡板(13)，挡板(13)将槽体(10)分隔电解主槽(A)和溢流槽(B)，挡板(13)的下端位置处设置有过液口(14)，电解液自补液口(11)进入电解主槽(A)内，再经过液口(14)进入溢流槽(B)内。2.根据权利要求1所述的铜电解液循环槽，其特征在于：挡板(13)板...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐文忠，梁玮，王俊杰，
申请(专利权)人：铜陵有色金属集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：