基板处理装置制造方法及图纸

一种将长条的片状基板于长条方向上搬送并对片状基板实施既定的处理的基板处理装置，且设置有：处理机构，其对片状基板的长条方向的每一部分实施既定的处理；搬送机构，其一面对通过处理机构的片状基板赋予既定的张力，一面将片状基板按照既定速度于长条方向上搬送；卡留机构，其配置于片状基板的搬送路径中的既定位置，且能够将片状基板卡留于既定位置；以及控制装置，其于暂时停止片状基板的搬送的情形时，以使片状基板的搬送速度降低的方式控制搬送机构，并且以于搬送速度成为既定值以下的时点将片状基板卡留于既定位置的方式控制卡留机构。留机构。留机构。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置
[0001]本申请是申请日为2017年8月7日，申请号为201780048591.1，专利技术名称为“基板处理装置”的专利申请的分案申请。


[0002]本专利技术关于一种一面将软性的长条的片状基板于长条方向上搬送，一面对片状基板实施既定的处理的基板处理装置及基板处理方法。

技术介绍

[0003]于日本专利特开2009
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146746号公报中，揭示有如下的卷对卷方式的制造系统，即，为了于带状的可挠性基材(可挠性的长条的塑胶膜)上形成电子装置(有机EL显示面板)，将卷成卷筒状的可挠性基材拉出并沿长条方向搬送，并且利用沿长条方向排列的执行多个形成步骤的各者之处理装置对可挠性基材依次进行处理，然后卷取成卷筒状。进一步，于日本专利特开2009
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146746号公报中，揭示设置有用于各形成步骤(处理装置)之间的可挠性基材的速度调整的累积器，而连续生产有机EL显示面板。于此种卷对卷方式的生产线的情形时，为了将呈带状相连的长条的1片可挠性基材(软性的长条的片状基板)于长条方向上连续搬送，构成生产线的多个处理装置的各者理想为跨及连续搬送的可挠性基材的全长(卷筒长度)而持续正常地运转。
[0004]然而，根据处理装置，亦存在为了该装置的性能维持、或制造的电子装置的品质维持等，宜中断片状基板的处理动作，并进行处理装置的调整作业(消耗品的补充动作或更新动作、清洁动作、校准动作等)的情形。又，于暂时性地中断处理的处理装置为图案化装置(印刷机、喷墨印表机、曝光装置、转印装置、压印装置等)的情形时，若为了调整作业而停止片状基板的搬送并将片状基板自搬送辊等卸除或松开，则存在于处理重新开始后形成于片状基板上的图案区域的位置相对于调整作业前已经形成的图案区域的位置较大地偏移的情况。

技术实现思路

[0005]本专利技术的第1态样为一种基板处理装置，将长条的片状基板于长条方向上搬送，并对上述片状基板实施既定的处理者，其具备：处理机构，对上述片状基板的长条方向的每一部分实施上述既定的处理；搬送机构，一面对通过上述处理机构的上述片状基板赋予既定的张力，一面将上述片状基板按照既定速度于上述长条方向上搬送；卡留机构，配置于上述片状基板的搬送路径中的既定位置，且能够将上述片状基板卡留于上述既定位置；以及控制装置，于使上述片状基板的搬送暂时停止的情形时，以使上述片状基板的搬送速度降低的方式控制上述搬送机构，并且以于上述搬送速度为既定值以下的时点将上述片状基板卡留于上述既定位置的方式控制上述卡留机构。
[0006]本专利技术的第2态样为一种基板处理装置，其将长条的片状基板于长条方向上搬送，并对上述片状基板实施既定的处理者，其具备：处理机构，其对上述片状基板的长条方向的
每一部分实施上述既定的处理；搬送机构，其以上述片状基板按照被控制的速度通过上述处理机构的方式，一面对上述片状基板的搬送量进行计测，一面将上述片状基板于上述长条方向上搬送；张力赋予机构，其对通过上述搬送机构搬送的上述片状基板赋予既定的张力；既定位置存储部，其基于上述搬送机构中所计测的上述搬送量而存储上述处理机构的上述既定的处理被暂时性地中断的上述片状基板上的既定位置、或上述既定的处理重新开始的既定位置；以及控制装置，其以如下方式控制上述搬送机构，即，于暂时性地中断上述既定的处理的情形时，将上述既定位置存储至上述既定位置存储部之后，利用抑制上述搬送机构中的上述片状基板的滑动的产生的特性使上述片状基板的搬送速度降低。
[0007]本专利技术的第3态样为一种基板处理方法，其一面将长条的片状基板通过搬送机构于长条方向上搬送，一面通过处理机构对上述片状基板的长条方向的每一部分实施既定的处理者，其包括：搬送阶段，其于通过上述处理机构实施上述既定的处理的期间，通过上述搬送机构一面对上述片状基板赋予既定的张力，一面将上述片状基板按照既定速度于上述长条方向上搬送；卡留阶段，其以于使上述搬送机构的搬送动作暂时性地停止时，将上述片状基板上的长条方向的指定部分对准于配置在上述片状基板的搬送路径中的既定位置的卡留机构的方式定位，并利用上述卡留机构卡留上述片状基板的上述指定部分；以及张力缓和阶段，其于上述片状基板的搬送方向上，于上述既定位置的上游侧及下游侧的至少一者，缓和赋予至上述片状基板的上述既定的张力。
[0008]本专利技术的第4态样为一种基板处理装置，其系将长条的片状基板于长条方向上搬送并对上述片状基板实施既定的处理者，其具备：处理机构，其对上述片状基板的长条方向的每一部分实施上述既定的处理；搬送机构，其以使上述片状基板按照既定的速度通过上述处理机构的方式，将上述片状基板于上述长条方向上搬送；储存装置，其设置于上述片状基板的搬送路径中的上述处理机构的上游侧及下游侧中的至少一者，且能够于对上述片状基板赋予既定的张力的状态下跨及既定的长度地储存上述片状基板；以及控制部，其以如下方式控制上述储存装置，即，于为了中断上述处理机构的上述既定的处理，而使由上述搬送机构进行的上述片状基板的搬送停止的情形时，缓和对储存于上述储存装置的上述片状基板赋予的上述既定的张力。
[0009]本专利技术的第5态样为一种基板处理装置，其将长条的片状基板于长条方向上搬送并对上述片状基板实施既定的处理者，其具备：处理机构，其对上述片状基板实施上述既定的处理；搬送机构，其以上述片状基板于被赋予既定的张力的状态下按照既定的搬送速度通过上述处理机构的方式，将上述片状基板于上述长条方向上搬送；以及控制装置，其管理上述处理机构及上述搬送机构的动作；且上述控制装置具备：宽限判定部，其判定直至使由上述搬送机构进行的上述片状基板的搬送动作停止为止的时间性宽限、或直至使上述搬送动作停止为止能够搬送的上述片状基板的长度的宽限；以及张力指示部，其基于上述宽限判定部的判定结果而指示于通过上述搬送机构使上述片状基板的上述搬送速度逐渐降低的期间内对上述片状基板赋予的上述张力。
附图说明
[0010]图1表示第1实施形态的基板处理装置的整体构成图。
[0011]图2表示图1的基板处理装置的装置的详细构成图。
[0012]图3表示设置于图2的曝光装置的片状基板的支持装置(转筒)与描绘单元的配置关系图。
[0013]图4表示对支持于图3的支持装置(转筒)的片状基板上的聚焦光的描绘线及形成于片状基板上的对准标记进行检测的对准系统的显微镜物镜的各配置图。
[0014]图5表示对图2的曝光装置进行控制的装置的构成的方块图。
[0015]图6表示用于图2的曝光装置中的片状基板的搬送的暂时停止的控制程式的流程图图。
[0016]图7对形成于片状基板上的图案形成区域、标记、描绘线的配置关系进行说明图。
[0017]图8表示作为图6中的步骤120内的次常式而并入、且用以推定片状基板的搬送停止的条件或状态的程式的流程图图。
[0018]图9示意性地表示对片状基板上的曝光区域通过描绘线进行图案描绘的中途的状态图。
[0019]图10说明于图7所示的片状基板的情形本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，其将长条的片状基板于长条方向上搬送并对上述片状基板实施既定的处理者，其特征在于，具备：处理机构，对上述片状基板实施上述既定的处理；搬送机构，以上述片状基板于被赋予既定的张力的状态下按照既定的搬送速度通过上述处理机构的方式，将上述片状基板于上述长条方向上搬送；以及控制装置，管理上述处理机构及上述搬送机构的动作；上述控制装置具备：宽限判定部，判定直至使由上述搬送机构进行的上述片状基板的搬送动作停止为止的时间性宽限、或直至使上述搬送动作停止为止能够搬送的上述片状基板的长度的宽限；以及张力指示部，基于上述宽限判...

【专利技术属性】
技术研发人员：鬼头义昭，加藤正纪，奈良圭，堀正和，木内徹，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：